绝缘栅场效应晶体管工作原理及特性

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简述IGBT的主要特点和工作原理

简述IGBT的主要特点和工作原理

简述IGBT的主要特点和工作原理一、简介IGBT,Insulated Gate Bipolar Transistor,是一种复合全控电压驱动功率半导体器件。

由BJT(双极晶体管)和IGFET(绝缘栅场效应晶体管)组成。

IGBT兼有MOSFET 的高输入阻抗和GTR 的低导通压降的优点。

GTR 的饱和电压降低,载流密度大,但驱动电流更大。

MOSFET的驱动功率很小,开关速度快,但导通压降大,载流密度小。

IGBT结合了以上两种器件的优点,驱动功率小,饱和电压降低。

非常适合用于直流电压600V及以上的变流系统,如交流电机、逆变器、开关电源、照明电路、牵引驱动等领域。

IGBT模块是由IGBT(绝缘栅双极晶体管)和FWD(续流二极管)通过特定的电路桥封装而成的模块化半导体产品。

封装后的IGBT模块直接应用于逆变器、UPS不间断电源等设备。

IGBT模块具有节能、安装维护方便、散热稳定等特点。

一般IGBT也指IGBT模块。

随着节能环保等理念的推进,此类产品将在市场上越来越普遍。

IGBT是能量转换和传输的核心器件,俗称电力电子器件的“CPU”,广泛应用于轨道交通、智能电网、航空航天、电动汽车、新能源设备等领域。

二、IGBT的结构下图显示了一种N 沟道增强型绝缘栅双极晶体管结构。

N+区称为源极区,其上的电极称为源极(即发射极E)。

N基区称为漏区。

器件的控制区为栅极区,其上的电极称为栅极(即栅极G)。

沟道形成在栅区的边界处。

C 极和E 极之间的P 型区域称为子通道区域。

漏极区另一侧的P+ 区称为漏极注入器。

它是IGBT独有的功能区,与漏极区和子沟道区一起构成PNP双极晶体管。

它充当发射极,将空穴注入漏极,进行传导调制,并降低器件的通态电压。

《N沟道增强型绝缘栅双极晶体管》IGBT的开关作用是通过加正栅电压形成沟道,为PNP(原NPN)晶体管提供基极电流,使IGBT导通。

反之,加反向栅压消除沟道,切断基极电流,就会关断IGBT。

igbt元件的工作原理和应用

igbt元件的工作原理和应用

IGBT元件的工作原理和应用1. 引言在现代电力电子技术中,IGBT(绝缘栅双极型晶体管)是一种重要的元件,具有高电压、高电流和高开关速度等特点。

本文将介绍IGBT元件的工作原理和应用。

2. IGBT工作原理IGBT是一种由MOSFET(金属-氧化物半导体场效应晶体管)和BJT(双极型晶体管)组成的混合型元件。

其工作原理可以分为以下几个步骤:1.输入信号引发控制端电压:控制端的电压作用下,形成子结和耗尽区的条件。

2.条件形成轉移区:控制端电压作用下,在轉移区域存在大电容,电荷会在下一个周期传播到发射区,IGBT结束通导状态。

3.发射区的导通:一旦适当的控制电流和电压施加后,MOS管中的电子开始导通,激活BJT的发射层。

4.提供辅助电压以维持MOS的导通:一旦电子开始导通,就必须通过辅助电压维持MOS的导通,以防止MOS关闭。

综上所述,IGBT的工作原理是通过不断改变控制端电压,并在MOS和BJT之间建立通路来控制导通和截止。

3. IGBT的应用IGBT作为一种重要的电子元件,广泛应用于各个领域。

以下是几个常见的应用领域:3.1 电力传输和变换IGBT在电力传输和变换领域起着重要作用,主要应用于交流换流器、逆变器和直流调节器等设备中。

IGBT的高电压和高电流承受能力,使其能够在电力系统中进行高效的能量转换和传输。

3.2 光伏发电系统在光伏发电系统中,IGBT用于逆变器中,将光伏电池板产生的直流电转换为交流电,以供电网使用或直接驱动电动设备。

3.3 汽车电子系统IGBT在汽车电子系统中的应用越来越广泛,用于电动车的控制系统、混合动力汽车的驱动系统和燃油喷射系统等。

IGBT的高开关速度和高电压能力使其适用于汽车中的高频电子设备。

3.4 变频空调在变频空调中,IGBT用于控制压缩机的工作,以实现空调系统的制冷和加热功能。

IGBT的高效能转换和低能耗使其成为变频空调系统的关键组成部分。

3.5 高速列车在高速列车领域,IGBT被用作高压变流器,用于控制高速列车的起动、制动和稳定运行。

解析IGBT工作原理及作用

解析IGBT工作原理及作用

解析IGBT工作原理及作用一、IGBT是什幺 IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor),绝缘栅双极型晶体管,由BJT(双极型三极管)和MOS(绝缘栅型场效应管)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件, 兼有MOSFET的高输入阻抗和GTR的低导通压降两方面的优点。

GTR饱和压降低,载流密度大,但驱动电流较大;MOSFET驱动功率很小,开关速度快,但导通压降大,载流密度小。

IGBT综合了以上两种器件的优点,驱动功率小而饱和压降低。

非常适合应用于直流电压为600V及以上的变流系统如交流电机、变频器、开关电源、照明电路、牵引传动等领域。

 通俗来讲:IGBT是一种大功率的电力电子器件,是一个非通即断的开关,IGBT没有放大电压的功能,导通时可以看做导线,断开时当做开路。

三大特点就是高压、大电流、高速。

 二、IGBT模块 IGBT是Insulated Gate Bipolar Transistor(绝缘栅双极型晶体管)的缩写,IGBT是由MOSFET和双极型晶体管复合而成的一种器件,其输入极为MOSFET,输出极为PNP晶体管,它融和了这两种器件的优点,既具有MOSFET器件驱动功率小和开关速度快的优点,又具有双极型器件饱和压降低而容量大的优点,其频率特性介于MOSFET与功率晶体管之间,可正常工作于几十kHz频率范围内,在现代电力电子技术中得到了越来越广泛的应用,在较高频率的大、中功率应用中占据了主导地位。

 IGBT的等效电路如图1所示。

由图1可知,若在IGBT的栅极和发射极之间加上驱动正电压,则MOSFET导通,这样PNP晶体管的集电极与基极之间成低阻状态而使得晶体管导通;若IGBT的栅极和发射极之间电压为0V,。

绝缘栅场效应管

绝缘栅场效应管

绝缘栅场效应管绝缘栅场效应管(Insulated-GateField-EffectTransistor,IGFET)也称为绝缘介质场效应晶体管,是一种场效应晶体管,具有线性特征,它使用了加入了一个带有外部驱动器的可控场栅。

IGFET 包括金属氧化物场效应晶体管(MOSFET),极化金属氧化物场效应晶体管(PMOSFET)和准分立双极型(JFET)场效应晶体管。

这些晶体管的操作或依赖较小的电场,作出反应,它们是基于场栅的控制,而不是电流。

它们有很多优点,例如有很小的电场驱动和能耗,以及宽的通行范围和高的集电极电压利用率,它们也有很小的磁耦合和抗漏电能力(EMI)影响。

绝缘栅场效应管的工作原理绝缘栅场效应管(IGFET)是由一个晶体管和一个控制电极组成的,它在工作时受到一种较小的外加电场的作用,由控制电极控制,从而控制了晶体管的电流通过。

它有三个端口,栅极(G),源极(S)和漏极(D)。

当隔离场介电层(它在栅极和晶体管的源极/漏极之间)被电场作用激活,电流就会从源极进入漏极,即由此产生管的当量电路效果,从而实现将外加的小电场控制的输入信号转换为输出电流的功能。

绝缘栅场效应管的应用绝缘栅场效应管(IGFET)在许多电子电路中都有广泛的应用,其中最常见的是开关模式,用于将输入信号转换为输出相应的开关状态。

它们还可用于模拟应用,例如控制放大器,滤波器和电源管理等。

在微处理器和其他综合电路中,它们用作开关和驱动器。

此外,绝缘栅场效应管还可以用于制作高功率放大器,电动机驱动器和电源控制器等。

绝缘栅场效应管的发展绝缘栅场效应管(IGFET)被发明于1960年,它有着可充电量子井层结构,更高效率,更低漏电流等诸多优点,使其在微电子领域取得了巨大成功。

随着技术的进步,新型绝缘栅器件不仅可以提高集电极电压利用率,而且可以在更高的温度和频率范围内工作,因此可以将这类器件应用于更多的工程领域。

未来,绝缘栅场效应管将成为集成电路中更可靠、抗漏电、节能的控制元件。

绝缘栅双极晶体管的工作原理

绝缘栅双极晶体管的工作原理

绝缘栅双极晶体管的工作原理
绝缘栅双极晶体管是一种三端半导体器件,也被称为IGBT。

IGBT 包含一个P型衬底,两个N型外延层和一个PNPN结构。

其中,N+型区
域和P+型区域用于接触电极,形成源极(S)、栅极(G)和漏极(D)。

IGBT的工作原理是在栅极与源极之间加上一个正向电压,即形成了一个正向偏压,在PN结和N导电层之间形成一个细窄的储存电荷区域。

当从源极施加正向电压时,由于P层和N+层之间的势垒,会产生
大量的少数载流子,这些载流子被P层电场加速后,穿过N层,耗散
在收集区域。

在使G极与S极之间加正向电压的同时,在栅极上接上
一个信号电压,使G极形成一个电场,这个电场就能控制S极和D极
之间通道的导电状态,因此,IGBT可以实现大电流控制的功能。

当栅极电压较低时,极个电场也较弱,S与D之间的场效应导电
是较弱的。

当栅极电压增加到一定程度时,P衬底和N+区之间的PN结
区域就会放电,电子被注入N+区域,从而形成一个N+掺杂的导电通道,从而使S和D之间的电阻变得非常小,此时IGBT处于导通状态,可以
实现大电流放电。

MOS场效应管工作原理及特性(1)

MOS场效应管工作原理及特性(1)
第四章
常用半导体器件原理
MOS场效应管工作原理 及特性曲线(1)
西电丝绸之路云Байду номын сангаас堂
孙肖子
∙1∙
绝第缘四栅章场效应管(I常GF用ET半) 导体器件原理
绝缘栅场效应管的结构、类型及符号
半半 半半 半半
S GD
型型 S
G
D
半 半 半 ( SiO2 )
A1型
NP++
PN++
半 半 半
L
NP半 半 半
B
半半半 (SiO2)
D常用半导体器件原理
半 半 半 ( SiO 2 )
N+
N+
型型型型
半半半
P 型型型型
B 型型型型
MOS
EMOS( 半 半 半 )
N半 半
D
P半 半
D
B
B
G
G
DMOS( 半 半 半 )
N半 半
D
P半 半
D
B
B
G
G
S
ENMOS
S
EPMOS
S
DNMOS
S
DPMOS
∙3∙
N沟道增强型M第OS四管章
常用半导体器件原理
W
PN++
NP++ 半 半 半
型型型型
NP 型 型 型 型
B 型型型型
绝缘栅场效应管由金属-氧化物-半导体构成(Metal-
Oxide-Semiconductor),故又简称为MOSFET。导电沟道平行于表
面。且栅极与沟道是绝缘的,栅极电流为零 iG=0。
∙2∙
MOS管类型及 符号
型 型第四S 章 G

,绝缘栅双极型晶体管

,绝缘栅双极型晶体管

,绝缘栅双极型晶体管
摘要:
1.绝缘栅双极型晶体管的概念与结构
2.绝缘栅双极型晶体管的工作原理
3.绝缘栅双极型晶体管的特点与应用
4.绝缘栅双极型晶体管的发展趋势
正文:
绝缘栅双极型晶体管(简称IGBT)是一种高反压大电流器件,它是由双极型三极管(BJT)和绝缘栅型场效应管(MOSFET)组成的复合全控型电压驱动式功率半导体器件。

IGBT 兼具MOSFET 的高输入阻抗和双极型晶体管的低导通压降两方面的优点,具有较高的开关速度和较低的导通损耗,常用于大功率放大输出、电磁炉等应用。

IGBT 的工作原理是通过控制MOS 管的栅极,再由MOS 管控制晶体管的通断。

当MOS 管的栅极施加正向电压时,MOS 管导通,晶体管也随之导通;当MOS 管的栅极施加负向电压时,MOS 管截止,晶体管也随之截止。

这样,通过控制MOS 管的栅极电压,可以实现对晶体管的控制,从而达到开关电路的目的。

绝缘栅双极型晶体管具有以下特点:
1.高反压:由于晶体管的集电极和发射极之间有较高的反压,使得IGBT 可以承受较高的电压。

2.大电流:IGBT 具有较大的电流容量,可以承受较大的电流。

3.高开关速度:IGBT 的开关速度较高,可以实现高频率的开关操作。

4.低导通压降:IGBT 的导通压降较低,可以降低能耗和导通损耗。

随着科技的发展,绝缘栅双极型晶体管的应用领域不断扩大,包括新能源、工业控制、家用电器等领域。

igbt工作原理

igbt工作原理

igbt工作原理
IGBT,即绝缘栅双极型晶体管(Insulated Gate Bipolar Transistor),是一种常用的功率电子器件。

IGBT结构上同时具备场效应晶体管(MOSFET)和双极型晶体管(BJT)的特点,因此能够实现高电压和高电流的控制。

IGBT的工作原理大致可分为四个阶段:
1. 开启(Turn-On)阶段:当输入信号(称为栅极信号)被应用于IGBT的控制端时,栅极电极上形成强电场,这个电场通过绝缘层作用于底部的N型材料。

这个电场吸引P型材料中的载流子向绝缘层附近靠拢。

2. 激活(Activation)阶段:当达到一定电压时,底部的N型材料中的P-N结将会被击穿,载流子开始穿越绝缘层并进入N型材料。

在激活期间,绝缘层的电容会存储一定电量。

3. 饱和(Saturation)阶段:一旦激活完成,电流开始自绝缘层源源不断地流入P型材料,使其达到饱和状态。

在饱和状态下,整个电流将通过P-N结和N型材料。

4. 关断(Turn-Off)阶段:当栅极信号被取消时,电场在较短的时间内被去激活。

此时,绝缘层上存储的电荷被释放,并迅速恢复到最初的非激活状态。

IGBT进入到可关断状态。

需要注意的是,IGBT的开关速度相对较低,由于其PN结的扩散和复合时间会导致一定的开关延迟。

因此,在高频应用和
快速开关场景中,MOSFET可能会更为适合。

总之,IGBT通过栅极信号的控制,以实现高电压和高电流的
控制,因此在工业控制、变频器、电力传输等应用中广泛使用。

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绝缘栅场效应晶体管工作原理及特性
场效应管(MOSFET)是一种外形与普通晶体管相似,但控制特性不同的半导体器件。

它的输入电阻可高达1015W,而且制造工艺简单,适用于制造大规模及超大规模集成电路。

场效应管也称为MOS管,按其结构不同,分为结型场效应晶体管和绝缘栅场效应晶体管两种类型。

在本文只简单介绍后一种场效应晶体管。

绝缘栅场效应晶体管按其结构不同,分为N沟道和P沟道两种。

每种又有增强型和耗尽型两类。

下面简单介绍它们的工作原理。

1、增强型绝缘栅场效应管
2、图6-38是N沟道增强型绝缘栅场效应管示意图。

在一块掺杂浓度较低的P型硅衬底上,用光刻、扩散工艺制作两个高掺杂浓度的N+区,并用金属铝引出两个电极,称为漏极D和源极S如图6-38(a)所示。

然后在半导体表面覆盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层,在漏-源极间的绝缘层上再装一个铝电极,称为栅极G。

另外在衬底上也引出一个电极B,这就构成了一个N沟道增强型MOS管。

它的栅极与其他电极间是绝缘的。

图6-38(b)所示是它的符号。

其箭头方向表示由P(衬底)指向N(沟道)。

图6-38 N沟道增强型场效应管
场效应管的源极和衬底通常是接在一起的(大多数场效应管在出厂前已联结好)。

从图
6-39(a)可以看出,漏极D和源极S之间被P型存底隔开,则漏极D和源极S之间是两个背靠背的PN结。

当栅-源电压UGS=0时,即使加上漏-源电压UDS,而且不论UDS的极性如何,总有一个PN结处于反偏状态,漏-源极间没有导电沟道,所以这时漏极电流ID≈0。

若在栅-源极间加上正向电压,即UGS>0,则栅极和衬底之间的SiO2绝缘层中便产生一个垂直于半导体表面的由栅极指向衬底的电场,这个电场能排斥空穴而吸引电子,因而使栅极附近的P型衬底中的空穴被排斥,剩下不能移动的受主离子(负离子),形成耗尽层,同时P衬底中的电子(少子)被吸引到衬底表面。

当UGS数值较小,吸引电子的能力不强时,漏-源极之间仍无导电沟道出现,如图6-39(b)所示。

UGS增加时,吸引到P衬底表面层的电子就增多,当UGS达到某一数值时,这些电子在栅极附近的P衬底表面便形成一个N型薄层,且与两个N+区相连通,在漏-源极间形成N型导电沟道,其导电类型与P衬底相反,故又称为反型层,如图6-39(c)所示。

UGS越大,作用于半导体表面的电场就越强,吸引到P衬底
表面的电子就越多,导电沟道越厚,沟道电阻越小。

我们把开始形成沟道时的栅-源极电压称为开启电压,用UT表示。

图6-39 N沟道增强型场效应管的沟道形成图
由上述分析可知,N沟道增强型场效应管在UGS<UT时,不能形成导电沟道,场效应管处于截止状态。

只有当UGS≥U T时,才有沟道形成,此时在漏-源极间加上正向电压UDS,才有漏极电流ID产生。

而且UGS增大时,沟道变厚,沟道电阻减小,ID增大。

这是N沟道增强型场效应管的栅极电压控制的作用,因此,场效应管通常也称为压控三极管。

N沟道增强型场效应管的输出特性曲线和转移特性曲线如图6-40和图6-41所示。

图6-40 N沟道增强型场效应管的输出特性曲线
图6-41 N沟道增强型场效应管的转移特性
2.耗尽型绝缘栅场效应管
从结构上看,N沟道耗尽型场效应管与N沟道增强型场效应管基本相似,其区别仅在于当栅-源极间电压UGS= 0时,耗尽型场效应管中的漏-源极间已有导电沟道产生,而增强型MOS管要在UGS≥U T时才出现导电沟道。

原因是制造N沟道耗尽型场效应管时,在SiO2绝缘层中掺入了大量的碱金属正离子Na+或K+(制造P沟道耗尽型场效应管时掺入负离子),如图6-42(a)所示,因此即使UGS=0,在这些正离子产生的电场作用下,漏-源极间的P型衬底表面也能感应生成N沟道(称为初始沟道),只要加上正向电压UDS,就有电流ID。

如果加上正的UGS,栅极与N沟道间的电场将在沟道中吸引来更多的电子,沟道加宽,沟道电阻变小,ID增大。

反之,UGS为负时,沟道中感应的电子减少,沟道变窄,沟道电阻变大,ID减小。

当UGS负向增加到某一数值时,导电沟道消失,ID趋于零,该管截止,故称为耗尽型。

沟道消失时的栅-源电压称为夹断电压,用UP表示,为负值。

在UGS=0、UGS>0、UP<UGS<0的情况下均能实现对ID的控制,而且仍能保持栅-源极间有很大的绝缘电阻,使栅极电流下均能实现对ID的控制,而且仍能保持栅-源极间有很大的绝缘电阻,使栅极电流为零。

这是耗尽型场效应管的一个重要特点。

图6-42 N沟道耗尽型场效应管
图6-42(b)是N沟道耗尽型场效应管的代表符号。

图6-43是N沟道耗尽型场效应管的输出特性曲线,图6-44是N沟道耗尽型场效应管的转移特性曲线。

实验表明,耗尽型场效应管的转移特性可近似用表示

图6-43 N沟道耗尽型场效应管的输出特性曲线
图6-44 N沟道耗尽型场效应管的转移特性曲线
以上介绍了N沟道绝缘栅场效应增强型和耗尽型管,实际上P沟道也有增强型和耗尽型,其符号如图6-45所示。

图6-45 P沟道绝缘栅场效应晶体管
绝缘栅场效应管还有一个表示放大能力的参数,即跨导,用符号gm表示。

跨导gm是当漏—源电压UDS为常数时,漏极电流的增量ΔI D对引起这一变化的栅—源电压ΔU DS的比值,

(6-23)
跨导是衡量场效应晶体管栅—源电压对漏极电流控制能力的一个重要参数,它的单位是μA/V或mA/V。

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