第2章 介质膜系及其应用
偏振分光膜和消偏振薄膜
1. 例如:nH=2.35,nL=1.35, ns=1.52，根据上式计算棱镜 应有的角度θs=50.5° 2.例如:nH=2.35,nL=1.35 ,θs=45° ,则，ns=1.66。
10
11
3. 金属栅偏振分光镜
原理： 当入射光的波长远大于栅距时，入射光中的电矢量 E
垂直于线栅的偏振光透过线栅，而电矢量 E平行于线栅 的偏振光则被线栅反射。
金属栅偏振器的主要优点是： 工作波段很宽； 全波段内偏振性好； 线栅用良导体制成，吸收可以忽略，抗光损伤阈值
高。所以，金属线栅偏振器是中，远红外区较理想的偏 振器 。
17
单层宽波段消偏振分光镜
18
③对于确定θ0和n，Δn随入射介质n0增大而增大，偏振分离也越大； 因此，①消偏振只能对膜层与周围介质组合、或多层膜系来实现；
②封闭在胶合棱镜中膜层的偏振效应更严重。
14
2.7.1 单波长消偏振
由于①多层膜系的偏振效应来源于光学导纳的偏振分离，
②多层膜系的光学导纳是膜层厚度的复函数， ③多层膜系的光学导纳色散非常严重，所以多层膜系
足 n1 n0 n2 ，且光线以等于或大于全反射临界角入射
时，通过调整膜层的厚度，由于膜层的作用，就会使全反射受
到抑制，得到没有偏振效应的各种透反比的分光效果。
可以证明，受抑全反射消偏振分光入射角只与膜
层和入射介质的折射率有关，而与波长和膜层厚度
无关。即：
sin0
2 n1 n0 1 n1 n0 2
7
中心波长处的反射率为：
R
ηs
材料科学中的薄膜技术研究与应用
材料科学中的薄膜技术研究与应用薄膜技术，是指在基板上通过各种方式、不断堆积一定数量的一层、一层构成的具有特定结构和功能的薄膜。
近年来，它在材料学、物理学、电子学、化学、生物学等一些领域中得到广泛的应用。
在材料科学中，薄膜技术研究和应用也逐渐成为热点领域之一。
本文主要介绍当前薄膜技术在材料科学领域中的研究和应用。
一、薄膜技术的发展历程薄膜技术可以追溯到20世纪初期的真空镀膜，20世纪50年代的化学气相沉积技术、光刻技术、扫描电镜等技术的应用。
1960年代，光刻技术和化学铸造技术被广泛应用于 DVD、光学存储等领域中。
此外，热溅射、电子束物理气相沉积技术、离子束溅射等技术的应用使得薄膜技术的内容不断扩大。
二、薄膜技术的应用（一）太阳能电池领域在太阳能电池的制作中，薄膜技术起着至关重要的作用。
薄膜技术通过利用物化性质，将薄膜上的光子转化为电荷载流子，从而实现发电。
目前，太阳能电池分为单晶硅电池、多晶硅电池、非晶硅电池（a-Si），其中非晶硅电池所需的硅材料少，制程简单、成本较低，因此受到了广泛关注和研究。
非晶硅薄膜太阳能电池的转换效率较高，实用化的生产效果也较好。
（二）微电子学领域微电子学已经成为了信息技术领域的中流砥柱，薄膜技术在微电子学中也占有非常重要的地位，尤其是在电介质材料领域。
薄膜技术的应用使得电子元器件像集成电路（IC）和电子器件芯片（VLSI）可以在更加微小的尺寸上实现，性能也会更加优异。
此外，薄膜技术在微电子学领域还可以应用于制作触摸屏、人机交互器件等。
（三）工业制造领域薄膜技术在工业制造方面的应用也尤为广泛，因其能够将更小的元件和材料应用于现有设备之中。
薄膜技术也被应用于电阻体、电容器、电晶体管等电子元器件的制造过程中，通过薄膜技术的提升，这些元器件的成本也得到了下降。
此外，薄膜技术在钢铁、金属材料学、纺织业、印刷业等工业制造领域均表现出了显著的应用效果。
三、基于碳的复合薄膜技术基于碳的复合薄膜技术应用广泛，包括玻璃、光学、机械零件和医学等领域。
几种膜系的理论及应用研究(要点
武汉职业技术学院毕业论文几种膜系的理论及应用研究系别:光电子技术系班级:光电 11303**:******:***2014年 02月22 日摘要镀膜是将光学薄膜沉积在光学零件表面的制造过程。
光学薄膜应用于各种反射和透射光学元件，薄膜技术是光学技术的一个重要组成部分。
镀膜技术涉及到光电技术、计算机、真空技术、材料科学、自动控制技术等领域。
本文阐述了几种常见镀膜工艺的特点，进行工艺比较，结合当前的实际应用对镀膜的应用做了一定的归纳和总结，对未来镀膜工艺进行展望。
着重介绍了ITO膜和PI膜关键词：镀膜薄膜ITO膜PI膜目录摘要...............................................................错误!未定义书签。
1 绪言 (1)1．1镀膜意义 (1)1．2光学薄膜 (1)2 镀膜技术 (2)2.1常用的镀膜工艺 (2)2.2三种镀膜工艺比较 (3)2.3三种镀膜工艺的应用 (3)3 光学薄膜分类 (5)3.1减反射膜 (5)3.2反射膜 (6)3.3干涉滤光片 (7)3.4分光膜 (7)4 ITO薄膜 (8)4.1ITO薄膜基本性能 (8)4.2 ITO薄膜在国内的发展 (11)5 聚酰亚胺薄膜（PI膜） (12)5.1聚酰亚胺薄膜（PI膜）特性 (12)5.2聚酰亚胺优点 (13)5.3 PI膜未来发展 (13)6 光学镀膜的应用前景 (14)6.1 光学镀膜在光学上的应用 (14)6.2 光学镀膜在电子电路上的应用 (14)6.3 光学镀膜在机械工业的应用 (14)6.4光学镀膜在生活中的应用 (15)6.5 前景展望 (15)参考文献 (16)1 绪言1.1镀膜意义镀膜在利用某些薄膜材料的红外线反射性能的同时，也利用了薄膜在可见光谱范围的干涉效应，通过对薄膜厚度的调整，既达到热反射功能，又可形成所需的反射颜色效果。
镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。
《介质薄膜》课件
技术进步：新材料、新工艺的不断涌现，推动介质薄膜性能提升 应用领域：在电子、光学、生物等领域的应用不断拓展 市场规模：随着市场需求的不断增长，市场规模将持续扩大 环保要求：环保法规的日益严格，推动介质薄膜向环保方向发展
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汇报人：
折射率：描述介质薄膜对光的折射能力
色散：描述介质薄膜对不同波长光的折 射能力差异
光致变色：描述介质薄膜在光照条件下 的颜色变化特性
电阻率：衡量介质薄膜的导电性能 电容率：衡量介质薄膜的储能性能 电导率：衡量介质薄膜的导热性能 介电常数：衡量介质薄膜的绝缘性能
拉伸强度：衡量薄膜在拉伸作用下的抵抗能力 弯曲强度：衡量薄膜在弯曲作用下的抵抗能力 冲击强度：衡量薄膜在冲击作用下的抵抗能力 硬度：衡量薄膜的硬度和耐磨性 热变形温度：衡量薄膜在高温下的变形能力 热膨胀系数：衡量薄膜在温度变化下的尺寸变化能力
化学气相沉积法（CVD）：通过化学反 应在基底上沉积薄膜
物理气相沉积法（PVD）：通过物理过 程在基底上沉积薄膜
溶液法：通过溶ห้องสมุดไป่ตู้在基底上沉积薄膜
电泳法：通过电场在基底上沉积薄膜
激光烧蚀法：通过激光烧蚀在基底上沉 积薄膜
离子注入法：通过离子注入在基底上沉 积薄膜
介质薄膜的性能表 征
反射率：描述介质薄膜对光的反射能力 透射率：描述介质薄膜对光的透射能力 吸收率：描述介质薄膜对光的吸收能力
介质薄膜的制备方 法
原理：利用高 能粒子轰击靶 材，使其表面 原子或分子逸 出并沉积在基
底上
特点：沉积速 率快，薄膜质 量高，可制备
多种材料
应用：广泛应 用于半导体、 太阳能电池、 光学薄膜等领
域
优点：可精确 控制薄膜厚度 和成分，易于 实现大面积均
第2讲-分层介质的电磁场及其光学特性课件
D—— 电位移矢量 H——磁场强度
B——磁感应强度 μ——磁导率
jD— — 位 移 电 流 矢 量
ρ —— 电荷密度 ε ——介电常数 σ —— 电导率
各向同性、均匀介质的物质方程为：
D =ε E B =μ H
j = σE
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对图1.2的说明
注意，在选取坐标系时， 有意识的让x轴垂直于入射面。 图中，入射面就是yz平面， x轴垂直于黑板面指向里。
这一节的主要任务是推导出分层介质的幅度透射率和反
射率的通用表达式。下面分s、p偏振两种情形来讨论。
S偏振情形
(1.1.9)
方程( 1.1.9) 在入射介质和基底中也是成立的。在入射
介质中：
将方程(1.1.9)的第一个方程两边对z求导，再将第二个 方程代入就可得到：
(1.1.15)
令：
则方程(1.1.15) 可化为：
电磁波谱
电磁波谱 (续)
薄膜的干涉
两束光产生干涉的条件： ➢频率相同 ➢振动方向一致
➢位相相同或位相差恒定
薄膜的双光束干涉 (续)
薄膜的双光束干涉 (续)
1.1.1分层 介质的 电磁场
注意，在研究光学薄膜时，我们取如图所示的坐标系统， 零点位于基底与膜层的交界面上， z轴垂直于膜面由基 底指向入射介质， x、y轴位于膜面所在平面内，其中x 轴垂直于纸面指向里， x、y、z轴构成右手螺旋定律。
入 射 波 的 形 式 为 exp( ikqaz) ， 反 射 波 的 形 式 为 exp( - ikqaz) 。 因此从 (1.1.9) 的第一个方程很容易得到： (入射波)
而对于反射波，同样可以得到：
(1.1.9)
分层介质的幅度透射率和反射率 (续)
高中化学 (大纲版)第三册 第二单元 胶体的性质及其应用 第二节胶体的性质及其应用(备课资料)
高中化学（大纲版）第三册第二单元胶体的性质及其应用第二节胶体的性质及其应用(备课资料)●备课资料一、胶体与溶液、浊液之间最本质的区别是什么？胶体与溶液、浊液之间最本质的区别是分散质粒子的大小不同。
溶液分散质直径＜10－9 m，浊液分散质的直径是＞10－7 m，而胶体的分散质直径介于二者之间。
溶液、胶体和浊液由于分散质粒子大小不同，而在性质上、外观上也有许多不同。
比较如下：二、胶体化学的研究历史人们在古代就接触和利用过很多种胶体。
例如，生活中遇到的面团、乳汁、油漆、土壤等，都属胶体范围。
1663年，卡西厄斯（Cassius）用氯化亚锡还原金盐溶液，制得了紫色的金溶胶。
从十九世纪初，人们开始了对胶体的科学研究。
1809年，列伊斯使用一支U型管，管底中部放一粘土塞子，盛水后通电。
他观察到粘土的悬浮粒子向阳极移动，而阴极一臂中的水位则上升。
这个实验证明了粘土粒和水两个相，带有相反的电荷，这种现象叫做“电泳”。
1827年，英国植物学家R·布朗（R·Brown，1773～1858）用显微镜观察水中悬浮的藤黄粒子，发现粒子不停顿地在运动着，后来人们就把胶体粒子所呈现的这个重要现象称作“布朗运动”。
1838年，阿歇森（Ascherson，德）在鸡蛋白的水溶液中加入一些橄榄油，使之呈悬浮的微滴。
他在研究这种油滴的行为时，看到鸡蛋白在油滴与水（介质）的界面上，形成了一层膜。
这一实验表明，在这种情况下蛋白质形成了几分子厚度的一层薄膜，而变得不能溶于水了，这种现象叫做“变性”作用，他同时还发现油滴在蛋白质的“保护”下也不能“聚结”了。
1845～1850年间，塞尔米（F·Selmi，意）对无机胶体作了系统的研究，包括AgCl溶胶的生成条件以及盐类对它的凝聚作用。
1857年，法拉第曾做试验，他使一束光线通过一个玫瑰红色的金溶胶。
这个溶胶原来也像普通的溶液一样是清澈的，但当光线射过时，从侧面可以看到在此溶胶中呈现出一条光路。
薄膜技术的原理和应用
薄膜技术的原理和应用近年来，薄膜技术在各个领域得到广泛应用，如电子、光电、能源、材料等领域均与薄膜技术有着密切的联系。
那么，究竟薄膜技术的原理是什么，它的应用又有哪些呢？一、薄膜技术的原理薄膜技术简单来说就是通过一定方法将一种材料沉积在另一种材料表面的过程，使得材料表面形成一层薄膜。
薄膜技术可以根据材料沉积的方式分为物理气相沉积（PVD）和化学气相沉积（CVD）两种。
其中，物理气相沉积是指将一种被覆材料蒸发后沉积在另一种基材表面形成薄膜的过程。
常见的物理气相沉积技术有热蒸发、电子束蒸发、磁控溅射等。
而化学气相沉积是指通过化学反应将一种气态前体沉积在另一种基材表面形成薄膜的过程。
常见的化学气相沉积技术有化学气相沉积（CVD）、物理化学气相沉积（PACVD）等。
二、薄膜技术的应用1. 光电设备在光学领域，薄膜技术可以制造大量光学元件，如反射镜、光学滤波器、半导体激光器等。
这些元件通常是由不同种类和厚度的薄膜层组成的。
例如，在光学滤波器中，通过蒸发不同厚度的金属或氧化物形成多层薄膜，可以达到隔离、反射、透过光的效果。
2. 电子领域在电子领域，薄膜技术可用于制造薄膜晶体管、光致发光器件、量子阱电流调制器、传感器等。
在薄膜晶体管的工作过程中，薄膜需要拥有一定的导电性，因此需要在薄膜表面涂覆金属、氧化物等材料，以提高薄膜的导电性。
3. 其他领域此外，薄膜技术还广泛应用于其它领域，如能源、生物医学、环保等。
在太阳能电池的制作过程中，通过将硅薄膜形成在玻璃基板上，可以提高太阳能的吸收效率。
在生物医学领域，薄膜技术可以制造人工心脏瓣膜、人工骨骼、药物包装等产品。
总之，薄膜技术在众多领域都有着重要的应用，并为不同领域的技术创新提供了基础保障。
随着科技的发展，我们相信薄膜技术将有越来越广阔的应用空间。
薄膜物理与技术
太阳能电池有以下几类： 硅基太阳能电池(单晶/多晶/非晶)(24.7%) ；化合物太阳能电池(砷化镓/硫化镉/碲化镉/铜铟硒等)； 有机薄膜太阳能电池 (酞青类化合物/导电聚合物等)； 纳米薄膜太阳能电池(纳米TiO2) 。
第五章 薄膜的性质
了解薄膜的一些力、电、半导体、磁特性，及这些特性的使用价值。薄膜的力学、电学性质，及半导体、磁性、超导薄膜的特性及薄膜的应用。了解薄膜的一些力、电、半导体、磁特性，及这些特性的使用价值。 重点： 力，电性质，薄膜应用。薄膜材料以其独特的性质为促进器件微型化、集成化发挥了重要作用。薄膜制作作为一种极其重要的材料制作关键技术是现代大学本科生必须了解的基础知识。
镜面镀膜有三层：外层防污膜是防灰尘和油渍；中层防反射膜，是提高镜片光线通过率。 内层加硬膜是防止镜片磨损、刮花。
2.、太阳能薄膜技术
1973年世界爆发了第一次能源危机，使人们清醒地认识到地球上化石能源储藏及供给的有限性，客观上要求人们必须寻找其它可替代的能源技术，改变现有的以使用单一化石能源为基础的能源供给结构。为此，以美国为首的西方发达国家纷纷投入大量人力、物力和财力支持太阳电池的研究和发展，同时在以亟待解决的与化石能源燃烧有关的大气污染、温室效应等环境问题的促使下，在全世界范围内掀起了开发利用太阳能的热潮，也由此拉开了太阳电池发电的序幕。
薄膜技术与薄膜材料之所以受到人们的关注，主要基于下面几个理由：
（1）薄膜材料是典型的二维材料，即在两个尺度上较大，而在第三个尺度上很小。
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求上等效界面的等效反射率R1： 折射率为n1 的/4膜层的特征矩阵
cos1 i sin 1 / n1 0 i / n1 in sin cos1 in1 0 1 1 B 0 i / n1 1 in2 / n1 C in 0 n2 in1 1 Y C / B n12 / n2
单层减反射膜 G/L/A 1.52/1.38/1
GLA变成GHLA 可以实现零反射，但不能克服色中性差的缺陷; R－ 曲线呈 V型，通带越来越窄（和单层膜比较 ), 适 用与工作波段较窄的场合.
2) /2 ~/4膜堆
n0 λ/4 n1 /4膜层
n0
入射
反射
λ/2
n2
/2膜层 ns
膜系表示实例 G/MH/A G/M1.8H/A G/2MH/A G/M1.8HL/A G/M2HL/A 规整膜系 非规整膜系
规整膜系
非规整膜系 规整膜系
G/1.8MHL/A
非规整膜系
2.1 减反射膜（增透膜）
一、作用和应用背景 减反膜的作用：减少介质间界面反射。 一般情况下界面反射的危害： (1)引起光学系统的光能量损失; (2)加剧光学系统的杂散光干扰，加大系统噪声； (3)在高功率激光系统中，界面反射可能引起反激光，
G/HL/A 1.52/1.7,1.38/1
G/2HL/A
两种膜系比较 (1)在参考波长处反射率较双层/4膜堆高
(2)该波长两侧R－曲线较平坦，色中性较好
4、多层减反射膜 双层减反膜缺点： (1)能提高参考波长处的反射率但色中性差(双层/4膜堆) (2)改善膜系的色中性但无法改善膜系中心波长反射率。
cos A i sin A / nA cos B i sin B / nB cos A i sin A / nA in sin in sin in sin cos cos cos A A A B B B A A A cos e i sin e / ne ine sin e cos e
1.52 2.05 1.71 1.52 2.05 1.712
2 2
0.0010
第二步：求以上下两表面反射率分 别为R1、R2的/2膜层等价透过率：
T0
(1 R1 )(1 R2 )
1
R1 R2
2
1
(1 0.0707)(1 0.001) 0.0707 0.001
构无法满足要求时增加膜层数（替代层），直至满足
要求为止。 可能会出现层数很多，膜层很薄的现象。
常用替代层：三层对称ABA结构
等效定律 任意一个周期性对称膜系都存在一个单层膜 与之等效。 等效折射率就是基本周期的等效折射率；等 效相位厚度等于基本周期的等效相位厚度的 周期数倍。
膜层特征矩阵等效
求其上下两个表面的等效反射率。
n1 1.88, / 4 n2 2.05, / 2 n3 1.71, / 4 ns 1.52
上等效界面：空气+/4膜层(n1)组成， /2膜层 (n2) 相 当于基底 下等效界面：基底+/4膜层(n3)组成， /2膜层 (n2) 相 当于基底
膜系表示方法 一般可以表示为： G/xMyHzL/A S/xMyHzL/A 其中： G代表基底，也可以用S表示基底 H（L、M）代表高（低、中）折射率膜层 A代表入射介质（一般为空气） x、y、z表示各层膜厚度为λ/4的倍数 备注：当x、y、z全为整数时则为规整膜系 当x、y、z之一为非整数时则为非规整膜系
第2章 介质膜系及其应用
教学内容
减反膜 高反膜 中性分束膜 作用
教学目的和要求
了解常用膜系的
应用背景、掌握 其光学特性、结 构特点及其设计 的基本知识，为
截止滤光片
带通滤光片 偏振分束膜 消偏振膜
应用背景
设计基础
结构特点
以后发展打下基
础。
补充：光学膜系基本知识
膜系分类 规整膜系： 各层膜的光学厚度为设计波长四分之一的整数倍。 非规整膜系： 有一层薄膜的光学厚度不是设计波长的四分之一整 数倍。 设计波长（参考波长、中心波长）
2
T0 T0 T T0 0.99745 2 1 F sin 1 F 0 R 1 T 1 T0 2.55 103%
R(%)
3.0 2.0 1.0 R R1 R2 0.7 0.8 0.9 1.0 1.1 1.2 1.3
g(0/)
注意 当波长偏离参考波长时，R1和R2的值发生变化； 如图所示R1和R2与波长的曲线无交点。 整个膜系透过率T曲线呈V型。
入射
反射 n0 r1, R1, Y1 nH
/4膜层, nL /2膜层, nH /4膜层,nM
等效界面1 /2膜层 等效界面2
r2, R2, Y2 ns 基质
处理方法
选定中间层，外层膜与入射介质及内层膜与基底等效 为两个界面; 其振幅反射系数和反射率分别为r1,r2及R1，R2
4 R1R2 T0 (1 R1 )(1 R2 ) T , T0 ，F 2 2 1 F sin 1 R1R2 1 R1R2
对 于 GM2HLA 膜 系 ，
F 尽可能小，而且尽量
R1 ＝ R2 。不过 R1 、 R2 只 有在少数几个分离的波 长上才能重合。
(4)当T0≠1，R min=1－T0 ,
R max=1－T0 /(1＋F)。
例题1 三层增透膜的结构参数为：求在参考波长处的 反射率和透过率。
第一步：以中间/2膜层为选定层，
(2)反射率曲线呈W型。
结论 (1) 通过调节间隔层的厚度 (等价于调节等效相位厚 ) 调节反射率最小的波长位置； (2)改变第一层或第三层的厚度可以改变 R1和 R2对波长
曲线的水平相对位置(等价于调节等效相位厚1、2) ，
其结果是改变低反射光谱的宽度以及整个膜系的反射
率；
(3)利用不同的折射率 n1 、n3可改变R1和R2的相对大小。
(/2~/4膜堆)多层减反膜系 多层减反膜系结构 目前大多采用的三层膜结构为 GM2HLA，更多层的
膜系大多是以此为雏形发展而来的。
GM2HLA 母膜系特性
入射 反射
/4膜层, nL /2膜层, nH /4膜层,nM
n0
ns 基质
组成: 基质折射率ns，中等折射率nM 的/4 膜层，高折射率nH 的/2膜层, 折射率 nL的/4膜层，空气折射率n0
下降。
高折射率基底的减反膜红外光谱区
常用红外基底材料：硅（n=3.5）、锗（n=4.0）、碲化铅（n= 5.5）、砷化镓（n=3.3）、砷化铟、锑化铟等。 常用增透膜材料：一氧化硅（ 8m及红外第一和第二大气窗
口3~5和8~14 m）；硫化锌（2~16 m ）；以及氧化钇、氧化
钪等。
红外减反膜设计规则遥减法 1）所用膜层厚度均为/4膜厚； 2）规定各膜层折射率从基底材料折射 率开始逐渐递减排列；
二个独立方程五个参数（三个膜层厚度+两个材料折 射率） 一般处理方式为 1）先选材料，即膜层折射率nA、nB； 2）根据方程求出膜层厚度。
宽带减反膜的设计步骤：
1）优化出一个可以达到目标的最少膜层的/4膜系
结构；
2）用三层对称膜系合成折射率不易实现的膜层；
3）再次优化膜层厚度，以补偿合成所带来的特性
多层减反膜的设计 1 ）以 GM2HLA 膜系为初始膜系，将目标设计指标输
入膜系设计软件，将膜层厚度和折射率作为可调整的
变量，由计算软件自动给出优化设计； 简单，但经常无法满足要求。 2 ）以 GM2HLA 膜系为初始膜系，将目标设计指标输 入膜系设计软件，将膜层的折射率作为固定值而将膜 层的厚度作为可调整变量，同时允许计算机在三层结
在红外区域（硅和锗基底）, R>31%
2、单层减反射膜 在入射界面上镀一层低折射率（ n0 <nf < ns ）的膜层减少反射率。
0 Y R 0 Y
2
入射
反射
n0 ns
界面
Y n2 ( / 4波长膜厚) f / ns ,
0s R 0s
f 0s
损伤光学元件。
应用：为减少光能损耗，提高成像质量，照相机、电视机、
显微镜等等中的光学镜头都镀减反膜。为尽量减弱反激光， 高功率激光系统中的透射光学元件表面也镀减反膜。
减反膜的关键技术指标 透过率： 透过率越大越好，或者反射率越小越好。 色中性好： 膜系的透过率与波长的关系曲线比较平坦。
二、常见的减反膜的结构
基质
基板 ns
G2HLA 膜系：基质 /2膜层 /4膜层空气 膜系反射率为
0 s R 0 s
2 L 2 L
2
0 s R 0 s
膜系特点：
2 L 2 L
2
1）反射率在参考波长处与/2膜层光学参数无关，等 价与一单层减反膜系； 2） R－曲线呈W型，/2膜层在偏离参考波长处影 响膜系的反射率，在参考波长两侧可望得到反射率的 极小值。
单层减反膜和多层减反膜 1、单一界面反射率
光垂直入射一光学界面
n0
入射
反射
n1
界面
2
n0 n1 1 n1 R 2 n0 n1 1 n1
n0 n0
2 2
分析：n0、n1越接近，表面反射率就越低。 eg：对于从空气入射介质场合， n0 ＝1。 n1＝1.44~1.92, R=3.25~10%（在可见和近红外区）;
3、双层减反射膜
为改善单层减反膜的不足：色中性差以及很难实现零
反射，提出双层减反膜的设计。具体结构有: 2 2 2 1）双层/4膜堆 1 3 k 2 2 4 S k为奇数 2 2） /2 ~/4膜堆 Y 2 2 3 S 1 k为偶数 2 2 2 2 4 k 1) 双层/4膜堆