IM消影玻璃镀膜技术讲解
镀膜玻璃的加工工艺

镀膜玻璃的加工工艺
嘿,朋友!你知道镀膜玻璃吗?这可是个神奇的东西,在生活中用
处大着呢!今天就来跟您唠唠镀膜玻璃的加工工艺。
先来说说清洗环节,这就好比给玻璃洗个“豪华澡”。
得把玻璃上的
灰尘、油污啥的统统弄干净,不然就像脸上有脏东西化妆会不漂亮一样,后续的加工可就麻烦啦!您想想,如果玻璃不干净,镀上去的膜
能牢固吗?
然后是镀膜材料的准备,这可不能马虎。
就好像做菜选食材,得精
挑细选,品质不好可不行。
不同的镀膜材料能赋予玻璃不同的特性,
有的能让玻璃更隔热,有的能让它更防紫外线。
接下来是关键的镀膜过程啦!这就像是给玻璃穿上一件“魔法外衣”。
通过各种高科技的手段,把镀膜材料均匀地镀在玻璃表面。
这个过程
得精细操作,稍微有点偏差,那效果可就大打折扣喽!好比裁缝做衣服,尺寸错一点,穿起来就不合身。
镀完膜还不算完,还得有个固化的环节。
这就好比新砌的墙要等水
泥干了才牢固,镀膜也得固化好才能保证质量。
在整个加工过程中,温度、湿度的控制也至关重要。
这就像人在不
同的环境里心情不一样,温度湿度不合适,加工出来的镀膜玻璃质量
也会受到影响。
还有啊,设备的维护也不能忽视。
设备就像是战士手中的枪,得时刻保持良好状态,才能打胜仗。
要是设备出了问题,那镀膜玻璃的加工不就乱套啦?
总之,镀膜玻璃的加工工艺那是相当复杂和精细的。
每一个环节都不能掉以轻心,都得像呵护宝贝一样精心对待。
只有这样,才能生产出高质量的镀膜玻璃,让我们的生活更加舒适和美好。
您说是不是这个理儿?。
玻璃纳米镀膜

玻璃纳米镀膜玻璃纳米镀膜是一种新型的表面处理技术,其原理是利用纳米材料在玻璃表面形成一层薄膜,从而实现增强玻璃的物理性能、提高光学性能、增强化学稳定性等目的。
本文将从玻璃纳米镀膜的原理、应用、优点、缺点等方面进行详细介绍。
一、玻璃纳米镀膜的原理玻璃纳米镀膜的原理是利用纳米材料在玻璃表面形成一层薄膜。
纳米颗粒具有较大的比表面积和高度的活性,因此可以在玻璃表面形成一层均匀的薄膜。
这种薄膜具有很强的附着力和耐久性,可以在玻璃表面形成一层保护层,从而增强玻璃的物理性能、提高光学性能、增强化学稳定性等目的。
二、玻璃纳米镀膜的应用玻璃纳米镀膜的应用非常广泛,主要包括以下几个方面:1、建筑玻璃玻璃纳米镀膜可以用于建筑玻璃的处理,从而实现节能降耗、控制室内温度、降低噪音、提高透光性等目的。
同时,玻璃纳米镀膜还可以增强建筑玻璃的耐久性和抗风化性能,延长其使用寿命。
2、汽车玻璃玻璃纳米镀膜可以用于汽车玻璃的处理,从而实现防紫外线、防眩光、降低车内温度、提高透光性等目的。
同时,玻璃纳米镀膜还可以增强汽车玻璃的耐磨性和抗刮擦性能,延长其使用寿命。
3、光学器件玻璃纳米镀膜可以用于光学器件的处理,从而提高其透过率、反射率和抗反射性能。
同时,玻璃纳米镀膜还可以增强光学器件的耐久性和抗腐蚀性能,延长其使用寿命。
4、电子器件玻璃纳米镀膜可以用于电子器件的处理,从而提高其导电性、抗静电性和防腐蚀性能。
同时,玻璃纳米镀膜还可以增强电子器件的耐久性和抗磨损性能,延长其使用寿命。
三、玻璃纳米镀膜的优点玻璃纳米镀膜具有以下几个优点:1、提高物理性能玻璃纳米镀膜可以增强玻璃的硬度、耐磨性和抗刮擦性能,从而延长其使用寿命。
2、提高光学性能玻璃纳米镀膜可以提高玻璃的透过率、反射率和抗反射性能,从而提高其光学性能。
3、增强化学稳定性玻璃纳米镀膜可以增强玻璃的耐腐蚀性和抗氧化性能,从而增强玻璃的化学稳定性。
4、节能降耗玻璃纳米镀膜可以降低玻璃的热传导系数和紫外线透过率,从而节能降耗。
消影玻璃简介解析

ITO消影玻璃
消影玻璃简介
Index match ITO 折射率匹配 ITO
消影玻璃是在玻璃面和ITO膜之间镀一层过 渡膜,该过渡膜在可见光区的反射率与镀 制ITO膜后的反射率接近,使ITO膜与刻蚀 区的色差减小,达到“视而不见”的效果。
消影玻璃简介—膜层结构
ITO层 IM层 GLASS
消影玻璃简介—产品比较(Reflectivity)
60欧消影
100—产品比较(Reflectivity)
IM30,ITO膜厚800A
消影玻璃简介—消影产品比较
● 面电阻越低,消影效果越差 ● 面电阻越低,消影后玻璃增透幅度越大 ● 消影玻璃在红黄光区域效应效果好,
在蓝光区效应效果不明显
消影层扫描曲线
消影层F20光学测试曲线
消影玻璃简介—测试结果
膜系组成:IM(Nb2O5/SiO2)+ITO
消影玻璃简介—常规消影产品
★ IM100/XXX 双面ITO,单面100 ohm 消影 消影面电阻80-100 ohm
★ IM80/XXX 双面ITO,单面80 ohm 消影 消影面电阻60-80 ohm
★ IM60/XXX 双面ITO,单面60 ohm 消影 消影面电阻40-60 ohm
消影玻璃简介—特点
面电阻为80-100 ohm的玻璃
透过率高—不镀消影层透过率为88.5%左右; 镀有消影层透过率为90%左右。
色 差 小—不镀消影层的ITO痕迹明显; 镀有消影层的ITO痕迹不明显。
消影玻璃简介—基本参数
1,面电阻: 80—100欧,ITO膜厚230±30A
2,反射率
波长nm
消影玻璃简介—测试结果
计量指标(IM+ITO)
镀膜玻璃原理

镀膜玻璃原理1. 介绍镀膜玻璃是将一层薄膜沉积在玻璃表面,从而改变其性质和外观的一种加工工艺。
通过镀膜处理,可以使玻璃具有抗紫外线、防眩光、隔热保温、防静电等性能,同时还可以改变玻璃的颜色和透明度。
本文将详细介绍镀膜玻璃的原理及其应用。
2. 镀膜原理2.1 蒸发镀膜法蒸发镀膜法是一种常用的镀膜方法,其原理是通过高温将需要镀膜的材料蒸发成气态,然后使其沉积在玻璃表面。
具体步骤如下:1.准备镀膜物质:选择适当的材料,将其加热至蒸发温度。
2.真空腔室:将玻璃置于真空腔室中,排除空气,以避免气体干扰。
3.蒸发源加热:将镀膜物质的蒸发源加热至蒸发温度,使其蒸发成气态。
4.沉积:镀膜物质的气体在真空环境下沉积在玻璃表面,形成薄膜。
蒸发镀膜法可以实现不同材料的镀膜,如金属薄膜、氧化物薄膜等。
2.2 离子镀膜法离子镀膜法是利用离子束轰击的原理,通过离子交换使镀膜材料沉积在玻璃表面。
具体步骤如下:1.真空腔室:将玻璃置于真空腔室中,排除空气。
2.气体净化:将真空腔室充入稀薄的惰性气体,如氩气。
3.离子束轰击:通过加入高压电源,使氩离子形成离子束轰击玻璃表面,去除表面杂质。
4.沉积:在离子束轰击的同时,加入镀膜材料的蒸发源,使其与离子发生交换反应,最终沉积在玻璃表面。
离子镀膜法可以制备高质量、高附着力的镀膜,广泛应用于光学、电子等领域。
3. 镀膜玻璃的应用3.1 抗紫外线镀膜抗紫外线镀膜是将含有抗紫外线剂的材料镀在玻璃表面,起到过滤紫外线的作用。
这种镀膜广泛应用于太阳眼镜、汽车玻璃等产品中,能够有效保护人体皮肤和眼睛免受紫外线的伤害。
3.2 防眩光镀膜防眩光镀膜是通过沉积一层微薄的金属膜,在光照射下形成干涉层,从而减少反射和散射,降低眩光。
这种镀膜广泛应用于眼镜、显示屏等产品中,能够提供更清晰的视野和更好的视觉体验。
3.3 隔热保温镀膜隔热保温镀膜是在玻璃表面形成一层具有隔热保温性能的材料,能够阻挡热传导和辐射,减少能量的损失。
镀膜玻璃的技术工艺及产品性能比较

镀膜玻璃的技术工艺及产品性能比较镀膜玻璃通过真空法或化学镀膜法等工艺方法在玻璃表面涂以金、银、鉻、钛、镍、不锈钢等金属或氧化物薄膜或非金属氧化物薄膜,或采用等离子交换方法,向玻璃表面渗入金属离子以置换玻璃表面层原有的离子而形成反射膜,制造出镀膜玻璃,它的颜色有灰色、金色、蓝色、绿色、棕色等多种颜色。
镀膜玻璃的性能原理主要是薄膜光学原理。
是利用某些薄膜材料的红外线反射性能的同时,利用薄膜在可见光谱范围的干预效应,通过对薄膜厚度的调整,既到达热反射功能又可形成所需的反射颜色。
镀膜玻璃的生产工艺有:蒸发式镀膜、溶胶凝胶式镀膜、在线喷涂热分解式镀膜、真空阴极磁控溅射镀膜等工艺方法。
但目前,国内外用于商业化生成大面积(7㎡以上)镀膜玻璃的工艺方法,首推真空阴极磁控溅射镀膜和在线喷涂热分解式镀膜,其中采用真空阴极磁控溅射镀膜工艺生产的热反射镀膜玻璃时目前国际上生产大面积镀膜玻璃的最先进的工艺方法。
下面重点就在线喷涂热分解式镀膜、真空阴极磁控溅射镀膜工艺分别开展介绍:在线喷涂热分解式镀膜是在浮法玻璃的退火前区,在线热反射镀膜是在玻璃上表面喷涂有机金属化合物,玻璃的高温使有机金属化合物在空气中分解为金属氧化物,从而形成薄膜,可以喷涂多层膜,但光学性能控制比较困难,产品属于硬膜系列,膜面可向内或向外使用,产品能切割、磨边、钻孔,也可以开展热处理,可单片使用,但光学性能差,产品种类极少。
在线低辐射Low-E镀膜是将液体金属粉末直接喷射到热玻璃表面上,随着玻璃的冷却,金属膜层成为玻璃的一部分。
因此该膜层属于硬膜系。
产品可以热弯、钢化,可以长期储存。
它的缺点是热学性能比较差,除非膜层比较厚,否则其“U”值只是溅射法Low-E镀膜玻璃的一半。
如欲通过增加膜厚来改善其热学性能,那么其透明性就非常差。
真空阴极磁控溅射镀膜又称离线镀膜是目前国际上生产大面积镀膜玻璃的最先进工艺方法,比传统的镀膜方法在产品至来年高、功能、劳动生产率、成本等方面有显著的改良。
玻璃镀膜工艺流程

玻璃镀膜工艺流程玻璃镀膜工艺流程是指将薄膜材料沉积在玻璃表面,以增加其光学性能和功能。
下面我将介绍一下玻璃镀膜工艺流程的步骤。
第一步是玻璃的清洗。
在进行镀膜之前,玻璃表面必须要彻底清洁,以去除污垢、油脂和灰尘。
首先使用溶液清洗去除表面的杂质,之后使用纯水冲洗。
这样可以确保玻璃表面干净无尘。
第二步是玻璃的预处理。
在进行镀膜之前,需要对玻璃进行预处理,以提高其表面的粗糙度,增强与薄膜的附着力。
常用的预处理方法有砂化、酸洗和蒸发法。
其中,砂化是通过喷砂的方式使玻璃表面粗糙,酸洗是使用酸性溶液处理玻璃表面,蒸发法是通过将金属材料加热蒸发沉积在玻璃表面。
第三步是薄膜材料的沉积。
在沉积过程中,薄膜材料被加热至高温状态,以使其处于气态。
然后,通过真空装置将薄膜材料沉积在玻璃表面。
常见的薄膜材料有氧化钢、二氧化硅等。
第四步是薄膜的固化。
在薄膜材料沉积后,需要对其进行固化,以提高膜层的耐久性和稳定性。
常用的固化方式有热处理和辐射固化。
热处理是将镀膜表面加热至一定温度,使薄膜材料在表面形成化学键,从而增加其附着力和耐磨性。
辐射固化是指使用紫外线照射薄膜材料,通过光引起的化学反应将其固化。
最后一步是对镀膜玻璃进行检验和包装。
在完成镀膜后,需要对镀膜玻璃进行检验,以确保其质量符合要求。
常见的检验方法有目测检验和光谱测量。
目测检验是通过观察镀膜玻璃的外观来检查其表面质量。
光谱测量是通过测量镀膜玻璃的透射谱和反射谱来检验其光学性能。
最后,对符合要求的镀膜玻璃进行包装,以保证其运输和使用过程中不受损。
以上就是玻璃镀膜工艺流程的主要步骤。
通过这些步骤的操作,可以得到具有优良光学性能和功能的镀膜玻璃,广泛应用于建筑、汽车、光学仪器等领域。
镀膜玻璃的技术原理

镀膜玻璃的技术原理
镀膜玻璃是在玻璃表面涂覆一层薄膜,这层薄膜可以具有不同的功能,如防反射、隔热、隔音等。
其技术原理主要有以下几点:
1. 蒸镀法:通过在真空环境下,将金属或化合物材料加热至升华或熔化状态,然后以极高速度沉积在玻璃表面。
该方法主要适用于金属膜的制备。
2. 离子镀法:利用离子束照射的方式,将金属或化合物材料加热至气化状态,然后在玻璃表面形成薄膜。
离子束的照射可以提高薄膜的致密性和附着力,使其具有较好的耐磨性和耐腐蚀性。
3. 化学镀法:通过化学反应在玻璃表面生成薄膜。
具体的方法有浸渍法、溶胶凝胶法、离子交换法等。
这些方法在制备过程中可以控制膜层的成分和结构,从而获得具有特定功能的薄膜。
薄膜的功能性质主要取决于薄膜的成分和结构。
例如,利用特定材料可以使薄膜具有高反射或低反射的特性,提高光学透光性;通过控制薄膜厚度和组成,可以实现隔热、隔音的效果。
玻璃镀膜工艺技术

玻璃镀膜工艺技术玻璃镀膜是一种常用的表面处理技术,通过在玻璃表面涂覆一层特殊的薄膜,可以改变玻璃的光学性能、物理性能以及化学性能,提高玻璃的耐磨性和抗腐蚀性。
玻璃镀膜工艺技术主要包括四个步骤:清洗、预处理、涂膜和固化。
首先是清洗步骤。
清洗是玻璃镀膜工艺中非常重要的一步,因为玻璃表面有可能存在各种杂质,如灰尘、油污、指纹等。
这些杂质会影响涂膜的附着力和均匀性。
因此,在进行玻璃镀膜前,需要将玻璃表面进行彻底的清洗。
常用的清洗方法有酸洗法、碱洗法和超声波清洗法等。
接下来是预处理步骤。
预处理是为了提高涂膜的附着力和均匀性,在清洗完玻璃表面后,需要进行预处理。
预处理的目的是形成一层覆盖玻璃表面的氧化层或化学键,以增加涂膜与玻璃表面的结合力。
常用的预处理方法有火焰喷砂、蒸汽法和等离子法等。
然后是涂膜步骤。
涂膜是玻璃镀膜工艺中最关键的步骤,通过在玻璃表面均匀涂覆一层薄膜,可以改变玻璃的性能。
常见的涂膜材料包括金属氧化物薄膜、有机薄膜和金属薄膜等。
涂膜的方式有物理镀膜和化学镀膜两种。
物理镀膜是通过真空蒸发、溅射或离子镀等方法,在玻璃表面沉积薄膜。
化学镀膜是通过在溶液中加入特定的化学物质,使其在玻璃表面沉积薄膜。
涂膜的选择根据具体应用需求和要达到的效果来决定。
最后是固化步骤。
涂膜完成后,需要对其进行固化处理,以提高薄膜的耐磨性和抗腐蚀性。
固化的方式有热处理、光照和化学反应等。
固化的温度和时间也根据涂膜材料的不同而不同,通常需要在高温下进行固化。
总结起来,玻璃镀膜工艺技术是一项复杂而重要的工艺,通过清洗、预处理、涂膜和固化四个步骤,可以在玻璃表面形成一层特殊的薄膜,改变玻璃的性能。
玻璃镀膜不仅广泛应用于建筑、汽车、电子等领域,还在光学器件、太阳能电池等高科技领域有重要应用。
随着科技的不断进步,玻璃镀膜技术也将不断提高和发展,为人们的生活和工作带来更多的便利和创新。
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消影ITO工艺指标(内控)——透过与反射
类别 400nm
≥89%
≤11.% 89.5~91%
450nm
≥89%
≤9.8% 89.5~91%
550nm
≥90%
≤9% 90.3~91%
650nm
≥90%
反射率增大,反之,偏薄则会整体下降,趋向平直,反射 率减小。 当SiO2层偏厚,反射曲线随着膜厚的增加而下降,且 450nm以下越向下弯,反射率减小。超过90nm厚度后, 400nm反而向上翘起。膜厚偏薄时,反射率增大,随着厚 度减小,450nm以下的曲线逐步向上抬高。 当两层都薄时,曲线变为从400nm向700nm倾斜;当两层 都厚时曲线从550nm处前端开始向下弯曲。
IM膜层调试 按工艺指导书参考工艺卡,设定各层使用的功率 试镀,工艺片采用0.7mm薄片,基板采用客户报 废的原基片玻璃。 F20检测薄的膜层时偏差较大,因此,第一层 NB2O5膜厚并不准确,调试过程只做光谱曲线参 考,主要依据UV2450扫描光谱曲线对照各波段 反射指标控制。
IM膜层调试 膜厚变化调整规律: 当NB2O5层膜偏厚时反射曲线会以中部为点整体上抬,
IM膜层调试(颜色控制)
颜色值控制负值范围方法: 1、当发现颜色值出现正值,说明600nm之后的 反射增加了,查看反射曲线,如反射率在控制范 围,只需将第二层膜厚减小,使反射曲线的反射 率从450nm向650nm递减,一般情况都可以纠正过 。 2、假如反射率曲线都很低,除了减少第二层膜厚 之外,第一层适当的增加膜厚。
参考附件: 正常工艺曲线
参考附件:正常工艺曲线
UV-2450曲线
参考附件:异常
SIO2偏厚
参考附件:异常
NB2O5/SIO2 两层都薄
参考附件:异常
NB2O5厚
谢谢
IM消影玻璃镀 膜技术工艺
内 容 提 要
什么是消影ITO 消影ITO的膜层结构 消影ITO的特性 消影ITO技术指标 消影ITO的工艺控制参数 IM膜层调试方法
什么是消影ITO
消影ITO玻璃: 是通过在ITO膜和玻璃之间镀上一层IM膜(INDEX
MARGIN层),使ITO玻璃在刻蚀制作电容屏线路之后,可见光波长 500nm—650nm区间,ITO层蚀刻前后反射率△R%<0.5%,减少ITO
2.
减少ITO区域和刻蚀后非ITO区域的视觉反差,使得电容屏ITO刻蚀线条变淡,提
高视觉效果。
消影ITO的膜层结构
膜层组合
ITO层 IM层 GLASS
膜系组成:IM(NB2O5/SiO2)+ITO 根据ITO阻值不同,IM层厚度也需要做不同的调整。 目前常用的消影ITO阻值为80~120Ω/□ITO膜厚范围20-27nm
区域和非ITO区域的视觉反差,使得电容屏ITO刻蚀线条变淡,线路
的图案在常光下看不见图案线条,起到消除图案的效果的IM+ITO玻 璃。
消影ITO与普通ITO比较,具备同样导电性的同时还以下优点: 1. 玻璃透过率增加,反射率减小具有AR膜功能,在同等 背光源的前提下,能通过 减少环境光影响获得更好的视觉亮度;
≤9% 90~91.5%
T% 刻蚀前 R% 刻蚀前
t% 刻蚀后
r% 刻蚀后
8~9.1%
8.3~9.5%
8.5~9%
8.3~9.0%
IM层550nm透过率最佳控制在90.5%±0.2%,反射 率控制在8.8%±0.2%。
消影ITO工艺指标——颜色指标 CIE L*a*b*范围(反射颜色) 反射550nm颜色值控制: 标准值: -1.0≤a*≤0 -3.0≤b*≤1.0 内控值: -1.0≤a*≤-0.5 -2.0≤b*≤0.5 注意:CIE L*a*b*颜色坐标值,a*与b*尽可能 控制在负值范围内,所做出来的产品颜色才保证 不会发黄。
消影ITO的工艺控制参数
靶材:NB,SiAl靶 + ITO靶(连镀) 阴极靶位:NB靶 (1个) SiAl靶(5个); ITO靶(2个) 温度设置:设定200°C--450 °C 气体及功率详细工艺根据设备不同而定
消影ITO的工艺控制参数
IM层膜厚控制:(总膜厚 75-78nm) NB2O5 4.8~6nm(DT或 康宁玻璃5.6~6.4nm) SiO2 66~7准确控制,是消 影效果的保证,设计膜系 厚度NB/6;SIO2/64;配 合ITO/24是理想的膜厚。
消影ITO的特性
透过曲线比较
普通 ITO
消影 ITO
消影ITO的特性
反射曲线比较
消影ITO的特性 1.ITO消影玻璃在λ=500~650nm范围,ITO刻蚀前 反射R%与刻蚀后反射r%的差小于0.5是最佳的消 影效果即符合公式 R% R% r % 0.5 2.CIE L*a*b*反射颜色值符合公式:(UV-2401PC)