真空镀膜基础知识
塑料真空镀膜的相关概述介绍

塑料真空镀膜的相关概述介绍一、工艺流程塑料真空镀膜的常用工艺流程包括:基材表面处理、真空蒸发、离子镀膜、清洗与包装。
基材表面处理是首要步骤,其目的是清除塑料表面的污染物以提高镀膜质量。
真空蒸发是将要镀的材料加热至昇华状态,蒸发后附着在塑料表面形成镀层。
离子镀膜是在真空环境中通过离子束轰击镀层,使其更加致密、附着力更强。
最后进行清洗与包装,确保产品的质量和外观。
二、技术原理1.蒸发:将要镀的材料加热至昇华状态,使其转化为蒸汽形式,然后通过真空环境将蒸汽输送到塑料表面,形成附着在塑料表面的镀层。
2.离子镀膜:离子镀膜是在真空环境中,通过引入离子束轰击镀层,使其重排结构,提高附着力和密着度。
离子束轰击还能改善镀层中的应力和控制其颗粒大小。
3.基材表面处理:基材表面处理是清除表面的污染物、氧化物、油脂等,以便提高镀层的附着力。
常用的表面处理方法包括久置灰、化学清洗、离子轰击等。
三、应用领域1.电子产品:塑料真空镀膜能够使电子产品的外观更加美观,并提高耐磨性和耐化学性,例如镀膜后的手机外壳、鼠标等。
2.汽车行业:塑料真空镀膜能够提高汽车零部件的防腐、阻隔性和耐磨性,例如车内装饰品、外观件等。
同时还能提升汽车外观的质感。
3.包装行业:塑料真空镀膜可以提高包装材料的阻氧、阻湿、阻光性能,适用于食品、医药等行业的包装材料,延长产品保质期。
4.家用电器:塑料真空镀膜技术可以为家用电器增添高端质感,提高产品外观的吸引力和市场竞争力。
5.其他领域:塑料真空镀膜技术还可以应用于玩具、眼镜、手表、珠宝等各个领域,为其增加附加值和市场竞争力。
总结:塑料真空镀膜技术是一种常用的塑料表面处理技术,通过工艺流程包括基材表面处理、真空蒸发、离子镀膜、清洗与包装等步骤来实现。
该技术的原理主要包括蒸发、离子镀膜和基材表面处理。
塑料真空镀膜广泛应用于电子产品、汽车行业、包装行业、家用电器等各个领域,提高产品的外观和性能,增加市场竞争力。
真空电镀表面处理介绍

真空电镀表面处理介绍第一节真空电镀表面处理基础知识一、表面处理概述表面处理技术就是通过各种工艺手段,赋予表面不同于基体材料的组织结构、化学组成,因而具有不同于基体材料的特殊性能。
诸如高硬度、高疲劳强度、高耐磨耐蚀性、抗高温氧化性等。
二、表面处理的作用1、腐蚀保护性2、抗磨性3、电性能4、耐热性5、光学特性6、电磁特性7、密封性8、装饰性9、耐疲劳性、保油性、焊接性等。
三、表面处理的分类1、按工艺特点分(1)真空电镀:包括合金电镀、复合电镀、电刷镀、非晶态电镀、非金属电镀等。
(2)涂装(3)堆焊(4)热喷涂:火焰丝材喷涂、火焰粉末喷涂、电弧喷涂、等离子喷涂及爆炸喷涂等。
(5)热渗镀(6)化学转化膜:包括阳极氧化、化学氧化、磷酸盐膜、铬酸盐膜和草酸盐膜。
(7)金属着色:包括电化学着色、化学着色和染料着色。
(8)气相沉积:分化学气相沉积和物理气相沉积。
(9)三束改性:包括电子束技术、离子束技术和激光束技术。
2、按学科特点分(1)表面合金化技术:包括喷焊、堆焊、离子注入、激光熔敷、热渗镀等。
(2)表面覆层与覆膜技术:包括热喷涂、电镀、化学转化处理、化学镀、气相沉积、涂装、堆焊、金属着色、热浸镀等。
(3)表面组织转化技术:包括激光、电子束热处理技术,以及喷丸、滚压等表面加工硬化技术。
第二节热喷涂一、概述热喷涂是利用专用设备把固体材料加热到熔化或半熔化状态,并加速喷射到基体表面上,从而形成一种特制薄层以提高基体的表面性能。
1、热源:火焰、电弧、电热热源、爆炸热源和激光热源等。
2、热喷涂的材料:金属、合金、陶瓷、塑料、尼龙等。
3、基体:金属、陶瓷、玻璃、石膏、木材、布、纸等固体材料。
4、工艺过程:加热熔化、熔滴雾化、粒子飞行、撞击基体、冷却凝固形成涂层5、热喷涂的优点(1)基体温度低,不变形、不弱化。
(2)喷涂尺寸不受限制。
(3)喷涂厚度可以控制。
(4)效率高。
(与电镀相比较)(5)可赋予普通材料以特殊的表面性能。
真空镀膜(ncvm)工艺培训教材PPT课件

颜色不纯
由于反应不完全或杂质污染,膜层可能呈 现出不纯或斑驳的颜色。
分析方法
X射线衍射(XRD)
能谱分析(EDS)
分析膜层的晶体结构和相组成。
附着力测试
对膜层进行元素分析,了解各元 素的分布和比例。
通过划痕、拉拔等试验测定膜层 与基材之间的附着力。
显微观察
通过金相显微镜观察膜层的微观 结构,了解其均匀性、孔隙和缺 陷。
05
真空镀膜(NCVM)问题与 解决方案
常见问题
表面粗糙度大
镀膜后的表面粗糙,影响外观和使用性能 。
膜层不均匀
镀膜过程中,由于气体流动、温度分布不 均或反应物供应问题,可能导致膜层在表 面分布不均。
附着力差
镀膜层与基材之间可能存在弱附着力,导 致镀膜容易剥落。
孔隙率过高
膜层中存在过多的孔隙,影响其防护和装 饰效果。
04
真空镀膜(NCVM)技术参 数与优化
工艺参数
真空度
真空镀膜过程中,需要控制真空室的 真空度,以确保膜层的均匀性和附着 力。
温度
镀膜过程中,基材的温度对膜层的附 着力和性能有影响,需根据不同材料 和镀膜要求进行温度控制。
镀膜时间
镀膜时间的长短直接影响膜层的厚度 和均匀性,需根据工艺要求进行精确 控制。
防护眼镜
保护操作人员的眼睛免受镀膜过程中产生的 有害物质和紫外线的伤害。
夹具
用于固定基材,确保其在镀膜过程中位置稳 定。
手套
保护操作人员的手部免受镀膜过程中产生的 有害物质和高温的伤害。
03
真空镀膜(NCVM)工艺流 程
前处理
表面清洗
使用有机溶剂和超声波清洗技术去除 工件表面的污垢、油脂和杂质,以确 保镀膜层的附着力。
镀膜真空基础知识培训

1.2 真空的单位
對外秘
■ 真空的单位 -. 真空的单位跟压力单位是相同的。 ☞ 如果能表示压力单位的话,就也可以表示真空度
■ 标准大气压 ☞ 认识标准大气压的各种单位的是非常重要的
区分 Torr m㍴ micron psi atm
Torr 1 0.751 0.001 51.72 760
m㍴ 1.33 1 0.0013 68.96 1013
国际单位上使用 Bar 也叫帕斯卡(㎩) 真空技术的现况 现在使用的真空泵能达到的最高真空是 10 torr,残留气体的分子数是 1㎤ 里有3000个 左右。为了产生应用真空需要人为控制生产出真空来。真空技术主要有:发生技术、加工 及部件技术、评价及控制技术,这些要素合起来就成立了真空的应用技术
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精英荟萃,共创美好明天;创新发展,走特色阳光道
尖端科学
加速器、表面分析装置、质量分析、宇宙科学、次时代材料
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真空泵
對外秘
2.1
低真空泵
2.2
高真空泵
2.3
各部件功能
2.4
安装及事后管理
2.5
泵的维护
2.6
故障措施
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2.1 低真空泵
對外秘
1-1) 旋转叶片泵
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2.2 高真空泵
對外秘
TMP分子泵的内部结构
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2.2 高真空泵
對外秘
TMP的种类
l 按物理结构分类 l 按制造结构分类
培训系列之真空镀膜技术基础

真空镀膜技术的材料
金属材料:如金、银、铜等,具有良好的导电性和反射性
非金属材料:如碳、氮、氧等,可以用于制造各种薄膜
陶瓷材料:如氧化铝、氧化硅等,具有较高的硬度和耐腐蚀性
玻璃材料:如硼硅酸盐玻璃、石英玻璃等,具有较好的透过性和化学 稳定性
高分子材料:如聚乙烯、聚四氟乙烯等,具有较好的柔韧性和耐候性
真空镀膜技术的基本原理是利用 物理或化学方法,将材料从蒸发 源或溅射源中蒸发或溅射出来, 然后在真空中沉积到基底表面。
空镀膜技术的应用领域
光学应用:提高光学元件的 透过率和反射率
电子应用:提高电子元件的 导电性和绝缘性
装饰应用:为金属表面赋予 美丽的外观和耐腐蚀性
机械应用:提高机械零件的 硬度和耐磨性
薄膜质量高:真空镀膜技术可以获得高质量的薄膜,具有高纯度、高密度和良好的 均匀性。
适用范围广:真空镀膜技术可以应用于各种材料表面,如金属、陶瓷、玻璃等,并 且可以制备多种功能的薄膜,如金属膜、介质膜、半导体膜等。
操作简便:真空镀膜技术操作简单,易于控制,可以连续稳定地生产高质量的薄膜。
环保性好:真空镀膜技术是一种环保型的生产技术,不会产生有害物质,对环境和 人体健康没有负面影响。
真空技术:真空镀膜技 术的基本原理是利用真 空技术,在真空环境下 进行薄膜的沉积。
薄膜沉积:在真空环境 下,通过蒸发、溅射、 化学气相沉积等方法, 将材料沉积在基底表面 形成薄膜。
物理过程:薄膜的 沉积过程涉及物理 和化学过程,如分 子运动、表面吸附、 化学反应等。
薄膜特性:真空镀膜技 术可以制备出具有优异 性能的薄膜,如高硬度、 高耐磨性、高耐腐蚀性 等。
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真空镀膜技术基 础
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真空镀膜技术基础

1.玻璃衰减器 2.透镜 3.光圈 4.光电池 5.分光器 6.透镜 7.基片 8.探头 9.靶 10.真空室 11.激光器
图2-10 激光加热式蒸发源
2.3 真空蒸发镀膜机
2.3.1 间歇式真空蒸发镀膜机
1) 立式真空蒸发镀膜机 2) 卧式真空蒸发镀膜机
4)由于在低电压大电流状态下工作,因此较 安全且易于自动控制;
5)阴极寿命长、结构简单。
1.冷却水套 2.空心阴极 3.辅助阳极 4.聚束线圈 5.枪头 6.膜材 7.坩埚 8.聚焦磁场 9.基片
图2-9 空心阴极等离子体电阻式加热式蒸发源
2.2.5 激光加热式蒸发源
---工厂不用,加工精密特殊功能的材料用
真空溅射镀膜
在真空条件下,利用低压等离子体气体 放电中的溅射现象制备薄膜,即真空溅射镀 膜。
图3-1 离子轰击固体表面时发生的物理过程
与溅射率有关的因素
溅射率与靶材有关 溅射率与入射正离子的能量有关 溅射率与入射离子的种类有关 溅射率与离子入射角有关 溅射率与靶材温度有关
溅射镀膜特点
(2)被蒸发材料置于水冷铜坩锅内,可避免坩 埚材料污染,可制备高纯薄膜;
(3)电子束蒸发粒子动能大,有利于获得致密、 结合力好的膜层。
电子束加热蒸发的缺点:
(1)结构较复杂,设备价格较昂贵; (2)若蒸发源附近的蒸气密度高,电子束流和
蒸气粒子之间会发生相互作用,电子的能 量将散失和轨道偏移;同时引起蒸气和残 余气体的激发和电离,会影响膜层质量。
图3-2 直流二极溅射装置原理图
3.2.2 直流三极或四极溅射
1)直流三极溅射
三极溅射中的三极是指阴极、阳极和靶极。 直流三极溅射是在二极溅射装置中引入热灯丝 阴极和与之相对的阳极,灯丝阴极连接机壳接 地(规定电位为零),阳极为50 ~100V。
真空镀膜知识培训

五、真空镀膜工艺
根据真空镀膜气相金属产生和沉积
方式,塑料真空镀膜的方法主要分为热 蒸发镀膜法和磁控溅射镀膜法。
蒸发镀膜和磁控溅射镀膜工艺的示意图:
基材
靶 电源
窗
蒸发源
等离子体
基材
泵 气体 蒸发镀 泵 溅射镀
真空蒸发镀膜法
真空蒸发镀膜法就是在1.3×10-2~ 1.3×10-3pa (10-4~10-5Torr)的真空中以电阻加热镀膜材料,使 它在极短时间内蒸发,蒸发了的镀膜材料分子沉 积在基材表面上形成镀膜层。真空镀膜室是使镀膜 材料蒸发的蒸发源,还有支承基材的工作架或卷绕 装置都是真空蒸发镀膜设备的主要部分。镀膜室的 真空度、镀膜材料的蒸发速率、蒸发距离和蒸发源 的间距,以及基材表面状态和温度等都是影响镀膜 层质量的因素。
八、真空镀膜机操作工艺流程:
首先开水、电、气→总电源→开维持 泵→开扩散泵加热→开粗抽泵 →开预抽阀 →关预抽阀→开粗抽阀→开罗茨泵→如有 离子轰击,开轰击30秒,关轰击→ 开真空 计→当真空到6.0—7.0pa时,关粗抽阀→ 开前置阀→开精抽阀,当真空达到7×10 3pa,开转架→开始镀膜操作→镀膜完毕后, 关闭真空计、离子源→关精抽阀,前置阀 →关罗茨泵→开充气阀,取件→上料,反 复开始操作。
镍-铁,铁-钴,金-银-金等。金属化合物型的镀 膜材料有:SiO2 、 Ti3O5 、 SnO2 、MgF2 、 ZnS等。 在众多镀膜材料中,以铝材的应用最多,这是因 为铝在真空条件下,蒸发湿度较低,易操作。铝镀膜 层对塑料的附着力强,富有金属光泽;铝镀膜层还能 够遮蔽紫外线,对气体阻隔性也很好。另外,高纯度 的铝价格比较便宜,这是其他镀膜材料所不及的。铝 的反射率高,厚度40nm铝镀膜层的反射率达90%。
真空镀膜方面的基础知识

真空镀膜技术深圳微普真空系统集成有限公司真空“真空”这一术语译自拉丁文Vacuo,其意义是虚无。
其实真空应理解为气体较稀薄的空间。
在指定的空间内,低于一个大气压力的气体状态统称为真空。
真空状态下气体稀薄程度称为真压力的气体状态统称为真空真空状态下气体稀薄程度称为真空度,通常用压力值表示。
真空技术是基本实验技术之自从真空技术是基本实验技术之一。
自从1643年托里拆利做了著名的有关大气压力实验,发现了真空现象以后,真空技术迅速发展。
现在,真空技术已经成为一门独立的前言学科。
它的基本内容包括:真空物理、真空的获得、真空的测量和检漏、真空系统的设计和计算等。
随着表面科学、空间科学高能粒子加速器、微电子学、薄膜技术、冶金工业以及材料学等尖端科技的发展,真空技术在近代尖端科学技术中的地位越来越重要。
真度单位真空量度单位1标准大气压=760mmHg=760(Torr) 1标准大气压=1.013x105Pa1Torr1333Pa1Torr=133.3Pa真空区域的划分目前尚无统一规定,常见的划分为:35−−粗真空低真空)10760(1010Torr pa )1010(1010313Torr pa −−−−高真空)1010(10108361Torr pa −−−−−−超高真空极高真空)1010(1010128106Torr pa −−−−−−)10(101210Torr pa −−<<真空获得—真空泵1654年,德国物理学家葛利克发明了抽气泵,做了著名的马德堡半球试验。
的马德堡半球试验原理:当泵工作后,形成压差,p1>p2,实现了抽气。
真空泵的分类气体传输泵:是一种能将气体不断地吸入并排出泵外以达到抽气目的的真空泵,例如旋片机械泵、油扩散泵、涡轮分子泵。
气体捕集泵:是一种使气体分子短期或永久吸附、凝结在泵内表面的真空泵,例如分子筛结在泵内表面的真空泵例如分子筛吸附泵、鈦升华泵、溅射离子泵、低温泵和吸气剂泵。
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气镇的运用
• 泵所抽取的气体中通常会包含一定量的可凝性气体,这种混合气体在泵内压 缩排气的过程中,如果可凝性气体的分压超过了泵温下的饱和蒸汽压,那么 他们就会凝结,和泵油混合,随着凝结物的累加,最终会导致泵油的性能变 差,乃至乳化。 我们可以采用气镇来防止蒸汽凝结,从而避免油污染。具体做法就是将室温 干燥空气或氮气从气镇孔充入泵体的压缩腔,从而起到一个稀释的作用,使 压缩后的蒸汽分压能保持在泵温状态下的饱和蒸气压之下,因此蒸汽可以不 被压缩和其他气体一起排出泵外。 气镇虽然能起到排出蒸汽的目的但同时也降低了泵的抽速及极限真空,因此 通常先打开气镇阀排出蒸汽,等过一段时间就可关闭气镇阀,在抽一会就可 达到泵的极限真空。 当泵油被少量凝结液污染后可以通过气镇来自净化泵油:关闭入口阀门,打 开气镇阀,运行一段时间,泵油即可恢复。
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真空获得
• 本真空系统用到的真空泵有:扩散泵(Diffusion pump),小油封机械泵 (Holding pump),大油封式旋片泵(Roughing pump),罗茨增压泵(Blower pump),干泵(Process pump) • 为了获得更好的真空效果及抽气速率通常采用真空泵组合机组来实现。 工业常用组合:(机械泵+扩散泵)、(机械泵+分子泵) • 本系统所用组合:小油封旋片泵+扩散泵 大油泵+增压泵+扩散泵 干泵:抽特气尾气 • 本真空系统用到罗茨泵的变速靠的是液力联轴器,液压联动技术主要用于 轮船驱动等方面,目的就是防过载,保护马达。 • 液压联动的优点:质量轻,传动无磨损,使用寿命长,易于保护电机等。
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真空知识
• • • • • • 真空:低于一个大气压的状态就是真空。 真空度:真空状态下气体的稀薄程度。 标准环境条件:温度20℃,相对湿度65%,大气压力101325Pa。 真空特点:气体分子平均自由程大; 单位面积上分子与固体表面碰撞几率变小;气体分子密度 低;剩余气体对沉积膜的掺杂减小。 要想获得高品质的薄膜就必须有一个比较理想的本底真空。 常用单位及换算:
真空及薄膜基础
麦田^乌鸦.
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一些基本概念
• • • • 我们生产的为非晶硅薄膜太阳能电池,了解PECVD设备及工艺需要对真空镀膜 真空镀膜有一个 真空镀膜 了解,并且对半导体物理及薄膜知识有一定的认识。 我们先对薄膜的概念做一个粗略的了解。 薄膜: 薄膜:在严格的学术意义上,认为只有聚集厚度小于某一特征厚度的材料才是真正的 薄膜,否则便是一般的薄材料。 特征厚度: 特征厚度:是利用物质的某些基本性质在物质聚集厚度很薄的情况下会发生异常变化 的现象而确定的,即当被选定为参考的某一物理性质或机械性质开始显示出不同于它 通常所具有的特点时的厚度,便是给物质的薄膜特征厚度。 可以认为薄膜是一种二维的材料。 沉积技术:气相沉积(将构成薄膜的物质气化后在沉积到衬底上) 液相沉积(在液体中沉积镀膜) 气相沉积:比较容易控制薄膜的组分 液相沉积:在接近于热平衡的条件下成膜,能获得较好的膜质。 气相沉积又分物理气相沉积(physical vapor deposition)和化学气相沉积 (chemical vapor deposition)
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非晶薄膜太阳能电池生产需要的镀膜方式: 非晶薄膜太阳能电池生产需要的镀膜方式: • 1 LPcvd镀TCO导电层 • 2 pecvd镀非晶硅薄膜 • 3 磁控溅射镀氧化锌减反层和铝背电极 或mocvd镀氧化锌膜层
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薄膜的主要性能
膜厚:越均匀越好,一般应控制在一个范围以内比如5%,这与玻璃基板尺寸 有关 膜表面形貌:通过扫描电子显微镜(SEM)投射电子显微镜(TEM)等分析 表明颗粒状态,可获得薄膜表面的致密情况,缺陷状态,退火处理对膜表 面的影响等信息。 膜机构特性:用X射线衍射分析膜的组成成分,可获得膜的纯度等信息。 膜应力:薄膜内部的应力越小越好,通过退火处理可最大程度的释放膜的内 部应力。 膜与衬底的接触特性:主要是指薄膜与衬底之间的附着力,当然附着力越强 越好,可避免薄膜出现缺失,开路等 膜的致密性:主要指的是膜层的硬度和抗磨性。避免外界划伤引起的开路现 象 膜的化学,热稳定性。 针对金属膜层:要求制备出的金属膜层的电阻率尽可能低,接近体电阻率
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旋片式机械泵工作示意图
• 一般用油机械泵粗抽真空,不能使系统真空 度太高,太高会造成严重的机械泵返油反流 ,只要达到高真空泵工作范围即可。 油位控制 吸入气体粉尘多,油污染问题,可在泵入口 加一除尘装置和一过滤装置 油乳化,吸入气体水蒸汽太多,可加一气镇 装置,或者在罗茨泵排气口加冷凝器(乳化 就是一种液体离散为很多微粒分散到另一种 液体中,成为一种乳液)。 吸入气体温度过高,比如高于50℃,应采用 气冷罗茨泵对气体降温 经常检查泵的各部位温度,及时调节冷却水 水量。
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常用密封方式
• • • • • O型密封圈(挤压密封),特种橡胶材质,一般用 于腔室与门的密封,真空阀门,真空计的衔接处 的密封等。 钢质波纹管(液压成型、焊接成型),用于真空 泵与真空管路等的衔接密封,因其可形变,配合 密封圈使用。 法兰密封,主要用于电极同轴线的连接等 金属密封(O密封、C密封,E密封等)靠的是金 属的自紧作用。 焊接
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液Hale Waihona Puke 联轴器简单介绍• • 液力联轴器是一种靠液体作为工作介质的非刚性联轴器。 液力联轴器安装与泵与电动机之间,其泵轮与涡轮组成一个可使液体循环流动的密 闭工作腔,泵轮安装在输入轴上,涡轮装在输出轴上。电动机带动输入轴旋转时, 液体被离心式泵轮甩出。这种高速液体进入涡轮后推动涡轮旋转,将从泵轮获得的 能量传递给输出轴。最后液体返回泵轮,形成周而复始的流动,即液力联轴器靠液 体来实现电动机与泵之间力矩的传递。液力联轴器输入轴与输出轴靠液体联系,工 作构件间不存在刚性连接。因此其过载保护性能和启动性能好,载荷过大而停转时 输入轴仍可转动,不致造成马达的损坏;当载荷减小时,输出轴转速增加到接近输 入轴的转速。 液力联轴器的传动效率等于输出轴转速与输入轴转速之比,一般正常的转速比在 0.95以上可获得比较高的效率。液力联轴器的特性因工作腔与泵轮、涡轮的形状不 同而有差异。 罗茨泵的最大压差由液力联轴器所传递的最大转矩来决定,而液力联轴器可传递的 最大转矩可由其中的液体量来调节。当泵在高压差下工作或与前级泵同事启动时, 在液力联轴器内部就产生了转速差及会发生滑动,即只传递一定的力矩,使泵减速 工作。随着抽气的进行,气体负荷减小,罗茨泵逐渐加速到额定转速,达到最高抽 气效率。
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罗茨泵工作原理
罗茨泵分3种:低真空罗茨泵;中真空罗茨泵(机械增压泵);高真空多级罗茨泵(干泵)。
罗茨泵压缩气体所需的功率与压差成正比,一旦气体压差过高,泵就可能出现过载现象, 造成电机绕组烧损. 本罗茨泵使用了液力联轴器,使泵可以无级调速,平稳起动,能够在高压差下工作,起 到保护马达的作用。
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薄膜制备方法
渗入法
沉积法
化合
扩散
离子注入
气相沉积
液相沉积
气相扩散
pvd
电镀
固态扩散
真空蒸镀
化学反应镀膜
溅射
离子镀
cvd
化学反应法
镀 膜 常 用 方 法 列 表
热分解法
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等离子体cvd
气相沉积成膜的一般过程:
1 原料及衬底的预处理(清洁等) 2 原料的气化 1) 以分子、原子、离子等形态向真空发射(pvd的气化方式) 蒸发、升华 溅射 电离 离化 2)以化合物形式气化(cvd的气化方式) 3 将粒子输运到衬底上 1)分子、原子、离子的飞行(pvd的输运方式) 2)扩散(cvd的输运方式) 4 粒子在衬底上析出 1)附着(真空蒸镀,cvd) 2)楔入(溅射、离子镀) 5 薄膜的形成 热运动 碰撞 结合
常温下大气压力与大气分子平均自由程的关系
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不同真空状态下真空工艺应用
• 粗真空(100000-1000Pa):气体状态与常压相比只是分子数量的减少,没有气体空间特 性的变化,分子间碰撞频繁,此时的吸附气体释放可以不予考虑,气体运动以粘滞流为主 。主要是利用压力差产生的力来实现真空力学应用(真空吸引或运输固体、液体、胶体等 ,真空吸盘起重,真空过滤)。 低真空(1000-0.1Pa):气体分子间,分子与器壁间碰撞不相上下,气体分子密度较小, 气体释放也可不考虑,气体运动以中间流为主。利用气体分子密度降低可实现无氧化加热 ,利用气压降低时气体的热传导和对流逐渐消失的原理可以实现真空隔热及绝缘,利用压 强降低液体沸点也降低的原理实现真空冷冻和真空干燥(黑色金属真空熔炼脱气,真空绝 缘和真空隔热,真空冷冻及干燥,高速空气动力学实验中的低压风洞)。 高真空(0.1-0.000001Pa):气体分子间相互碰撞极少,气体分子与器壁间碰撞频繁,气 体运动以分子流为主,此时的气体释放是影响真空度及抽气时间的一个主要原因。利用气 体分子密度低,任何物质与气体残余分子发生化学作用微弱的特点进行真空冶金,真空镀 膜(超纯金属、半导体材料的真空提纯及精制,真空镀膜,离子注入、干法刻蚀等表面改 性,真空器件的生产:光电管、各种粒子加速器等)。 超高真空(>0.0000001Pa):气体分子与器壁的碰撞次数极少,气体空间只有固体本身的 原子,几部没有别的分子或原子的存在,此时压强的升高除了泄漏外主要就是器壁分子的 释放。应用:宇宙空间环境的模拟,大型同步质子加速器的运转。
注:绝对的密封是不存在的,任何材质的腔室材料本身都会有气 体分子渗入(一般腔室都制作的很厚),各密封处的渗漏等,腔 室内壁吸附分子的释放(腔室都要经过特殊的内壁处理,减少分 子吸附)等