《薄膜原理与技术》
光学薄膜监控技术原理
误差传递和累积
膜层 1 2 3 4 5
设计厚度 83.7nm 119.6nm 29.9nm 159.4nm 65.9nm
含误差厚度 88.7nm 122.6nm 36.7nm 153.4nm 61.9nm
误差 5nm 3nm 7nm -6nm -4nm
误差百分比 6% 2.5%
镀制单层的MgF2，对绿光减反射，反射光是紫红色。
光学薄膜监控技术原理
★ 光学方法 光吸收法
测量薄膜透射光强度。
II0(1R)2exp(t)
式中， I 0 为入射光强度， I 透射光强度， t 膜厚， 吸收
系数， R 薄膜与空气界面的反射率。
方法简单 适合于连续薄膜
光学薄膜监控技术原理
光干涉法(光电极值法）
光学薄膜监控技术原理
形状厚度dT是接近与直观形式的厚度。 质量厚度dM反映了薄膜中质量的多少。 物性厚度dP实际使用较少。
光学薄膜监控技术原理
★目视法 目视法：目视观察薄膜干涉色的变化来控制介质膜的厚度。 基板镀膜后，入射光在薄膜的两个分界面分成两束反射光，这 两束反射光是相干的，各个波长的反射光强度就不相等，带有 不同的干涉色彩，不同的膜厚对于不同的颜色。
值； 3. 透过或反射光强度为薄膜厚度的函数。
光学薄膜监控技术原理
例题：设计淀积2m厚的SiO薄膜，已知SiO的折射率为2.0， 监控片的折射率为1.5，单色光波长为1m，假设薄膜吸收为 零，如何监控？
根据干涉原理：
m 4 nfd
m4nfd42216
1
监测到第8个最大值即可。
光学薄膜监控技术原理
极值法
在基片上镀制单一层膜时，薄膜的透射光或反 射光强度随着薄膜厚度的变化曲线呈余弦状。
薄膜干涉检查平面原理
薄膜干涉检查平面原理一、概述薄膜干涉检查平面是一种常用的非接触式测量技术，它利用光的干涉现象来检测薄膜的厚度和光学性质。
该技术广泛应用于材料科学、化学、生物医学等领域。
二、薄膜干涉原理1. 光的干涉现象当两束相干光在空间中相遇时，它们会发生干涉现象。
如果两束光的相位差为整数倍的波长，它们就会发生构成干涉增强；如果相位差为奇数倍的波长，它们就会发生互相抵消，从而形成干涉消减。
这种现象称为光的干涉。
2. 薄膜反射和透射当一束光从一个介质进入另一个介质时，它会发生反射和透射。
反射光和透射光在介质界面上产生相位差，这个相位差与入射角度、介质折射率以及波长有关。
3. 薄膜厚度对光程差的影响在一层厚度为d的薄膜上，入射光会发生反射和透射。
反射光和透射光在介质界面上产生相位差，这个相位差与入射角度、介质折射率以及波长有关。
当透射光再次穿过薄膜时，它们会发生干涉现象。
干涉增强或干涉消减的程度取决于反射和透射光之间的相位差。
4. 薄膜干涉条纹的形成当一束白光照在一层厚度为d的薄膜上时，不同波长的光会因为不同的相位差而产生不同程度的干涉增强或消减。
这些不同波长的光在空间中形成了一系列明暗交替的条纹，称为薄膜干涉条纹。
三、薄膜干涉检查平面原理1. 入射角控制在进行薄膜干涉检查前，需要控制入射角。
因为入射角度对于反射和透射光之间的相位差有很大影响，在不同入射角度下可以得到不同的干涉条纹。
2. 光源选择在进行薄膜干涉检查时，需要选择合适的光源。
白光是最常用的光源，但是它由多种波长的光组成，会产生多个干涉条纹。
为了得到清晰的图像，可以使用单色光源。
3. 干涉图像采集在进行薄膜干涉检查时，需要采集干涉图像。
这可以通过将样品放置在显微镜下，并将显微镜与相机连接来实现。
在采集图像时，需要控制入射角度和光源强度。
4. 干涉图像分析采集到的干涉图像可以通过计算机软件进行分析。
软件可以测量每个条纹的间距和亮度，并根据这些数据计算出样品厚度和折射率等参数。
薄膜光学与镀膜技术
精品课件
光学薄膜应用
分光镜
中性 分光镜
双色 分光镜
偏振光 分光镜
精品课件
中性分 光镜
双色分光 镜原理图 S
P 偏振分光镜 原理图
光学薄膜应用
截止滤光片
在某波段不透光而相邻的另一波段有很高的透射率的一种光学器件
长波通滤光片
短波通滤光片
实际应用：冷光镜、彩色分光膜等
精品课件
光学薄膜应用
带通滤光片
指某波段域内透射率很高而其两旁透射率甚低的滤光片
精品课件
光学薄膜制作
离子束溅镀
特点：
➢ 制作的薄膜密度高，散射小 ➢膜折射率稳定均匀，膜厚精准 ➢可以配合其他制镀方法，提高制 镀速率 ➢ 增加了控制的自由度
精品课件
光学薄膜制作
离子束助镀
特点：
➢配以蒸镀或溅镀系统，提高镀膜 速率 ➢成膜纯度高，膜变得更缜密 ➢ 光谱特性稳定 ➢提高了膜层折射率的均匀性
利用商品化的分光光度计和光谱分析仪量出穿透率和反射率等
双光路分光光度计
精品课件
光学薄膜制作
非光学特性测量
附着力测试 • 利用黏性较强的胶带一端贴于薄膜上另一端撕拉。
应力测试 • 利用悬臂法作弯曲测试 • 利用干涉仪相位移法测量 组成成分测量 • 利用红外光谱仪观察其分子振荡吸收光谱
结构测量 • 利用穿透式电子显微镜观测纵剖面 • 用扫描式电子显微镜做隔电隔磁屏障以提高解析
精品课件
光学薄膜制作
热电阻加热
特点：
➢ 结构简单、成本低廉、操作方便； ➢ 电阻片加热温度有限，高熔点的
氧化物大多无法蒸镀 ➢ 蒸发速率低； ➢合金或化合物加热会导致分解。 ➢ 膜质不硬，密度不高
覆膜原理与工艺技术
覆膜原理与工艺技术覆膜是一种利用特殊的薄膜材料将纸张表面覆盖的工艺技术，通过覆膜可提高纸张的耐磨、防水、防污等性能，同时还能改变纸张的外观，增加商品的附加值。
覆膜广泛应用于印刷品、包装盒、书籍封面等领域。
覆膜的原理基于热熔胶薄膜的特性，它采用了热熔胶将薄膜与纸张表面粘合。
薄膜材料通常由聚酯、聚乙烯等塑料制成，具有柔韧、透明、耐磨、防水等特点。
覆膜设备主要由卷纸架、胶压辊、加热辊、冷却辊、切割装置等组成。
覆膜的工艺技术主要包括以下几个环节：首先，根据需要选择合适的薄膜材料。
薄膜的质量和性能直接影响覆膜效果，应根据印刷品的用途、要求和经济效益来选择合适的薄膜材料。
其次，将薄膜卷放入卷纸架上。
卷纸架上应装满薄膜卷，并确保其正常供料，避免频繁更换薄膜。
接下来，通过引导辊将纸张送入覆膜机。
引导辊的作用是将纸张顺利地输送到胶压辊和薄膜之间，保证覆膜的平整度。
然后，将薄膜与纸张表面粘合。
纸张通过胶压辊与薄膜紧密接触，同时加热辊将热熔胶融化，使薄膜与纸张黏结在一起。
加热辊和胶压辊的温度、压力需要根据薄膜材料的特性来调节，以确保覆膜的质量。
最后，利用冷却辊冷却覆膜的纸张。
冷却辊的作用是将覆膜过程中产生的热量散发出去，使覆膜的纸张迅速变硬，保证质量。
覆膜的整个过程需要在专用的设备上进行，操作人员需要经过专业培训，熟悉覆膜原理和工艺技术，并掌握相应的操作技巧，以保证覆膜的效果和质量。
总结起来，覆膜是一种利用热熔胶薄膜将纸张表面覆盖的工艺技术，通过选择合适的薄膜材料，并通过引导辊、胶压辊、加热辊和冷却辊等设备进行覆膜，最终得到具有耐磨、防水和改变外观等特点的纸张产品。
覆盖的薄膜材料选择合适，工艺技术操作得当能有效提高纸张的质量和附加值，满足市场需求。
第二章薄膜的制备ppt课件
在信息显示技术中的应用
在信息存贮技术中的应用
• 第二是在集成电路等电子工业中的应用， 其中，从外延薄膜的生长这一结晶学角 度看也具有显著的成果。
在计算机技术中的应用
在计算机技术中的应用
• 第三是对材料科学的贡献。薄漠制 备是在非平衡状态下进行，和通常的热 力学平衡条件制备材料相比具有：所得 材料的非平衡特征非常明显;可以制取普 通相图中不存在的物质;在低温下可以制 取热力学平衡状态下必须高温才能生成 的物质等优点。
薄膜的主要特性
• 材料薄膜化后，呈现出的一部分主要特性：
•
几何形状效应
• 块状合成材料一般使用粉末的最小尺寸为 纳米至微米，而薄膜是由尺寸为1埃左右的原子
或分子逐渐生长形成的。采用薄膜工艺可以研
制出块材工艺不能获得的物质(如超晶格材料)，
在开发新材料方面，薄膜工艺已成为重要的手
段之一。
非热力学平衡过程
无机薄膜制备工艺
• 单晶薄膜、多晶薄膜和非晶态薄膜在现代微 电子工艺、半导体光电技术、太阳能电池、光纤 通讯、超导技术和保护涂层等方面发挥越来越大 的作用。特别是在电子工业领域里占有极其重要 的地位，例如半导体集成电路、电阻器、电容器、 激光器、磁带、磁头都应用薄膜。
• 薄膜制备工艺包括：薄膜制备方法的选择； 基体材料的选择及表面处理；薄膜制备条件的选 择；结构、性能与工艺参数的关系等。
(2)双蒸发源蒸镀——三温度法
三温度-分子束外延法主要是用 于制备单晶半导体化合物薄膜。从 原理上讲，就是双蒸发源蒸镀法。 但也有区别，在制备薄膜时，必须 同时控制基片和两个蒸发源的温度， 所以也称三温度法。
三温度法 是制备化合物 半导体的一种 基本方法，它 实际上是在V族 元素气氛中蒸 镀Ⅲ族元素， 从这个意义上 讲非常类似于 反应蒸镀。图 示就是典型的 三温度法制备 GaAs单晶薄膜 原理。
薄膜材料与技术教学大纲
《薄膜材料与技术》课程教学大纲课程代码：090642008课程英文名称：Thin Film Materials and Thin film Technology课程总学时：32 讲课：32 实验：0 上机：0适用专业：光电信息科学与工程大纲编写（修订）时间：2017.10一、大纲使用说明（一）课程的地位及教学目标薄膜材料与技术是光电信息科学与工程专业本科生的一门专业选修课，通过本课程的学习，使学生了解薄膜材料与薄膜技术的基本原理和基本知识，掌握薄膜材料的真空制备技术、薄膜的化学制备和物理气相沉积方法、薄膜的形成和生长原理、薄膜的表征，了解目前广泛研究和应用的几种主要薄膜材料。
培养学生在获取薄膜材料与薄膜技术基本知识的过程中，能够理论联系实际，并增强学生的创新意识，提高学生的工程实训能力。
为开阔学生学术视野和提高学生实际工作能力提供知识储备。
（二）知识、能力及技能方面的基本要求1. 知识方面的基本要求通过本课程的学习，使学生了解薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
了解各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。
使学生掌握薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质。
2.基本理论和方法方面的要求了解薄膜的制造技术与薄膜物理的基础内容。
了解各种成膜技术的基本原理与方法；3. 能力方面的要求培养和提高学生实际工作能力及实验技能。
（三）实施说明1．本大纲适用于“光电信息科学与工程专业”以及“信息显示与光电技术专业”等相近专业的本科生；2．因教学学时所限，课堂教学要做到突出重点，精讲难点，教师在授课中可酌情安排各部分的学时，课时分配表仅供参考；3. 对于与其它课程交叉部分的内容，要突出本课程在课程设置中的地位、作用与特色，即立足于薄膜材料与技术涉及到的基本物理效应，重要概念与理论分析方法，器件的工作原理、主要性能特征及应用方向等；4. 注意知识的内在联系与融合贯通，注意采用课堂讲授、讨论、多媒体教学相结合的教学方式，启发学生自学并不断积累学科前沿最新知识，学会独立思考，独立提出问题与独立解决问题的能力。
薄膜物理与技术
将气体在电场的作用下离化，形成离子束或等离子体，然后轰击材 料表面，使其原子或分子沉积在基底表面形成薄膜。
化学气相沉积（CVD）
常压化学气相沉积（APCVD）
在常压下，将反应气体在气相中发生化学反应，生成固态物质并沉积在基底表面形成薄膜 。
低压化学气相沉积（LPCVD）
在较低的压力下，将反应气体在气相中发生化学反应，生成固态物质并沉积在基底表面形 成薄膜。
等离子体增强化学气相沉积（PECVD）
利用等离子体激活反应气体，使其发生化学反应，生成固态物质并沉积在基底表面形成薄 膜。
液相外延（LPE）
溶胶-凝胶法
将金属盐溶液通过脱水、聚合 等过程转化为凝胶，然后在一
定条件下转化为薄膜。
化学镀
利用化学反应在基底表面沉积 金属或合金薄膜。
电镀
利用电解原理在基底表面沉积 金属或合金薄膜。
薄膜的特性与性能参数
特性
薄膜具有一些独特的物理和化学特性， 如高表面面积、高纯度、高密度等， 这些特性使得薄膜在电子、光学、磁 学等领域具有广泛的应用前景。
性能参数
评估薄膜性能的参数包括表面粗糙度、 透光性、导电性、硬度等，这些参数 决定了薄膜在不同领域的应用效果。
薄膜的形成与生长机制
形成
薄膜的形成通常是通过物理或化学方法将物质蒸发或溅射到基材表面，然后凝 结或反应形成薄膜。
涉及其他非主要性能的表征，如化学稳定性、热稳定性等。
详细描述
除了光学、力学和电学性能表征外，还有其他一些非主要性能的表征方法，如化学稳定 性表征和热稳定性表征等。这些性能参数对于评估薄膜在不同环境条件下的稳定性和耐 久性具有重要意义，尤其在化学反应容器制造和高温环境应用等领域中具有重要价值。
《薄膜干涉》 讲义
《薄膜干涉》讲义一、什么是薄膜干涉在日常生活中，我们可能会观察到一些有趣的光学现象，比如肥皂泡表面呈现出五彩斑斓的颜色，或者油膜在水面上形成的彩色条纹。
这些现象的背后，其实都隐藏着薄膜干涉的原理。
薄膜干涉，简单来说，就是当一束光照射到薄膜上时，一部分光在薄膜的上表面反射，另一部分光穿过薄膜在其下表面反射，这两束反射光相互叠加，从而产生干涉现象。
要理解薄膜干涉，首先我们需要知道光的波动性。
光具有波的特性，就像水波一样，当两列波相遇时，如果它们的振动频率相同、相位差恒定，就会发生干涉现象。
在薄膜干涉中，这两束反射光就相当于两列光波。
二、薄膜干涉的条件并不是所有的薄膜都能产生明显的干涉现象，要发生薄膜干涉，需要满足一定的条件。
首先，薄膜的厚度要足够薄。
通常来说，薄膜的厚度要与光的波长相当或者更薄。
这是因为如果薄膜太厚，两束反射光的光程差太大，干涉效果就不明显。
其次，薄膜的折射率要不均匀。
薄膜的上下表面的折射率不同，这样才能导致光在上下表面反射时产生相位差。
此外，入射光的相干性要好。
相干性是指光的振动频率和相位在时间和空间上的一致性。
只有相干性好的光，才能产生明显的干涉条纹。
三、薄膜干涉的类型薄膜干涉主要有两种类型：等厚干涉和等倾干涉。
等厚干涉是指薄膜的厚度相同的地方，干涉条纹相同。
比如劈尖干涉和牛顿环就是典型的等厚干涉。
劈尖干涉可以通过将两块玻璃板叠在一起，在一端插入薄片形成劈尖状来实现。
当平行光垂直入射时，在劈尖的上表面和下表面反射的两束光会发生干涉，形成明暗相间的平行条纹。
条纹间距与劈尖的夹角以及光的波长有关。
牛顿环则是将一个曲率半径很大的平凸透镜放在一块平面玻璃上，在两者之间形成一个空气薄膜。
当光垂直入射时，在空气薄膜的上表面和下表面反射的光发生干涉，形成同心圆环状的干涉条纹。
等倾干涉是指薄膜的厚度均匀，但入射角不同时，干涉条纹不同。
当一束平行光以不同的入射角入射到薄膜上时，不同入射角对应的光程差不同，从而形成不同的干涉条纹。
薄膜干涉的应用原理公式和光路图
薄膜干涉的应用原理公式和光路图1. 薄膜干涉的基本原理薄膜干涉是指光线穿过或反射到薄膜表面时，由于光的波长和薄膜厚度之间的特定关系，产生干涉现象。
薄膜干涉广泛应用于光学仪器、电子设备、涂层技术等领域。
其基本原理可以概括如下：•入射光线与薄膜表面发生反射和折射，形成反射光和透射光。
•反射光和透射光再次相遇，在空间形成明暗交替的干涉条纹。
•干涉条纹的形式取决于入射角、波长和膜厚等参数。
2. 薄膜干涉公式推导薄膜干涉的公式主要涉及反射光、透射光以及薄膜的光学参数，如膜厚、折射率等。
下面以一维薄膜为例进行公式的推导。
假设入射光垂直于薄膜表面，膜的上下界面均为平行界面，且薄膜的折射率为n f，上下介质的折射率分别为n s和n d。
入射光的波长为$\\lambda$，薄膜的厚度为d。
根据光的相位差原理，反射光和透射光相对位相差$\\delta$可以表示为：$$\\delta = \\frac{4\\pi}{\\lambda}d(n_f-n_s\\sin^2\\theta)$$其中，$\\theta$为入射角。
根据反射干涉条件，当$\\delta$满足以下条件时，会出现最大或最小的干涉条纹：$$\\delta = 2k\\pi$$其中，k为正整数。
3. 薄膜干涉的光路图薄膜干涉的光路图是描述光线从入射到反射或透射的过程中经过的光学元件和路径。
下面以一维薄膜为例，简要说明光路图中的关键元素和路径。
1.入射光线：垂直入射到薄膜表面。
2.反射光线：从薄膜表面反射出来的光线。
3.透射光线：穿过薄膜表面进入下方介质的光线。
4.薄膜界面：分为上界面和下界面，反射和折射发生在这两个界面上。
5.薄膜厚度：决定干涉条纹的间距和形态。
薄膜干涉的光路图可以用以下方式表示：|\\| \\| \\ 上界面| /| /|/_________| 薄膜||\\_________| \\ 下界面| \\| /| /|/4. 薄膜干涉的应用薄膜干涉由于其特殊的光学性质和精准的测量能力，在各个领域都有着广泛的应用。
薄膜物理与技术-3 薄膜的化学制备工艺学
Gr Gf (生成物) Gf (反应物)
CVD热力学分析的主要目的是预测某些特定条件下某些 CVD反应的 可行性（化学反应的方向和限度）。
在温度、压强和反应物浓度给定的条件下，热力学计算能从理论上 给出沉积薄膜的量和所有气体的分压，但是不能给出沉积速率。
热力学分析可作为确定CVD工艺参数的参考。
良好的耐热冲击材料,还是电绝缘体
■ 单氨络合物制备氮化物薄膜：AlCl3· NH3 (g) AlN (s) + 3HCl (g) 800-1000℃
3 薄膜制备的化学工艺学
3.2 化学气相沉积（CVD）
3.2.1 CVD的主要化学反应类型
热解 反应 还原 反应 氧化 反应 置换 反应 歧化 反应 输运 反应
二、还原反应：薄膜由气体反应物的还原反应产物沉积而成。 1）反应气体：热稳定性较好的卤化物、羟基化合物、卤氧化物等 + 还原性气体。 2）典型反应：
■ H2还原SiCl4外延制备单晶Si薄膜： SiCl4 (g) + 2H2 (g) Si (s) + 4HCl (g) (单晶硅外延膜的生长) ■ 六氟化物低温制备难熔金属W、Mo薄膜： WF6 (g) + 3H2 (g) W (s) + 6HF (g)
借助于适当的气体介质与之反应而形成一种气态化合物， 这种气态化合物再被输运到与源区温度不同的沉积区， 并在基片上发生逆向反应，从而获得高纯源物质薄膜的沉积。
1）反应气体：固态源物质 + 卤族气体。
2）典型反应：
T1 Ge ( s)＋I 2 ( g ) GeI 2 ■ 锗（Ge）与碘（I2）的输运反应沉积高纯Ge薄膜： T2 - 200℃ （类似于Ti的碘化精炼过程）： Ti ( s ) ＋2 I 2 ( g ) 100 TiI（ g ） 4
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《薄膜原理与技术》
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《薄膜原理与技术》
一、目的与任务
本课程是一门专业技术基础课，适合于光学各专业。本课程的目的是通过光学薄膜原理与技术
的学习，培养学生薄膜系统的计算、设计能力，了解薄膜系统的制备技术。
本课程的任务是（1）光学薄膜特性计算，包括光学薄膜的设计理论以及膜系的普遍定理；（2）
常用光学薄膜器件，如反射镜、分光镜、截止滤光片和带通滤光片；（3）薄膜制备技术，包括制备
薄膜设备、材料、方法与监控；（4）薄膜材料及性质，包括薄膜的光学性质测量、力学性质检测等。
（5）介绍薄膜技术领域中的一些前沿研究课题。学生通过这门课的学习应该熟悉薄膜原理、特性、
制备与检测以及薄膜领域的最新进展。
二、教学内容及学时分配（24学时）
第一章 光学薄膜特性的理论计算（6学时）
1. 单色平面电磁波
2. 平面电磁波在单一界面的反射和折射
3. 光学薄膜特性的理论计算
第二章 光学薄膜的设计理论（2学时）
1.矢量作图法
2.有效界面法
3.对称膜系的等效层
第三章 光学薄膜系统的设计（8学时）
1.减反射膜
2.高反射膜性
3.分束镜
4.干涉截止滤光片
5.带通滤光片
6．薄膜设计软件使用（Filmaster）
第四章 薄膜制备技术（4学时）
1.真空淀积工艺
2.光学薄膜材料
3.薄膜厚度监控技术
《薄膜原理与技术》
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4.膜层厚度的均匀性
第五章 制备条件对薄膜微观结构和成分的影响（4学时）
1.薄膜的形成过程
2.薄膜的微观结构
3.薄膜成分
4.微观结构和成分对薄膜特性的影响
三、考核与成绩评定
考核： 大作业。
成绩评定：大作业占70%，平时作业及日常考核质疑等占30%，按百分制给出最终成绩。
四、大纲说明
1. 本大纲是根据我校电子科学与技术（光电子）、光电信息科学与工程、光电信息工程专业培养计
划及其知识结构要求，并适当考虑专业特色而制定的。
2. 在保证基本教学要求的前提下，教师可以根据实际情况，对内容进行适当的调整和删节。
3. 本大纲适合光电类相关专业。
五、教材、参考书
选用教材： 唐晋发 顾培夫 刘旭.现代光学薄膜技术［M］.浙江大学出版社,2006.
参考书：
［1］ 卢进军 刘卫国.光学薄膜技术［M］.西安工大学出版社，2005.
［2］ 唐晋发 顾培夫 刘旭.现代光学薄膜技术［M］.浙江大学出版社,2006.
［3］ 林永昌 卢维强. 光学薄膜原理［M］.国防工业出版社,1990.
编写教师： 蒋玉蓉
责任教授签字：
教学院长签字：
英文课程介绍
《Modern Optical Thin Film Technology》
《薄膜原理与技术》
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Course Code: OPT04038
Course Name: Modern Optical Thin Film Technology
Class Hour: 24
Credit: 1.5
Course Description:
The objective of this course is to familiarize students with theoretical design and fabrication techniques
of optical thin film. Students will be able to design appropriate thin film structures for different demands
and choose appropriate fabrication methods according to material characteristic.
The main contents of the course are as follows: 1. Theoretical calculation of optical thin film; 2. Design
theory of optical thin film ; 3. Systemic design of optical thin film; 4. Fabrication techniques of optical thin
film; 5. Microstructure and component of optical thin film. If time permits, I will give a brief introduction to
the measurement technique of optical thin film, such as optical constant measurement. Application and
progress of modern optical thin film will be covered. One of the goals of the course is to train the students to
apply optical thin film knowledge to solve practical problems in optics.