低温等离子体对材料的表面改性

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低温等离子体技术在材料表面改性中的应用

低温等离子体技术在材料表面改性中的应用

低温等离子体技术在材料表面改性中的应用随着科技的不断进步,材料表面改性技术在材料科学和工程领域日益受到重视。

其中,低温等离子体技术作为一种有效的材料表面改性工具,在提高材料性能、增加材料多功能性方面发挥着重要作用。

低温等离子体技术是利用非平衡等离子体来对材料表面进行改性的一种方法。

与传统的高温等离子体技术相比,低温等离子体技术具有能耗低、处理速度快、不会造成材料结构变化等优势,因此在材料表面改性中得到广泛应用。

首先,低温等离子体技术可通过对材料表面的清洗和活化来增加材料的粘附性和润湿性。

等离子体源中的活性基团和活性物种能够清除材料表面的有机物、氧化物等污染物,从而提高材料表面的纯净度。

同时,等离子体源中的活性基团还能够使材料表面产生化学键,增加材料表面与涂层或粘合剂之间的相互作用力,进而提高材料粘附性和润湿性。

其次,低温等离子体技术可用于提高材料的硬度和耐磨性。

通过在材料表面形成硬质薄膜,低温等离子体技术能够有效提高材料的硬度和耐磨性。

例如,用含有氮、碳或硅等原子的等离子体源处理金属材料表面,可以在材料表面形成金属氮化物、碳化物或硅化物薄膜,从而显著提高材料硬度和耐磨性。

此外,低温等离子体技术还能够改善材料的耐腐蚀性能。

等离子体源中的活性基团和活性物种能够与材料表面发生化学反应,形成防护层,从而减少材料与腐蚀介质的直接接触。

通过选择合适的等离子体源和处理条件,可以在材料表面形成致密、均匀的氧化膜或氟碳膜等,提高材料的耐腐蚀性能。

此外,低温等离子体技术还可用于改善材料的光学性能和电子性能。

通过在材料表面形成各种功能性纳米结构,低温等离子体技术可以调控材料的光学吸收、反射和透过性能。

例如,通过在聚合物薄膜表面形成纳米柱阵列,可以实现超黑色材料或光传感器。

此外,低温等离子体技术还可以在材料表面形成导电薄膜,提高材料的导电性能,用于制备电子器件和光电器件。

在实际应用方面,低温等离子体技术已经在材料领域取得了一定的突破。

等离子体表面改性技术(报告)

等离子体表面改性技术(报告)

等离子体表面改性技术……吴师妹整理I前沿材料表面处理技术是U前材料科学的前沿领域,利用它在一些表面性能差和价格便宜的基材表面形成合金层,取代昂贵的整体合金,节约贵金属和战略材料,从而大幅度降低成本。

科学技术和现代工业的发展,对摩擦、磨损、腐蚀和光学性能优异的先进材料的需要日益增长,这导致了整个材料表面改性技术的发展与进步,其中等离子体表面改性技术发挥了重要作用。

等离子表面处理因其性能的优势和低廉的成本已成为材料科学领域最活跃的研究方向之一。

2等离子体表面改性的原理等离子体是一种物质能量较拓的聚集状态,它的能量范用比气态、液态、固态物质都高,被称为物质的笫四态,存在具有一定能量分布的电子、离子和中性粒子,在与材料表面的撞击时会将自己的能量传递给材料表面的分子和原子,产生一系列物理和化序过程。

一些粒子还会注入到材料表面引起碰撞.散射、激发、重排、异构、缺陷、晶化及非晶化,从而改变材料的表面性能。

3等离子体表面改性技术的种类根据温度不同,等离子体可分为拓温等离子体和低温等离子体(包括热等离子体和冷等离子体)。

高温等离子体的温度高达10&K〜10吆,在太阳表面、核聚变和激光聚变中获得。

. 丘/体一般为稠离子体,冷等离子体一般为稀薄等离子体。

在材料表面改性技术中,溅射、离子镀、离子注入、等离子化学热处理丄艺应用的是在低压条件下放电产生的低压(冷)等离子体,而等离r 喷涂、等离r淬火及多元共渗相•化、等离子熔覆価冶金等工艺中应用的是低温等离子体中的稠密热等离子体,通常指压缩电弧等离子束流。

3.1低压(冷)等离子体表面处理技术近年来,低压等离子体在表面镀膜、表面改性及表面聚合方面发挥着越来越重要的作用。

3.1.1溅射和离子镀溅射镀膜是基于离子轰击靶材时的溅射效应,采用的最简单装置是直流二极溅射,其它类型的溅射设备有射频溅射磁控溅射、离子束溅射等,其中磁控溅射山于沉积速率高,是U前工业生产应用最多的一种。

氧气低温等离子体对PBO纤维的表面改性

氧气低温等离子体对PBO纤维的表面改性
进 行 S M 分析 。 E
1 1 原 料 .
P O纤维 : 号 为 Z L N A ( 通 型 )日本 B 牌 YO S普 东 洋纺公 司产 ; P S8 8环 氧树 脂 : 国 S el E O 2 英 h l公 司产 ; 5 X 6 0固化剂 ( 聚酰 胺 6 0 : 5 ) 湖南 湘 潭 化 工
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及 P O纤 维 与环 氧树脂 的 7 。 B -
作 者进 一步 探讨 了反 应性气 体 氧气低 温 等离子 体
改性 过 程 中 的工 艺 条 件 对 P O 纤 维 与环 氧 树 脂 B
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作 为树 脂基 复 合 材 料 增 强 材 料 的 关 键 问 题 。 。 本课题 组在 前期 的工 作 中着重 研究 了非 反应性 气 体氩气 低 温等离 子对 P O纤维 的表 面 改性 B 。
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低温等离子处理的原理是

低温等离子处理的原理是

低温等离子处理的原理是
低温等离子处理是一种利用等离子体技术进行材料表面处理的方法。

等离子体是一种电离气体,其中包含了带有正电荷的离子和自由电子。

在低温等离子处理中,通常使用的是载有能量的电子、离子和光子。

这些高能粒子会与材料表面相互作用,引起化学和物理反应,从而改变表面的性质。

低温等离子处理的原理包括以下几点:
1. 等离子体的生成:在低温等离子处理中,首先需要生成等离子体。

通常采用射频或微波辐射来激发气体,从而将其转化为等离子体。

等离子体的生成需要在较低的温度下进行,因此称之为低温等离子处理。

2. 与表面的相互作用:一旦生成等离子体,其中的电子和离子会与材料表面相互作用。

这些高能粒子会穿透表面并与其相互作用,从而引起表面原子和分子的变化。

3. 改变表面性质:等离子体中的高能粒子会引起表面的化学反应和结构变化,从而改变材料的性质。

这些变化可以包括增加表面的粗糙度、提高表面的耐磨性、改善润湿性等。

4. 薄膜沉积:在一些情况下,低温等离子处理可以用于沉积薄膜。

通过控制等离子体中物种的种类和浓度,可以在材料表面沉积出具有特定功能的薄膜,如陶
瓷薄膜、金属镀层等。

总的来说,低温等离子处理是一种利用等离子体技术对材料表面进行改性的方法。

通过控制等离子体的生成和参数,可以实现对材料表面性质的精确调控,从而得到具有特定功能的材料表面。

这种方法在材料加工、涂层制备、表面改性等方面有着广泛的应用前景。

低温等离子体表面处理技术与应用研究

低温等离子体表面处理技术与应用研究

低温等离子体表面处理技术与应用研究低温等离子体表面处理技术是一种新兴的材料改性和表面工程技术,它利用等离子体在低温条件下对材料表面进行化学反应,实现表面物理性能和化学性能的改善。

这项技术广泛应用于材料加工、电子器件制备、涂层制备等领域。

本文将介绍低温等离子体表面处理技术的原理、方法和应用研究。

一、低温等离子体表面处理技术的原理和方法低温等离子体表面处理技术的原理是通过利用等离子体的活性物种对材料表面进行改性处理。

等离子体是离子和电子的高度电离气体,由气体放电或辐射电离产生。

在低温条件下,含有活性物种的等离子体与材料表面发生化学反应,形成新的物质或修饰表面性能,从而实现表面的改善。

低温等离子体的产生可以通过不同的方式实现,如射频放电、微波放电、电子轰击等。

根据不同的表面处理要求,可以选择不同的等离子体激发方式。

在低温等离子体表面处理过程中,还可以添加适当的反应气体,以调节等离子体的活性和化学反应的方向。

低温等离子体表面处理技术的方法主要包括等离子体刻蚀、等离子体辅助化学气相沉积、等离子体增强物理沉积以及等离子体功能化修饰等。

等离子体刻蚀是将等离子体刻蚀剂与材料表面发生化学反应,以去除和调控表面的杂质或形成纳米结构。

等离子体辅助化学气相沉积是将等离子体激发的活性物种与气相反应物反应,在材料表面上沉积出功能性薄膜。

等离子体增强物理沉积是在等离子体的辐照下,将气相物质通过凝结或降解的方式直接沉积到材料表面。

等离子体功能化修饰是通过等离子体与表面材料的反应,改变表面化学成分和分子结构,以调控材料的性能和功能。

二、低温等离子体表面处理技术的应用研究1. 材料加工领域在材料加工领域,低温等离子体表面处理技术被广泛应用于提高材料的附着力、磨损性能、耐蚀性、疲劳寿命等方面。

例如,在汽车制造中,使用低温等离子体处理技术可以在金属表面形成陶瓷涂层,增加材料硬度和耐磨性,提高车辆的使用寿命。

另外,低温等离子体表面处理技术还可以应用于金属切削加工中的刀具涂层制备,提高刀具的耐磨性和切削性能。

低温等离子体技术在化学合成中的应用

低温等离子体技术在化学合成中的应用

低温等离子体技术在化学合成中的应用随着科技的不断发展,人们对于新兴技术的探索和应用也越来越广泛。

低温等离子体技术就是其中的一种,在化学合成中具有重要的应用价值。

低温等离子体技术的基本原理是将气体分子通过电离产生等离子体,经过电磁场的作用,等离子体内的带电粒子被加速和高速碰撞,使带电粒子能量和速度增加,形成高能量电子、阳离子和阴离子等,从而引发一系列离子化反应。

化学合成中,低温等离子体技术的主要应用在于对无机物和有机物的控制和改性。

其中,对化学反应过程中的催化剂、催化剂合成和表面改性等方面的应用尤为重要。

催化剂广泛应用于化学反应中,低温等离子体技术能够通过对催化剂的改性,提高其表面活性和反应选择性。

以纳米银为例,利用低温等离子体技术可以在其表面引入氮功能基团,从而增加反应活性,提高其对苯环的选择性。

在催化剂合成方面,低温等离子体技术可以替代传统工艺中的高温煅烧、还原等工艺,提高催化剂的结构和性能。

例如,利用等离子体技术合成的复合催化剂,其催化剂能够均匀地分散在载体上,进而使得反应活性更高,耐久性更好。

此外,低温等离子体技术还广泛应用于表面改性领域。

化学合成中的表面改性是利用化学处理或物理方法使材料表面结构和性质发生改变,并进而改变其特性。

以表面涂层改性为例,该技术需要涂覆粘合剂和层压材料,从而将其结合在表面上。

而低温等离子体技术则是通过等离子体发生的离子化反应改变表面材料的化学性质,以达到改性材料表面的目的。

总之,低温等离子体技术在化学合成中具有广泛的应用价值。

无论是对催化剂的改性、催化剂的合成,还是对表面的改性等方面,低温等离子体技术都能够为化学合成提供有效的解决方案。

未来,随着科技的不断发展,我们相信低温等离子体技术将会有更加广泛的应用场景,为人们的生活和产业发展带来更多的可能性。

低温等离子体技术在材料表面改性中的应用

低温等离子体技术在材料表面改性中的应用
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低温 等离 子 体 技 术 在 材料 表 面 改 性 中 的应 用
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低温等离子体技术在材料表面改性中的应用

低温等离子体技术在材料表面改性中的应用

低温等离子体技术在材料表面改性中的应用引言修饰材料的表面,能够显著提高材料的性能和性质,依托于这一理念,低温等离子体技术应运而生,成为表面修饰的一种重要手段。

与传统的化学方法相比,低温等离子体技术具有绿色环保、高效便捷、非接触性等优点,被广泛应用于材料的改性领域。

本文将详细介绍低温等离子体技术在材料表面改性中的应用。

第一节:低温等离子体技术的基本原理低温等离子体技术是指在室温及其附近,通过将气体加电离,使其形成等离子态,进而实现对材料表面的改性。

低温等离子体的电离过程主要可以通过射频电场、微波电场、直流电场、电子束、离子束等方式实现。

这些电场能够将材料表面产生的等离子体束加以控制,使得材料表面分子重新排列,表面结构组成发生改变,从而实现对其性质和性能的调控。

第二节:低温等离子体技术与材料表面改性1. 表面涂层低温等离子体技术可用于制备不同性质和组成的涂层,通过气体放电产生的等离子体反应,使得各种材料表面能够接受不同的功能性或保护性涂层。

例如,利用气体氧化反应,可以在金属表面形成氧化层,提高其防腐蚀性质;而将气体和有机化合物结合,可以制备具有防水性、防腐性及耐磨性的表面涂层。

2. 表面附着能强化低温等离子体技术可以通过将材料表面暴露于某些刻蚀气体或特定的化学物质处理,使其表面产生一定程度的不同化学性质,从而进一步增强表面的附着力。

利用特定的化学处理方法,可以制备出最大程度强化表面附着力的表面结构。

3. 表面能量调控通过引入高能粒子或光子,可以使得表面产生介电影响,从而实现表面的能量峰位调控,更改表面的化学性质、形态和结构等,进而调控材料的性能。

利用此方法,可以制备出高抗磨损、高阻抗的表面结构。

4. 硬质膜制备低温等离子体技术可以通过气相反应,在材料表面形成新的结构,例如通过氮化反应在表面制备硬质膜。

硬质膜具有极高的硬度、耐磨损性及化学稳定性,被广泛应用于制造及保护功能性材料。

第三节:低温等离子体技术在实际应用中的局限低温等离子体技术虽然具有非接触性、绿色环保的优点,并且能够精密控制材料表面结构,但在实际应用中仍然存在一些局限性。

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低温等离子体对材料的表面改性张 波冷等离子体对材料的表面改性,通过放电等离子体来优化材料的表面结构,是一种非常先进的材料表面改性方法。

冷等离子体的特殊性能可以对金属、半导体、高分子等材料进行表面改性,该技术已广泛应用于电子、机械、纺织等工程领域。

等离子体是 物质的第四态 ,它是由许多可流动的带电粒子组成的体系。

等离子体的状态主要取决于它的化学成分、粒子密度和粒子温度等物理化学参量,其中粒子的密度和温度是等离子体的两个最基本参量。

实验室中采用气体放电方式产生的等离子体主要由电子、离子、中性粒子或粒子团组成。

描述等离子体的密度参数和温度参数主要有:电子温度T e、电子密度n e、离子温度T i、离子密度n i、中性粒子温度T g、中性粒子密度n g。

在一般情况下,等离子体呈现宏观电中性,当等离子体处在平衡状态时,n e n i=n g。

可以用物理参量电离度 =n e/ (n e+n g)来描述等离子体的电离程度,低气压放电产生的等离子体是弱电离的等离子体( 1), =1时,为完全电离等离子体。

等离子体按照其组成粒子的能量大小及热力学性质,可分为高温等离子体和低温等离子体。

高温等离子体中带电粒子的温度可达到绝对温度几千万度到上亿度,如太阳上的核聚变及地球上的热核聚变反应等。

低温等离子体又分为热等离子体(热力学平衡)和冷等离子体(非热力学平衡),其中热等离子体中粒子的能量特别高,通常用于需要高温作业的领域,如磁流体发电,等离子体焊接、切割,等离子体冶炼,等离子体喷涂,等离子体制备超细粉等。

实验室中采用低气压放电产生的等离子体,电子温度T e约为1~10eV(1eV=11600K),而离子温度T i只有数百开尔文,基本上等于中性粒子的温度,所以这种等离子体称为冷等离子体。

正因为冷等离子体的宏观温度与室温相差无几,所以有着重要应用价值,如用于材料的表面改性以及光源等。

对于冷等离子体对高分子材料表面改性的作用机理,一般认为冷等离子体中含有大量电子、离子,激发态的分子和原子、自由基及紫外光等活性粒子,这些粒子的能量大多在0~20eV之间,而高分子材料大多是由C、H、O、N四种元素组成,这些分子之间的键能也多在l~10eV之间,如C-H(4 3eV)、C-N(2 9eV)、C-C(3 4eV)、C=C(6 leV)等,恰恰在等离子体的能量作用范围之内,因而等离子体对高分子材料表面改性十分有效,可改变其表面的化学组分和化学结构。

冷等离子体对高分子材料的表面改性可分为三类:第一种是非聚合性气体的等离子体表面处理,这是通过非聚合性气体(如O2、N2、NH3等)在等离子体的气氛下使材料表面化学组分和结构发生变化;第二种是聚合性气体的等离子体聚合,这是用有机物、有机硅化合物或金属有机化合物等在材料表面生成聚合物薄膜;第三种是等离子体接枝,即在被等离子体激活的材料表面引进化学基团。

总之,由于冷等离子体中含有大量电子、离子,激发态的原子、分子和自由基等活性粒子,这些活性粒子和材料相互作用使材料表面发生氧化、还原、裂解、交联和聚合等各种物理和化学反应,从而优化材料表面性能,增加材料表面的吸湿性(或疏水性)、可染性、粘接性、抗静电性及生物相容性等。

冷等离子体发生装置与真空紫外光对材料改性的影响冷等离子体装置,在密封容器中设置特定的电极形成电场,用真空泵实现一定的真空度,随着气体愈来愈稀薄,分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长,它们在电场作用下发生碰撞而形成等离子体;因这时会发出辉光,故称为辉光放电。

辉光放电时的气压大小对材料处理效果有很大影响,其他影响因素还有放电功率、气体成分、材料类型等。

电源作为等离子体发生装置的主要部件,功率范围一般在50~500W之间,根据电源频率的不同可分为直流、低频(50Hz~50kHz)、射频(指定频率13 56MH z)、微波(常用2450MHz)。

图1~图3分别是各种辉光放电装置示意图。

冷等离子体对材料表面改性的原理研究,过去一般停留在等离子体(电子、离子等)对材料表面的作用,这里介绍表面改性机制的新进展 真空紫外光(VUV)对材料的表面改性。

一般认为,材料表面改性的机制,主要是自由基化学反应,但自由基扩图1 直流辉光放电装置图2外电极式射频辉光放电装置图3 电子回旋共振微波等离子体放电装置散到材料表面时会减少,有时不能很好地解释材料的表面改性效果。

对此,研究的主要方向转向光化学反应,早期主要研究可见光区和近紫外光区,但该区域光子的能量不能引起充分的光化学反应。

而对真空紫外区(VUV<180nm)的辐射,VU V 光子有足够能量引发表面反应,对表面改性起到了主要作用。

因此,对材料表面改性的等离子体反应机制,真空紫外光的光化学反应可提供更好的理论解释。

由真空紫外光化学可知,不同气体会有不同发射光谱,而不同材料会有不同的最大吸收光谱,因此必须使气体的发射光谱与材料吸收光谱相匹配才能达到最佳的光化学效果。

只有当材料有效吸收了VU V 光子时,才能使接触角下降,达到处理改性的目的。

例如O 2等离子体处理PTFE(聚四氟乙烯),因为氧在130 5nm 的辐射不被PTFE 吸收,不能引起光化学反应,而需要比O 2等离子体具有更短波长的等离子体。

如H 2在121 5nm 的辐射会被PTFE 所吸收。

研究表明,含H 2(辐射在121 5nm)和H e (辐射在59 0nm)的混合等离子体气氛对PTFE 改性是最有效的,水接触角明显下降。

由此可见,几种气体的混合气瓶是改性设备所必须的,而且要能作混合气体的适当配比。

等离子体材料表面改性中的物化反应及其应用处于非热力学平衡状态下的冷等离子体中,电子具有较高能量,可以断裂材料表面分子的化学键,提高其他粒子的化学反应活性,而中性粒子的温度接近于室温,这些优点为高分子聚合物表面改性提供了适宜条件,而且改性只涉及材料表面,不影响基体的性能。

等离子体对材料表面的改性作用主要表现为四种效应 表面清洁,烧蚀或刻蚀,近表面分子的交联或支化,表面化学结构的修饰。

这四种效应可能协同作用,也可能以某一效应为主。

冷等离子体技术具有工艺简单、操作方便、加工速度快、处理效果好、环境污染小、节能等优点,在表面改性中得到了广泛应用。

目前,冷等离子体材料表面改性方面的物化反应及其应用主要集中于等离子体表面激发、等离子体表面刻蚀、等离子体聚合和等离子体表面接枝几个方面。

等离子体表面激发 材料表面通过冷等离子体处理,会发生多种物理、化学变化,或形成致密的交联层、或引入含氧极性基团,使亲水性、粘结性、可染色性、生物相容性及电性能分别得到改善。

用几种常用的等离子体对硅橡胶进行表面处理,结果表明N 2、Ar 、O 2、CH 4-O 2及Ar -CH 4-O 2等离子体均能改善硅橡胶的亲水性,且CH 4-O 2和Ar-CH 4-O 2的效果更佳、不随时间发生退化。

部分文献表明,用冷等离子体在适宜的工艺条件下处理PE 、PP 、LDPE 等材料,材料的表面形态发生显著变化,引入了多种含氧基团,使表面由非极性、难粘性转为有一定极性、易粘性和亲水性,有利于粘结、涂覆和印刷。

采用不同等离子体改性PI 、PET 、PP 薄膜后,发现经处理薄膜的介电损耗和介电常数也发生了变化,表面电阻降低了2~4个数量级。

将该技术用于微电子技术领域,可使电子元件的连接线路体积大为缩小,运行可靠性明显提高。

等离子体表面刻蚀 冷等离子体对材料的相互作用不仅能引入新的自由基,而且还会产生刻蚀作用。

刻蚀作用的机制有两种:等离子体中的电子、离子等荷能粒子 撞击材料表面引起的溅射刻蚀,等离子体中的自由基与材料表面的某些基团反应生成挥发性物质而引起的化学刻蚀。

材料表面被刻蚀时,由于材料不同部分的刻蚀速度不同,在材料表面会形成凹凸,增大其粗糙度、减小光的表面反射率。

等离子体刻蚀作用的一个重要应用是在微电子领域,常用于集成电路制备中硅片表面高分子涂层的刻蚀,增强高分子绝缘膜与线路板的粘接性能。

用O2、Ar、CH F3混合气体等离子体可以刻蚀集成电路中残留的聚酰亚胺涂层;利用O2、CF4的混合气体等离子体处理高分子绝缘层可以提高它与线路板的粘接性能,而且这种刻蚀方法的加工精度比传统化学方法提高了一个数量级。

等离子体聚合 等离子体聚合是冷等离子体技术在高分子领域里的一项重要应用。

它是利用气体放电把目的物的气态单体等离子体化,使其产生多种活性种,由这些活性种之间或活性种与单体之间发生聚合反应生成聚合物并沉积下来的一种方法,又叫等离子体气相沉积。

大多数有机物气体在冷等离子体作用下,聚合并沉积在固体表面形成连续、均匀、无针孔的薄膜,可用作材料的防护层、绝缘层、气体和液体分离膜等,用于光学、电子学、医学等领域。

目前对沉积过程还未形成较为一致的看法,大多数人认为,聚合与沉积同时发生,气相中的反应与材料表面的反应同时发生。

在气相中形成的带有自由基的聚合物当其运动到材料表面与表面自由基发生反应时,就会键接 到材料表面;当其能量不足,难以再次逃逸时也会沉积下来。

由于反应机制特殊,等离子体聚合不要求单体有不饱和单元,或具有两个以上的特征官能团,某些在常规情况下不能聚合的单体在等离子体的激发下也能发生聚合反应。

等离子体表面接枝 冷等离子体表面接枝是将材料表面用非聚合单体等离子处理,在材料表面产生自由基,再引入具有某种特性的目的物单体与表面自由基反应,使表面获得相应特性的一种方法。

等离子体聚合会生成沉积膜,而接枝一般不形成膜,只是在表面富集具有某种特性的功能团。

等离子体接枝改性具有以下优点:改性效果显著;对欲达到的效果具有可控性和选择性;所得到的表面性质不随时间衰减,时效很长。

等离子体接枝主要有两种形式 气相接枝和液相接枝。

白敏冬等用Ar等离子体处理尼龙绸表面,引入丙烯酸接枝,接枝聚合使尼龙绸抗静电性增强。

涤纶纤维坚固耐穿,但结构紧密、吸水性差、难染色,王雪燕等用低温氮等离子体对涤纶织物进行了丙烯酰胺接枝改性,接枝后涤纶织物的上染百分率、染色深度及亲水性都有明显提高。

曹伟民在聚氯乙烯(PVC)表面接枝CF4,增强了PVC的憎水性、降低了DOP的渗透,从而降低了医用PVC的凝血作用。

聚四氟乙烯、PE电池薄膜、硅橡胶和聚酯的表面改性具有化学稳定性、介电性能和阻燃等特点的聚四氟乙烯(PT FE)、可用作电池隔膜的聚乙烯薄膜(PE膜)、具有生物相容性的硅橡胶及作为新型热塑性工程塑料的聚酯,具有广泛用途。

但由于这些高分子材料的表面具有浸润性差等缺陷,限制了其在医疗、卫生等一些特殊工业技术领域的应用。

在等离子体对材料表面改性的研究中,我们分别对这些材料进行了等离子体表面改性,考察了时效性以及等离子体工作条件对表面润湿性的影响。

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