第二章半导体物理基础知识教材
半导体物理第二章ppt课件

引进有效质量,半导体中的电子所受的外力与
加速的关系和牛顿第二定律类似。
3、引进有效质量的意义:
由
a= f
m
* n
可以看出有效质量概括了半导体内
部势场的作用,使得在解决半导体中电子在
外力作用下的运动规律时,可以不涉及半导
体内部势场的作用。
课堂练习:习题3(P58)
2.6.3 状态密度、态密度有效质量、电导有效质量
近出现了一些空的量子状态,在外电场的作用下, 停留在价带中的电子也能够起导电的作用,把价带 中这种导电作用等效于把这些空的量子状态看做带 正电荷的准粒子的导电作用,常称这些空的量子状 态为空穴
2.3.2 金属、半导体、绝缘体的能带
2.4 半导体的带隙结构
间接能隙结构—即价带的最高 点与导带的最低点处于K空间 的不同点
3、 测不准关系
当微观粒子处于某一状态时,它的力学量(坐 标、动量、能量等)一般不具有确定的数值。
如: p g xh 同 一 粒 子 不 可 能 同 时 确 定 其 坐 标 和 动 量
测不准原理告诉我们,对微观粒子运动状态分 析,需用统计的方法。
4、 波函数
波函数 r ,t 描述量子力学的状态
= hk m
h2k 2 E
2m
对于波矢为k的运动状态,自由电子的能量E和动
量P,速度v均有确定的数值,因此,波矢量 k可
用以描述自由电子的运动状态,不同的k值标致
自由电子的不同状态。
6、 单原子电子
电子的运动服从量子力学,处于一系列特定的 运动状态---量子态,要完全描述原子中的一个电 子的运动状态,需要四个量子数。
氧的电子组态表示的意思:第一主轨道上有两个电子 ,这两个电子的亚轨道为s,(第一亚层);第二主轨 道有6个电子,其中有2个电子分布在s 亚(第一亚层) 轨道上,有4个电子分布在p亚轨道上(第二亚层)
半导体器件物理2精品PPT课件

线性缓变结:在线性区 N (x) ax
2.1 热平衡PN结
2.1 热平衡PN结
p
EC
EF EV
n
EC EF EV
p
漂移
p
扩散
n
E
扩散 q0
EC
n
EF
Ei
EV 漂移
(a)在接触前分开的P型和N型硅的能带图 图2-3
(b)接触后的能带图
2.1 热平衡PN结
p 型电中性区
边界层
边界层
耗尽区
n 型电中性区
• 由P型半导体和N型半导体实现冶金学接触(原子级接 触)所形成的结构叫做PN结。
• 任何两种物质(绝缘体除外)的冶金学接触都称为结 (junction),有时也叫做接触(contact).
引言
• 由同种物质构成的结叫做同质结(如硅),由不同 种物质构成的结叫做异质结(如硅和锗)。由同种 导电类型的物质构成的结叫做同型结(如P-硅和P型硅、P-硅和P-型锗),由不同种导电类型的物质 构成的结叫做异型结(如P-硅和N-硅、P-硅和N- 锗)。因此PN结有同型同质结、同型异质结、异型 同质结和异型异质结之分。广义地说,金属和半导 体接触也是异质结,不过为了意义更明确,把它们 叫做金属-半导体接触或金属-半导体结(M-S结)。
2.2 加偏压的 P-N 结
2.2 加偏压的 P-N 结
• 2.2.1加偏压的结的能带图
能量 (E )
P
N
W
(a )
q 0 EC EF
(a)热平衡,耗尽层宽 度为 W
W
P
N
V
+
能量
(E )
E Fn
E Fp
(b )
半导体物理学第二章-PPT

9
施主:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的电子, 并成为带正电的离子。如Si中的P 和As
N型半导体
半导体的掺杂
施主能级
大家好
10
2.1.3 受主杂质 受主能级
在硅中掺入3价的硼B,硼原子有3个价电子,与周围四个硅原子形成共价鍵,缺少一个电子,必须从周围获得一个电子,成为负电中心B-。硼的能级距价带能级顶部很近,容易得到电子。负电中心B-不能移动;而价带顶的空穴易于被周围电子填充,形成空穴的移动,即“导电空穴”。这种能够接受电子的杂质称之为“受主杂质”,或P型杂质。受主杂质获得电子的过程称之为“受主电离”;受主束缚电子的能量状态称之为“受主能级EA”;受主能级比价带顶EV高“电离能EA” 。
大家好
11
受主:掺入在半导体中的杂质原子,能够向半导体中提供导电的空穴, 并成为带负电的离子。如Si中的B
P型半导体
半导体的掺杂
受主能级
大家好
12
半导体的掺杂
Ⅲ、Ⅴ族杂质在Si、Ge晶体中分别为受主和施主杂质,它们在禁带中引入了能级;受主能级比价带顶高 ,施主能级比导带底低 ,均为浅能级,这两种杂质称为浅能级杂质。杂质处于两种状态:中性态和离化态。当处于离化态时,施主杂质向导带提供电子成为正电中心;受主杂质向价带提供空穴成为负电中心。
大家好
30
杂质在GaAs中的位置
替代Ⅲ族时,周围是四个Ⅴ族原子替代Ⅴ族时,周围是四个Ⅲ族原子
大家好
31
IV族元素碳、硅、锗等掺入III-V族化合物中,若取代III族元素起施主作用;若取代V族元素起受主作用。总效果是施主还是受主与掺杂条件有关。
例如,硅在砷化镓中引入一个浅的施主能级,即硅起施主作用,向导带提供电子。当硅杂质浓度达到一定程度后,导带电子浓度趋向饱和,杂质的有效浓度反而降低。
半导体器件物理教案课件

半导体器件物理教案课件PPT第一章:半导体物理基础知识1.1 半导体的基本概念介绍半导体的定义、特点和分类解释n型和p型半导体的概念1.2 能带理论介绍能带的概念和能带结构解释导带和价带的概念讲解半导体的导电机制第二章:半导体材料与制备2.1 半导体材料介绍常见的半导体材料,如硅、锗、砷化镓等解释半导体材料的制备方法,如拉晶、外延等2.2 半导体器件的制备工艺介绍半导体器件的制备工艺,如掺杂、氧化、光刻等解释各种制备工艺的作用和重要性第三章:半导体器件的基本原理3.1 晶体管的基本原理介绍晶体管的结构和工作原理解释n型和p型晶体管的概念讲解晶体管的导电特性3.2 半导体二极管的基本原理介绍半导体二极管的结构和工作原理解释PN结的概念和特性讲解二极管的导电特性第四章:半导体器件的特性与测量4.1 晶体管的特性介绍晶体管的主要参数,如电流放大倍数、截止电流等解释晶体管的转移特性、输出特性和开关特性4.2 半导体二极管的特性介绍半导体二极管的主要参数,如正向压降、反向漏电流等解释二极管的伏安特性、温度特性和频率特性第五章:半导体器件的应用5.1 晶体管的应用介绍晶体管在放大电路、开关电路和模拟电路中的应用解释晶体管在不同应用电路中的作用和性能要求5.2 半导体二极管的应用介绍半导体二极管在整流电路、滤波电路和稳压电路中的应用解释二极管在不同应用电路中的作用和性能要求第六章:场效应晶体管(FET)6.1 FET的基本结构和工作原理介绍FET的结构类型,包括MOSFET、JFET等解释FET的工作原理和导电机制讲解FET的输入阻抗和输出阻抗6.2 FET的特性介绍FET的主要参数,如饱和电流、跨导、漏极电流等解释FET的转移特性、输出特性和开关特性分析FET的静态和动态特性第七章:双极型晶体管(BJT)7.1 BJT的基本结构和工作原理介绍BJT的结构类型,包括NPN型和PNP型解释BJT的工作原理和导电机制讲解BJT的输入阻抗和输出阻抗7.2 BJT的特性介绍BJT的主要参数,如放大倍数、截止电流、饱和电流等解释BJT的转移特性、输出特性和开关特性分析BJT的静态和动态特性第八章:半导体存储器8.1 动态随机存储器(DRAM)介绍DRAM的基本结构和工作原理解释DRAM的存储原理和读写过程分析DRAM的性能特点和应用领域8.2 静态随机存储器(SRAM)介绍SRAM的基本结构和工作原理解释SRAM的存储原理和读写过程分析SRAM的性能特点和应用领域第九章:半导体集成电路9.1 集成电路的基本概念介绍集成电路的定义、分类和特点解释集成电路的制造工艺和封装方式9.2 集成电路的设计与应用介绍集成电路的设计方法和流程分析集成电路在电子设备中的应用和性能要求第十章:半导体器件的测试与故障诊断10.1 半导体器件的测试方法介绍半导体器件测试的基本原理和方法解释半导体器件测试仪器和测试电路10.2 半导体器件的故障诊断介绍半导体器件故障的类型和原因讲解半导体器件故障诊断的方法和步骤第十一章:功率半导体器件11.1 功率二极管和晶闸管介绍功率二极管和晶闸管的结构、原理和特性分析功率二极管和晶闸管在电力电子设备中的应用11.2 功率MOSFET和IGBT介绍功率MOSFET和IGBT的结构、原理和特性分析功率MOSFET和IGBT在电力电子设备中的应用第十二章:光电器件12.1 光电二极管和太阳能电池介绍光电二极管和太阳能电池的结构、原理和特性分析光电二极管和太阳能电池在光电子设备中的应用12.2 光电晶体管和光开关介绍光电晶体管和光开关的结构、原理和特性分析光电晶体管和光开关在光电子设备中的应用第十三章:半导体传感器13.1 温度传感器和压力传感器介绍温度传感器和压力传感器的结构、原理和特性分析温度传感器和压力传感器在电子测量中的应用13.2 光传感器和磁传感器介绍光传感器和磁传感器的结构、原理和特性分析光传感器和磁传感器在电子测量中的应用第十四章:半导体器件的可靠性14.1 半导体器件的可靠性基本概念介绍半导体器件可靠性的定义、指标和分类解释半导体器件可靠性的重要性14.2 半导体器件可靠性的影响因素分析半导体器件可靠性受材料、工艺、封装等因素的影响14.3 提高半导体器件可靠性的方法介绍提高半导体器件可靠性的设计和工艺措施第十五章:半导体器件的发展趋势15.1 纳米晶体管和新型存储器介绍纳米晶体管和新型存储器的研究进展和应用前景15.2 新型半导体材料和器件介绍石墨烯、碳纳米管等新型半导体材料和器件的研究进展和应用前景15.3 半导体器件技术的未来发展趋势分析半导体器件技术的未来发展趋势和挑战重点和难点解析重点:1. 半导体的基本概念、分类和特点。
半导体物理基础(准费米能级)

第二章半导体物理基础一般而言,制作太阳能电池的最基本材料是半导体材料,因而本章将介绍一些半导体物理的基本知识,包括半导体中的电子状态和能带、本征与掺杂半导体、pn结以及半导体的光学性质等内容。
一、半导体中的电子状态和能带1、原子的能级和晶体的能带(m)一般的晶体结合,可以概括为离子性结合,共价结合,金属性结合和分子结合(范得瓦尔斯结合)四种不同的基本形式。
晶体的结合形式半导体材料主要靠的是共价键结合。
饱和性:一个原子只能形成一定数目的共价键;方向性:原子只能在特定方向上形成共价键;共价键的特点:电子的共有化运动当原子相互接近形成晶体时,不同原子的内外各电子壳层之间就有一定程度的交叠,相邻原子最外层交叠最多,内壳层交叠较少。
原子组成晶体后,由于电子壳层的交叠,电子不再完全局限在某一原子上,可以由一个原子转移到相邻的原子上去,因而,电子可以在整个晶体中运动,这种运动称为电子的共有化运动。
电子只能在相似壳层间转移;最外层电子的共有化运动最显著;当两个原子相距很远时,如同两个孤立的原子,每个能级是二度简并的。
当两个原子互相靠近时,每个原子中的电子除了受到本身原子势场的作用,还要受到另一个原子势场的作用,其结果是每一个二度简并的能级都分裂为二个彼此相距很近的能级,两个原子靠得越近,分裂得越厉害。
当N个原子互相靠近形成晶体后,每一个N度简并的能级都分裂成N个彼此相距很近的能级,这N 个能级组成一个能带,这时电子不再属于某一个原子而是在晶体中作共有化运动。
分裂的每一个能带都称为允带,允带之间因没有能级称为禁带。
所有固体中均含有大量的电子,但其导电性却相差很大。
量子力学与固体能带论的发展,使人们认识到固体导电性可根据电子填充能带的情况来说明。
2、金属、绝缘体与半导体固体能够导电,是固体中电子在外电场作用下作定向运动的结果。
由于电场力对电子的加速作用,使电子的运动速度和能量都发生了变化。
也就是说,电子与外电场间发生了能量交换。
半导体物理第二章(1)

速度饱和效应的物理解释 在强电场作用下,载流子直接从电场获取能量,并传给晶格。 此过程稳定后,载流子平均动能高于晶格的平均动能,也高 于另电场作用下的动能。即成为 热载流子。
根据运动电子速度与温度的关系
(2.1.23) 及其速度与迁移率的关系 (2.1.24)
可将电子迁移率表示为电子温度的函数,即
j q ( pn 0 DP /τ
p
n p 0 Dn /τ n )(e qu / kt 1)
式中,pn0和np0分别代表pn结n区和p区的热平衡少数载流 子密度,Dp、Dn和Ʈp、Ʈn分别代表它们的扩散系数和寿 命。上式表明,双极器件的电流控制能力受制于少数载流 子的扩散系数,而载流子的扩散系数与迁移率之间通过爱 因斯坦关系D=µkt/q相联系。在确定温度下,扩散系数的 大小由迁移率唯一决定。
式中,Wb为n基区的宽度。
由于晶体管的截止频率正比于渡越时间,渡越时间与 迁移率正比。 则:晶体管的截止频率与其基区材料的载流子的迁移 率成正比。
载流子迁移率大小的影响因素 众所周知,在非零温度和零电场条件下,半导体中 的自由载流子作着无规热运动,尽管其热速度可能 很高,但其宏观位移为零;当外加一非零电场于半 导体之上时,其中的载流子将从电场获得沿电场方 向或反电场方向的加速度,但其漂移速度并不会随 着时间的推移而无限累积,而是保持在一个与电场 大小有关的定值。 这里,散射对载流子的运动方 式起着重要作用。在电场不是很强的情况下,裁流 子的平均漂移速度与电场大小成正比。其比例常数 即迁移率。显然,迁移率的大少与散射机构有关。
在实际应用中,萨支唐等曾提出过一个比较简单的模型来描述 仅考虑电离杂质散射时硅中载流子的迁移牢同温度和电离杂质 浓度的关系,其形如:
在实际应用中,可以使用如下具有普遍适用性的经验公式来 计算不同温度T和不同掺杂浓度(ND十NA)条件下的半导体材 料中载流于迁移率:
半导体物理 第二章 PN结 图文

国家级精品课程——半导体器件物理与实验
第二章 PN结
引言
4-4 外延工艺:
外延是一种薄膜生长工艺,外延生长是在单晶衬底上沿晶体 原来晶向向外延伸生长一层薄膜单晶层。
外延工艺可以在一种单晶材料上生长另一种单晶材料薄膜。
外延工艺可以方便地形成不同导电类型,不同杂质浓度,杂 质分布陡峭的外延层。
外延技术:汽相外延(PVD,CVD)、液相外延(LPE)、分 子束外延(MBE)、热壁外延(HWE)、原子层外延技术。
硅平面工艺的主体
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第二章 PN结
引言
4-1 氧化工艺:
1957年,人们发现硅表面的二氧化硅层具有阻止杂质向硅内 扩散的作用。这一发现直接导致了氧化工艺的出现。 二氧化硅薄膜的作用: (1)对杂质扩散的掩蔽作用; (2)作为MOS器件的绝缘栅材料; (3)器件表面钝化作用; (4)集成电路中的隔离介质和绝缘介质; (5)集成电路中电容器元件的绝缘介质。 硅表面二氧化硅薄膜的生长方法: 热氧化和化学气相沉积方法。
N(x) (a)
Na
Nd xj
(b) -a(x - xj)
引言
扩 SiO2 散 结 N-Si
杂质扩散
P
N-Si
N-Si
由扩散法形成的P-N结,杂质浓度从P区到N区是
逐渐变化的,通常称之为缓变结,如图所示。设 P-N结位置在x=xj处,则结中的杂质分布可表示为: x
Na Nd (x xj), Na Nd (x xj)
Al
液体
Al
P
N-Si
N-Si
N-Si
把一小粒铝放在一块N型单晶硅片上, 加热到一定温度,形成铝硅的熔融体, 然后降低温度,熔融体开始凝固,在N 型硅片上形成含有高浓度铝的P型硅薄 层,它和N型硅衬底的交界面即为P-N 结(称之为铝硅合金结)。
半导体物理学第二章

2.1 硅、锗中的杂质能级
当杂质进入半导体以后, Q: 当杂质进入半导体以后,分布在什 么位置? 么位置?
以硅为例,在一个晶胞中包含8个硅原子,若 以硅为例,在一个晶胞中包含8个硅原子, 近似把原子看成半径是r的圆球,那么这8 近似把原子看成半径是r的圆球,那么这8个原子 占据晶胞的百分数为: 占据晶胞的百分数为:
金在锗中的能级
2.2 三-五族化合物中的杂质能级
和硅、锗一样,当杂质进入三- 和硅、锗一样,当杂质进入三-五族 化合物中, 化合物中,仍然是间隙式杂质和替位 式杂质,不过具体情况更为复杂些。 式杂质,不过具体情况更为复杂些。
杂质既可以取代三族元素, 杂质既可以取代三族元素,也可以取 代五族元素。
间隙原子和空位一方面不断地产生同时两 者又不断地复合,最后确立一平衡浓度值。 者又不断地复合,最后确立一平衡浓度值。 以上两种由温度决定的点缺陷又称为热 缺陷,总是同时存在的。 缺陷,总是同时存在的。 由于原子须具有较大的能量才能挤入间隙 位置,以及它迁移时激活能很小, 位置,以及它迁移时激活能很小,所以晶体 中空位比间隙原于多得多, 中空位比间隙原于多得多,因而空位是常见 的点缺陷。 的点缺陷。
半导体物理学
理学院物理科学与技术系
第二章 半导体中杂质和缺陷能级
2.1 2.2 2.3 硅、锗中的杂质能级 三-五族化合物中的杂质能级 缺陷、位错能级 缺陷、
在实际应用的半导体材料中, 在实际应用的半导体材料中,总是存在 偏离理想的情况。 偏离理想的情况。
1)原子并不是静止的; 原子并不是静止的; 原子并不是静止的 2)半导体材料并不是纯净的 半导体材料并不是纯净的; 半导体材料并不是纯净的 3)晶格结构存在缺陷。 晶格结构存在缺陷。 晶格结构存在缺陷
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原理和泡利不相容原理
16
每个单量子态< n, l , ml , ms >最多能容纳一个电子或者 是空的即不被电子占据。 根据以上理论,在热平衡下,每个能量为E的量子 态被一个电子占据的几率为:
1 fn (E) 1 exp[( E EF ) / k BT ]
2.26
fn(E) 称为电子的费米分布函数,kB、T 分别为波耳兹曼 常数和热力学温度。EF 称为费米能级,它与物质的特性有关。
区别: 具有六方对称性,而非立方对称性 共价键的离子性更强
—— 硫化锌、硒化锌、硫化镉、硒化 镉等材料均可以闪锌矿型和纤锌矿型 两种结构结晶。
4
能带的形成
•原子中的电子在原子核周期势场和其他电子作用下,分列在不同能级,形成电子壳 层(轨道) •不同支壳层电子用1s 2s 2p 3s 3p 3d 4s 4p 4d 4f …等符号表示,对应确定能量 •原子组成晶体后,由于电子壳层的交叠,电子并不完全局限于某一个原子中,在整 个晶体中自由运动,形成电子的共有化运动
费米分布函数(Fermi-Dirac Distribution Function) 半导体中的载流子(电子或空穴)是带电的, 能量是量子化的,其运动规律、分布状态服从量子 统计理论。 量子统计理论认为: ⅰ同一系统中的电子(或空穴)是全同的,不可分 辨的,任意两个电子交换,并不引起新的微观状态。 ⅱ电子(或空穴)在量子态中的分布服从能量最小
8
E
空带
E
导 带 禁 带 价 带
E
空带
Eg
导带
半满带
Eg
禁带 价带
导带 价带
半满带
绝缘体
半导体
导体
9
10
11
12
13
14
(2)费米原理与费米能级
费米(意大利 1901~1954 ) 1938获得诺贝尔物理学奖 发错的诺贝尔奖
物质中的电子在不断地 作无规则的运动,它们 可 以从较低的能级跃迁到 较 高的能级,也可以从较 高 的能级跃迁到较低的能级。 就一个电子来看,所具 有 的能量时大时小,不断 地 变化,但从大量电子的 统 计规划来看,电子按能 量 大小的分布却有一定规律。 因而我们只能从大量电 子 的统计规律来衡量每个 能 级被电子占据的可能性。 15
费米分布函数的意义2 1 1 fn (E) E EF , 2 1 T>0K时: E EF , f n ( E ) (且与T ) 无关 2 1 E EF , f n ( E ) 0 2
由图看到: ⅰE EF 时,
T fn ( E) , 即T↑,电子 占据高能态的几率↑, 占据低能态的几率↓。
故在热力学温度为零度时,费米能级EF可以 看成量子态是否被电子占据的一个界限
18
4.1半导体中的能带
上述结果说明,当系统温度高于热力学零度时,如果量子态 的能量低于费米能级,则该量子态被电子占据概率大于50%;
如果量子态的能量高于费米能级,则该量子态被电子占据概 率小于50%; 当量子态的能量等于费米能级,则该量子态被电子占据概率 19 等于50%。
与金刚石结构的区别:
共价键具有一定的极性(两类原子的电负性不同),因此晶体不同晶面的性质不同。
不同双原子复式晶格。
常见闪锌矿结构半导体材料
Ⅲ-Ⅴ族化合物(GaN, GaAs, AlN)
部分Ⅱ-Ⅵ族化合物,除硒化汞,碲化汞为半金属材料。
As
Ga
3
纤锌矿型结构
——与闪锌矿型结构相比
相同点: 以正四面体结构为基础构成
共有化运动就会形成能级的分裂
5
能带特点:
分裂的每一个能带称为允 带,允带间的能量范围称 为禁带; 内层原子受到的束缚强, 共有化运动弱,能级分裂 小,能带窄; 外层原子受束缚弱,共有 化运动强,能级分裂明显, 能带宽。
6
(1)半导体中的能带 当很多原子结合在一起时,所有电子的能级分 裂的结果,形成一组密集的能级带,简称能带。用 电子能量来衡量,半导体中能带可分为价带、导带 和禁带(又称为带隙)。
1
典型半导体的晶体结构
硅、锗:共价半导体 硅、锗晶体结构:金刚石结构
金刚石结构
每个原子周围有四个最邻近的原子,这四 个原子处于正四面体的顶角上,任一顶角 上的原子和中心原子各贡献一个价电子为 该两个原子所共有,并形成稳定的共价键 结构。
ห้องสมุดไป่ตู้
共价键夹角:109˚28’
2
闪锌矿结构
结晶学原胞结构特点:
两类原子各自组成面心立方晶格,沿空间对角线方向彼此位移四分之一空间对 角线长度套构而成。
a
电子受到周期性势场的作用。
能级被电子占据的概率满足费米分布函数
7
价带、导带和禁带
价带:是价电子能级分裂出来的价电子能带。当 晶体处于绝对零度和无外界激发时,价电子完全 被共价健束缚住,此时价带是满带且是不导电的。 导带:半导体内部自由运动的电子(简称自由电子) 所填充的能带(是电子部分占满的能带,当有自 由电子时,它们在外电场作用下就能参与导电 ) 称为导带;导带是自由电子能带。在没有自由电 子的情况下,这个能带是空带。 禁带(带隙):在价带和导带之间不允许电子填 充的空隙,称为禁带或带隙。
E f B ( E ) A exp k T B
E EF f ( E ) exp kBT EF exp A, 并将f ( E )记为f B ( E )则, EF E k T exp exp B k T B k BT
17
4.1半导体中的能带
费米分布函数的意义1 电子占据不同能级的几率: T=0K时, E EF , f n ( E ) 1 E小于EF E EF , f n ( E ) 0 E大于EF 前者表示小于 EF 的量子态全被电子占据, 后者表示大于 EF 的量子态全空着。
ⅱ E EF 时,
1 f n ( E ) 与温度无关。 2
图3-3 电子的费米分布函数
20
费米分布函数的意义3 波耳兹曼分布
1 fn (E) 1 exp[( E EF ) / k BT ]
2.26
在( 2.26 )式中,当 E-EF >> kBT 时,由于 (EEF)/kBT >> 1 , 费米分布函数就转化为波耳兹曼分 布: