纳米测量

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纳米颗粒测量仪粒径分析

纳米颗粒测量仪粒径分析

纳米颗粒测量仪粒径分析纳米颗粒测量仪是一种用于测量纳米颗粒粒径的仪器,它在纳米科技和材料研究领域具有广泛的应用。

通过对纳米颗粒的粒径进行分析,可以对其大小分布进行评估,从而了解颗粒特性及其对材料性能的影响。

本文将探讨纳米颗粒测量仪在粒径分析中的应用。

1. 纳米颗粒粒径的重要性纳米颗粒在材料科学、生物医药、环境科学等领域具有广泛的应用。

纳米颗粒的粒径大小对其性能和应用的影响非常显著。

例如,纳米颗粒的粒径会影响其光学、电学、磁学等特性,同时也会对纳米颗粒的表面活性、扩散性和生物相容性等性质产生影响。

因此,准确测量纳米颗粒的粒径、分布以及形态对于深入研究纳米颗粒的性质和应用具有重要意义。

2. 纳米颗粒测量仪的工作原理纳米颗粒测量仪一般基于动态光散射原理或静态光散射原理,并结合计算机图像分析技术。

其中,动态光散射原理是利用激光光束照射到纳米颗粒上,通过测量纳米颗粒在光束中散射的光强来推导纳米颗粒的粒径大小。

静态光散射原理则通过观察纳米颗粒在液体中分散的情况,通过图像处理技术分析颗粒的大小和形状来确定其粒径分布。

3. 纳米颗粒测量仪的操作流程3.1 样品处理在进行纳米颗粒粒径分析之前,需要对样品进行预处理。

通常情况下,在测量前需要将纳米颗粒样品进行均匀分散,以避免颗粒的聚集和沉积,从而影响测量结果的准确性。

3.2 仪器准备接下来,将纳米颗粒样品注入到纳米颗粒测量仪的样品池中。

根据测量需求,可选择合适的测量模式和参数设置,包括光源功率、探测器角度、测量时间等。

根据具体实验条件选择程序中的相应选项,并确保仪器处于稳定工作状态之后,方可开始测量。

3.3 测量操作启动仪器软件,并通过计算机控制纳米颗粒测量仪进行测量。

在测量过程中,仪器会通过激光束照射到样品中的颗粒上,并采集散射光的强度信号。

然后,根据散射光的强度分布,通过相关的分析算法计算出纳米颗粒的粒径大小及粒径分布。

3.4 数据分析与解读在测量结束后,仪器会生成测量数据,包括颗粒的平均粒径、粒径分布曲线、粒径分布图等。

物理实验技术中的纳米科学测量方法与技巧

物理实验技术中的纳米科学测量方法与技巧

物理实验技术中的纳米科学测量方法与技巧随着纳米科学的快速发展,人们对于纳米尺度下物质特性的研究需求不断增加。

纳米材料在各个领域都有着广泛的应用,例如磁性材料、光电材料以及生物医学领域等。

然而,由于纳米材料的特殊性质和尺寸效应,传统的物理实验技术已经无法满足对纳米尺度下精确测量的要求。

因此,研究人员迫切需要发展出一些适用于纳米科学的测量方法与技巧。

首先,对于纳米尺度的结构表征,扫描探针显微镜技术是一种常用的工具。

其中,原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)是两种主流的纳米尺度测量方法。

AFM通过探测器探测样品表面的微小力变化来测量样品的表面形貌,具有高分辨率、高灵敏度和无需特殊处理样品的优点。

而SEM则通过电子束扫描样品表面并测量散射电子的能量和角度分布来获取表面形貌信息。

这两种技术的结合可以提供更为全面的纳米尺度下材料表面形貌的测量结果。

其次,对于纳米颗粒的尺寸测量,动态光散射技术是一种常用的方法。

该技术基于光在颗粒表面散射的原理,通过测量散射光的强度和角度分布来获得颗粒的尺寸信息。

此外,透射电子显微镜(TEM)也是一种常用的纳米尺度下颗粒尺寸测量方法。

TEM利用电子束的穿透性质,通过测量经过样品的电子的衍射或吸收情况,可以得到纳米颗粒的形状和尺寸信息。

这些测量方法对于研究纳米颗粒的生长机制、分布规律以及应用性能具有重要意义。

此外,对于纳米材料的物理性质测量,磁性测量和电学测量技术应用广泛。

例如,超导量子干涉仪(SQUID)是一种常用的磁性测量技术,可以测量纳米尺度下材料的磁性性质,如磁化曲线和磁滞回线。

电学测量技术则包括电阻测量、电容测量和电导测量等。

这些技术可以用来研究纳米材料的电子输运性质、能带结构以及载流子的动力学行为。

除了上述主要的纳米科学测量方法与技巧,还有一些其他辅助手段可以提高测量的精确性和可靠性。

例如,温度控制和湿度控制能够减小环境因素对测量结果的影响。

同时,细致的样品制备和处理也是获得准确测量结果的关键。

纳米测量技术现在与未来

纳米测量技术现在与未来
2013年 第8期
ห้องสมุดไป่ตู้
一、纳米测量产生的时代背景
测量技术与工业生产技术相互促进、相互提 高。可以说纳米测量正是顺应微电子工业集成电路 制作、机械工业和国防工业超精密加工的需要而发 展起来的。以微电子工业为例,美国Inter公司已经 在实验室内采用超短紫外线激光光刻技术成功地实 现了分辨率为130nm线路的制造工艺。美国不久前 提出的超电子学研发计划,要求未来的电子器件要 比现有的电子器件的存储密度高( 5~100 )倍,速 度快( 10~100 )倍,功耗则要小于现在器件功耗 的 2% 。要实现这一目标,电子器件的尺寸必将进 入纳米技术的尺度范围,即要小于100nm。为此, 微电子器件过渡到纳米电子器件是21世纪的必然。 2003年Serbin等采用飞秒激光诱导无机/有机混合材 料的双光子聚合,获得了结构尺寸小于200nm,周 期为450nm的三维结构和光子晶体。同时,机械工 业的超精密加工能力也已达到纳米量级。为由美
三、可实现纳米测量的技术和仪器
纳米级测量技术在本文专指:纳米级精度的尺 寸及位移的测量,纳米级表面形貌的测量。 近十几年来,随着测量技术的飞速发展,至今 已经出现了多种可以实现纳米测量的技术和仪器。 现在纳米级测量技术主要有两个发展方向:光干涉 测量技术和扫描显微测量技术。
1. 光干涉测量技术
这种方法是利用光的干涉条纹的提高其测量 分辨率。由于纳米级测量彩波长很短的激光或 X 射 线,故可以有很高的测量分辨率。光干涉测量技术 既可用于长度和位移的精确测量,也可用于表面显 微形貌的测量。下面介绍利用此原理的测量方法。 (1)双频激光干涉测量仪:图1是双频激光干 涉测量系统的原理图。双频激光干涉测量系统受环 境干扰的影响比单频激光测量系统要小很多,使测 量精度大大提高,因而这种测量系统得以广泛的生 产应用。常用的双频激光干涉测量系统测长度时分 辨率达到 0.01 μ m ,采用空气参数补偿后测量精度 达0.1μm以上。

纳米材料粒度测试方法大全

纳米材料粒度测试方法大全

纳米材料粒度测试方法大全目前,纳米材料已成为材料研发以及产业化最基本的构成部分,其中纳米材料的粒度则是其最重要的表征参数之一。

本文根据不同的测试原理阐述了8种纳米材料粒度测试方法,并分析了不同粒度测试方法的优缺点及适用范围。

1.电子显微镜法电子显微镜法是对纳米材料尺寸、形貌、表面结构和微区化学成分研究最常用的方法,一般包括扫描电子显微镜法(SEM)和透射电子显微镜法(TEM)。

对于很小的颗粒粒径,特别是仅由几个原子组成的团簇,采用扫描隧道电镜进行测量。

计算电镜所测量的粒度主要采用交叉法、最大交叉长度平均值法、粒径分布图法等。

优点:该方法是一种颗粒度观测的绝对方法,因而具有可靠性和直观性。

缺点:测量结果缺乏整体统计性;滴样前必须做超声波分散;对一些不耐强电子束轰击的纳米颗粒样品较难得到准确的结果。

2.激光粒度分析法激光粒度分析法是基于Fraunhofer衍射和Mie氏散射理论,根据激光照射到颗粒后,颗粒能使激光产生衍射或散射的现象来测试粒度分布的。

因此相应的激光粒度分析仪分为激光衍射式和激光动态散射式两类。

一般衍射式粒度仪适于对粒度在5μm以上的样品分析,而动态激光散射仪则对粒度在5μm以下的纳米、亚微米颗粒样品分析较为准确。

所以纳米粒子的测量一般采用动态激光散射仪。

优点:样品用量少、自动化程度高、重复性好, 可在线分析等。

缺点:不能分析高浓度的粒度及粒度分布,分析过程中需要稀释,从而带来一定误差。

3.动态光散射法动态光散射也称光子相关光谱,是通过测量样品散射光强度的起伏变化得出样品的平均粒径及粒径分布。

液体中纳米粒子以布朗运动为主,其运动速度取决于粒径、温度和黏度系数等因素。

在恒定温度和黏度条件下, 通过光子相关谱法测定颗粒的扩散系数就可获得颗粒的粒度分布,其适用于工业化产品粒径的检测,测量粒径范围为1nm~5μm的悬浮液。

优点:速度快,可获得精确的粒径分布。

纳米材料表面电荷的测量方法

纳米材料表面电荷的测量方法

纳米材料表面电荷的测量方法纳米材料是一种尺寸在纳米级别(1-100纳米)的材料,具有特殊的物理、化学、光学和电子性质。

纳米材料的表面电荷是指材料表面带有的静电电荷,对纳米材料的表面性质和相互作用起着重要作用。

因此,准确测量纳米材料的表面电荷对于理解纳米材料的性质和应用具有重要意义。

本文将介绍几种常用的纳米材料表面电荷测量方法。

1.力学方法力学方法是通过测量作用在带电纳米颗粒上的力来间接测量纳米材料的表面电荷。

常见的力学方法包括:(1)纳米静电力测量法:通过在纳米颗粒表面张贴一小片电荷感应体(如传感器),然后测量悬浮在纳米颗粒附近的另一带电体(如螺旋电荷)受到的静电引力,从而计算纳米颗粒的表面电荷。

(2)纳米悬浮液离心测量法:将带电的纳米颗粒悬浮液在离心机中进行离心分离,通过测量颗粒在离心力作用下运动的速度或位置变化,从而计算纳米颗粒的表面电荷。

(3)纳米材料电动力学测量法:通过在纳米颗粒附近施加电场或磁场,并测量颗粒的运动行为和速度,从而计算纳米颗粒的表面电荷。

2.光学方法光学方法是通过测量纳米颗粒在光作用下的光谱特性来间接测量纳米材料的表面电荷。

常见的光学方法包括:(1)纳米颗粒表面等离子共振(SPR)测量法:利用纳米颗粒表面等离子体共振现象,通过测量纳米颗粒表面等离子体共振峰的位置和形状变化来判断表面电荷的变化。

(2)表面增强拉曼散射(SERS)测量法:利用纳米颗粒表面增强拉曼散射效应,通过测量纳米颗粒表面增强拉曼散射光谱的强度和频移来判断表面电荷的变化。

3.电化学方法电化学方法是通过测量纳米材料在电化学环境中的电流和电势来直接或间接测量纳米材料的表面电荷。

常见的电化学方法包括:(1)纳米材料电位测量法:将纳米颗粒放置在电极上,通过测量纳米颗粒与电极之间的电位差来判断表面电荷的变化。

(2)纳米材料电化学交流阻抗谱(EIS)测量法:利用交流电位波形和频率的变化,通过测量纳米颗粒与电极之间的电荷传输和阻抗来判断表面电荷的变化。

纳米材料粒度测试方法大全

纳米材料粒度测试方法大全

纳米材料粒度测试方法大全纳米材料粒度测试是纳米材料研究和应用中非常重要的一项工作,通过准确测量纳米材料的粒度可以了解其物理性质和化学性质,为纳米材料的合成、应用和性能优化提供数据支持。

下面将介绍几种常用的纳米材料粒度测试方法。

1.扫描电子显微镜(SEM):SEM是一种通过扫描纳米材料表面的高能电子束来观察和测量纳米材料粒度的方法。

该方法具有分辨率高、测量精度高、对纳米材料样品无需特殊处理等特点。

通过SEM观察到的纳米材料外观图像可以用于测量粒径、形貌和分布等参数。

2.透射电子显微镜(TEM):TEM是一种通过透射电子束观察纳米材料内部结构的方法,也可用于测量纳米材料的粒度。

TEM具有高分辨率,可以观察到纳米尺度的细节。

通过对TEM图像的分析,可以根据纳米材料的投影面积和长度等参数来计算纳米材料的粒径。

3.动态光散射(DLS):DLS是一种通过检测纳米材料颗粒在溶液中的布朗运动来测量纳米材料粒度的方法。

它利用激光束照射纳米颗粒溶液,测量散射光的强度和角度分布,从而得到纳米材料的尺寸分布。

DLS具有非接触式测量、快速、方便等特点,适用于纳米材料的溶液或悬浮液样品。

4.X射线衍射(XRD):XRD是一种通过测量材料晶体的衍射角度来确定晶体结构和晶粒尺寸的方法。

对于具有晶体结构的纳米材料,可以通过XRD图谱的峰宽来估算晶粒尺寸。

XRD具有无损测量、精度高等特点,适用于晶体结构明确的纳米材料。

5.傅里叶红外光谱(FTIR):FTIR是一种通过测量纳米材料在红外波段的吸收光谱来研究纳米材料结构和成分的方法。

纳米材料的粒度也可以通过红外吸收峰的强度和位置进行定性和定量分析。

FTIR具有所需样品量少、分辨率高等特点,适用于纳米材料的表面分析和组成分析。

6.水中悬浮液测定法:将纳米材料置于水中制备悬浮液,通过测量悬浮液的光学性质如透光率等,可以间接测得纳米材料的粒度。

该方法操作简单、快速,可用于大量样品的测量。

7.气相吸附法:纳米材料的比表面积可以通过气相吸附法来测量。

举例说明纳米微粒尺寸常用的方法

举例说明纳米微粒尺寸常用的方法

举例说明纳米微粒尺寸常用的方法纳米微粒尺寸的测量方法有很多种,下面将介绍常用的10种方法。

1. 透射电子显微镜(Transmission Electron Microscopy,TEM)TEM是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

它通过透射电子束来观察样品的微观结构,可以直接测量纳米级颗粒的尺寸。

2. 扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscopy,SEM)SEM是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

它通过扫描电子束来观察样品的表面形貌,可以间接推测纳米级颗粒的尺寸。

3. 动态光散射(Dynamic Light Scattering,DLS)DLS是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

它利用光散射的原理,通过测量散射光的强度和时间的变化,来推测颗粒的大小和分布。

4. X射线衍射(X-ray Diffraction,XRD)XRD是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

它利用材料对X射线的衍射来推测颗粒的晶格结构和尺寸。

5. 原子力显微镜(Atomic Force Microscopy,AFM)AFM是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

它通过探针与样品表面进行相互作用,测量力的变化来推测颗粒的尺寸。

6. 扫描隧道显微镜(Scanning Tunneling Microscopy,STM)STM是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

它利用电子的隧穿效应,通过探针与样品表面的距离变化来推测颗粒的尺寸。

7. 粒度分析仪粒度分析仪是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

它通过测量样品中颗粒的沉降速度、散射光强度等参数,来推测颗粒的尺寸。

8. 静态光散射(Static Light Scattering,SLS)SLS是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

它利用光散射的原理,通过测量散射光的强度和角度的变化,来推测颗粒的大小和分布。

9. 红外光谱(Infrared Spectroscopy,IR)红外光谱是一种常用的纳米微粒尺寸测量方法。

纳米材料的测量技术

纳米材料的测量技术

纳米材料的测量技术引言:纳米材料是一种具有特殊性质和应用潜力的材料,其尺寸在纳米尺度范围内。

纳米材料的测量技术是研究和应用纳米材料的基础,对于了解纳米材料的结构、性质和行为具有重要意义。

本文将介绍一些常用的纳米材料测量技术及其应用。

一、透射电子显微镜(TEM)透射电子显微镜是一种利用电子束通过样品的原理来观察纳米材料的结构和形貌的仪器。

通过TEM可以获得纳米材料的高分辨率图像,可以观察到纳米粒子的尺寸、形状和分布情况。

此外,TEM还可以进行能谱分析,得到纳米材料的元素成分信息。

二、扫描电子显微镜(SEM)扫描电子显微镜是一种利用电子束扫描样品表面并获得二维图像的仪器。

与TEM不同,SEM可以观察到纳米材料的表面形貌和粒子的分布情况。

通过SEM可以获得更大范围的图像,对于纳米材料的形貌和粒子分布的研究具有重要意义。

三、原子力显微镜(AFM)原子力显微镜是一种基于原子力相互作用的测量技术,可以对纳米尺度的表面进行高分辨率的三维成像。

AFM可以测量纳米材料的表面形貌、粒子尺寸和表面粗糙度等参数,对于纳米材料的表面性质研究具有重要意义。

四、动态光散射(DLS)动态光散射是一种利用光散射现象测量纳米材料的大小和分布的技术。

通过测量纳米材料在溶液中的光散射强度随时间的变化,可以得到纳米材料的粒子大小分布和聚集情况。

DLS广泛应用于纳米材料的尺寸和稳定性的研究。

五、拉曼光谱拉曼光谱是一种通过测量光散射现象来研究物质的结构和成分的技术。

纳米材料的拉曼光谱可以提供关于纳米材料的结构、晶格振动和化学组成等信息。

拉曼光谱可以用来研究纳米材料的晶格结构、表面增强拉曼散射现象以及纳米材料的表面修饰等。

六、X射线衍射(XRD)X射线衍射是一种通过测量物质对X射线的衍射现象来研究物质的结构的技术。

纳米材料的X射线衍射可以提供关于纳米材料的晶体结构和晶格参数的信息。

X射线衍射可以用来研究纳米材料的晶体结构、晶格畸变以及纳米材料的相变等。

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另外,即使对于导电样品,STM观察到 的是对应于表面费米能级处的态密度, 如果样品表面原子种类不同,或样品表 面吸附有原子、分子时,即当样品表面 存在非单一电子态时,STM得到的并不 是真实的表面形貌,而是表面形貌和表 面电子性质的综合结果
激光双法布里—珀罗干涉(DFPI) 纳米测量
•激光双法布里—珀罗干涉(DFPI) 纳米 测量系统装置如图1 。两个法布里—珀 罗干涉腔FP1 、FP2 组成类似迈克尔逊 干涉仪的两个臂,其中FP1 是测量腔,FP2 为参考腔。。将一个对微弱力极敏感的 微悬臂的一端与FP1 腔的一侧固定联接, 另一端固定有一微小探针。
被测样品后, 被测样品后,入射到平面镜M2上,经反射 又沿原路返回, 又沿原路返回,经过分光板后表面后反 射,在屏处与光束A 相遇而产生干涉,干 相遇而产生干涉, 涉条纹为同心圆环状等倾干涉条纹, 涉条纹为同心圆环状等倾干涉条纹,由 于受样品结构影响, 于受样品结构影响,同心圆环左右两侧 的环半径不同, 的环半径不同,条纹的位移大小与光程 的变化相对应。
应用
1 MEMS 器件的微观形变的测量 2 超光滑表面粗糙度和平面度的测量 3 标准量块的检定 4 微弱振动的测量 5 硬盘磁头飞行高度的测量 6 高硬度材料的硬度测量
迈克尔逊干涉仪测量纳米级薄膜厚度
迈克尔逊干涉仪(见图1)是物理实 迈克尔逊干涉仪(见图1)是物理实 验室常见的仪器. 验室常见的仪器.利用干涉原理可以测 量微小长度.实验装置如图2所示, 量微小长度.实验装置如图2所示,其原 理光路如图3所示. 理光路如图3所示. 从激光光源发出的光束, 从激光光源发出的光束,经过扩束镜 形成不同倾角的扩散光, 形成不同倾角的扩散光,再经过分光板 G1后表面分成两路光强近似相等的光 束:反射光A 和透射光B .反射光A在入 射到平面镜M1后,经反射又沿原路返回, 透过G1到达屏;投射光B在透过
纳米领域的测量技术
0501303 孟元元 0501318 王长坤 0501330 张伟 0501305 成凤敏 0501339 韩芳芳 0505307 张远
多波长干涉测量方法 迈克尔逊干涉仪测量纳米级薄膜厚度 扫描隧道显微镜 激光双法布里—珀罗干涉(DFPI) 激光双法布里—珀罗干涉(DFPI) 纳米测量
• λ为激光光源波长,均为固定值,若要提 为激光光源波长,均为固定值,
高测量精度, 高测量精度,只有增加测量系统对k 值 的分辨率: 的分辨率: ①适当扩大分束镜与屏的距 离,使干涉图样变大; ②在屏的前面设 使干涉图样变大; 置近焦数码摄像头, 置近焦数码摄像头,使摄像头尽量靠近 屏,提高分辨率; ③将图像输入计算机, 提高分辨率; 将图像输入计算机, 并将图形文件进行数字化处理, 并将图形文件进行数字化处理,能够准 确辨别出1/ 确辨别出1/ 100 条的条纹移动. 条的条纹移动.
干涉后的复合光经分束片2 、3 分成3 束,分别经 不同波带的滤波片1 、2 、3 选频后, 可得到波 长分别为λ1 、λ2 和λ3 的单色光干涉图样。PIN 光电管将干涉后的光强转化为电信号,经信号调 理电路处理后,再由数据采集装置转换成为数字 信号送入计算机。应用程序再根据一定的算法便 可以计算出空气薄膜厚度。
图4 精确测量图
扫描隧道显微镜
扫描隧道显微镜(Scanning Tunneling Microscope,STM)。它使人类第一次能够直 接观察到物质表面上的单个原子及其排列状态, 并能够研究其相关的物理和化学特性。因此, 它对表面物理和化学、材料科学、生命科学以 及微电子技术等研究领域有着十分重大的意义 和广阔的应用前景。
STM实验总图
基本原理
STM的基本原理是量子的隧道效应。它利用金属针尖 在样品的表面上进行扫描,并根据量子隧道效应来 获得样品表面的图像。通常扫描隧道显微镜的针尖 与样品表面的距离非常接近(大约为0.5~1.0nm), 所以它们之间的电子云互相重叠。当在它们之间施 加一偏值电压VB(VB通常为2mV~2V)时,电子就 可以因量子隧道效应(Tunneling Effect)由针尖 (或样品)转移到样品(或针尖),在针尖与样品 表面之间形成隧道电流。
恒高度模式
恒高度模式则是始终控制针尖的高度不变,并取 出扫描过程中针尖和样品之间电流变化的信息 (该信息也反映样品表面的起伏),来绘制样品 表面的原子图像。由于在恒高度模式的扫描过程 中,针尖的高度恒定不变,当表面形貌起伏较大 时,针尖就很容易碰撞到样品。所以恒高度模式 只能用于观察表面形貌起伏不大的样品。
STM 具 有 如 下
4.可在真空、大气、常温等不同环境下工作,样品
甚至可浸在水和其它溶液中.不需要特别的制样技术 并且探测过程对样品无损伤.这些特点特别适用于研 究生物样品和在不同实验条件下对样品表面的评价, 例如对于多相催化机理、超导机制、电化学反应过程 中电极表面变化的监测等. 5.配合扫描隧道谱(STS)可以得到有关表面电子 结构的信息,例如表面不同层次的态密度、表面电子 阱、电荷密度波、表面势垒的变化和能隙结构等 . 6.利用STM针尖,可实现对原子和分子的移动和 操纵,这为纳米科技的全面发展奠定了基础.
图1 迈克尔逊干涉仪
图2 实验装置图
图3光路原理图
• 根据被测样品有薄膜和无薄膜的两部
ห้องสมุดไป่ตู้
分对光程的影响导致干涉圆环直径大 小发生变化,从而计算出膜的厚度. 小发生变化,从而计算出膜的厚度. 计 算如下: 算如下: 光路图中的待测样品为玻璃基板, 光路图中的待测样品为玻璃基板,一半 镀有纳米膜, 镀有纳米膜,位置放置于M2 前面的位 置,由于薄膜的存在,使干涉条纹发生移 由于薄膜的存在, 动,则条纹移动的条数K 与膜厚d 的关 系为2 d系为2 n d-2 d = kλ则 d = kλ( n -1)/ 2 , 其中, 为薄膜介质折射率, 其中, n 为薄膜介质折射率,
不足之处
STM也存在因本身的工作方式所造成的局限 性.STM所观察的样品必须具有一定的导电性,因 此它只能直接观察导体和半导体的表面结构,对于 非导电材料,必须在其表面覆盖一层导电膜,但导 电膜的粒度和均匀性等问题会限制图象对真实表面 的分辨率.然而,有许多感兴趣的研究对象是不导 电的,这就限制了STM应用.
此隧道电流I可以表示为: I∝ VB EXP(-КФ1/2s) 这里,К常数,在真空条件下约等于1;Ф为针 尖与样品的平均功函数;s为针尖和样品表面 之间的距离,一般为0.3~1.0NM。 由于隧道电流I与针尖和样品表面之间的距离s 成指数关系,所以,电流I对针尖和样品表面 之间的距离s变化非常敏感。如果此距离减小 仅仅0.1nm,隧道电流I就会减少10倍。
∆ x1
• 如图4,分别为d1 = 3.01 cm ; d2 = 如图4
3.50 cm ; d3 = 4.19 cm . 由于d1 环 环有条纹相连,因此为同级条纹, 与d2 环有条纹相连,因此为同级条纹, 其半径之差即为条纹偏移距离; 其半径之差即为条纹偏移距离; △x1 = ( d2 - d1) /2= 0.25 cm , d1 环与d3 环 为相邻条纹, 其半径之差即为条纹间距: △x 2 = ( d3 - d1) / 2 = 0.59 cm ,条 ,条 纹移动条数k =△x1/ △x2 = 0.42 ,镀 ,镀 膜厚度d = kλ ( n - 1) / 2 = 221 nm , 值的测量, 误差的来源主要在于k 值的测量,
多波长干涉测量方法的特点
由于多波长干涉法是以光波波长作为量测尺 度,而且避免了普通相移干涉法中移相器所带 来的误差,并采用了不同波长干涉测量结果间 的相互误差校正等手段,所以具有很高的测量 精度和可靠性,非常适合工业应用中自动快速 测量的场合。
通过分析实验可知,对测量精度有较大 影响的因素主要有:干涉光的稳定性、 干涉光频谱宽度、光电转换与信号调理 电路的信噪比、数据量化误差等。在测 量系统的应用研发阶段,需要根据实际 测量对象做大量的实验,以掌握其它相 关因素对测量精度的影响。
STM有两种工作模式,恒电流模式和恒高度模式 恒电流模式
恒电流模式是在STM图像扫描时始终保持隧道电流恒 定,它可以利用反馈回路控制针尖和样品之间距离的 不断变化来实现。当压电陶瓷控制针尖在样品表面上 扫描时,从反馈回路中取出针尖在样品表面扫描的过 程中它们之间距离变化的信息(该信息反映样品表面 的起伏),就可以得到样品表面的原子图像。由于恒 电流模式时,STM的针尖是随着样品表面形貌的起伏 而上下移动,针尖不会因为表面形貌起伏太大而碰撞 到样品的表面,所以恒电流模式可以用于观察表面形 貌起伏较大的样品。恒电流模式是一种最常用的扫描 模式。
1.具有原子级高分辨率,STM在平行和
独 特 的 优 点 :
垂直于样品表面方向的分辨率分别可达 0.1nm和0.01nm,即可以分辨出单个原子. 2.可实时再现样品表面的三维图象,用 于对表面结构的研究及表面扩散等动态过程 的研究. 3.可以 单个原子 的 表面结构, 可直 表面 表面 构 表 面 的 态和 .
多波长干涉测量方法
多波长干涉测量法适用于纳米级微间距的 实时动态非接触测量。纳米级间隙之间的 空气形成一层具有光学特性的空气薄膜。 该空气薄膜的光强反射率是关于入射光波 长和薄膜厚度的函数。在多波长干涉法中, 以包含多种波长的复合入射光照射薄膜, 入射光被空气薄膜分成2 部分,一部分穿 过薄膜,另一部分则被反射回来。
前言
纳米技术是指纳米级( 0.1nm— 0.1nm— 100nm)的材料、设计、制造、测量、 100nm)的材料、设计、制造、测量、 控制和产品的技术。纳米技术研究的 内容包含了生物科学技术、信息科学 技术、纳米科学技术等,是本世纪科 学技术发展的重要方面。
纳米测量方法
概括国内外的纳米测量方法, 概括国内外的纳米测量方法,可以 分为两大类:一类是非光学方法: 分为两大类:一类是非光学方法:扫描探 针显微术、电子显微术、电容电感测 微法;另一类是光学方法: 微法;另一类是光学方法:激光干涉仪、 X光干涉仪、光学光栅和光频率跟踪等。 总结现有各种纳米测量方法, 总结现有各种纳米测量方法,它们的单 项参数(分辨率、精度、测量范围) 项参数(分辨率、精度、测量范围)可达 到的指标如表1 到的指标如表1所示。
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