多晶硅生产工艺

一、世界上主要的几种多晶硅生产工艺

1、SiSl4法

2、硅烷法——硅烷热分解法硅烷

3、流化床法

以四氯化硅、氢气、氯化氢和工业硅为原料在流化床内（沸腾床）高温高压下生成三氯氢硅，将三氯氢硅再进一步歧化加氢反应生成二氯二硅氢，继而生成硅烷气。

4、改良西门子法——闭环式三氯氢硅还原法

用氯气和氢气合成氯化氢，氯化氢和工业硅粉在一定的温度下合成三氯氢硅，然后对三氯氢硅进行分离精馏提纯，提纯后的三氯氢硅在氢还原炉内进行化学气相沉淀反应生产高纯多晶硅。

石墨管状炉反应器（Tube-Reactor）

二、纯水的制备

在半导体工艺生产过程中，各种产品对水的纯度要求各不同。人们通常将水分为纯水和超纯水。

1、纯水又称为去离子水，即去掉阴阳离子和有机物等杂质的水。

2、超纯水是将纯水再次经过阳离子交换树脂、阴离子交换树脂和

混合离子交换树脂及紫外照射杀菌等方法处理后而获得。

三、纯水制备系统主要设备

1、多介质过滤器

2、活性碳过滤器

3、自动软化系统

4、保安过滤器

5、反渗透RO系统: RO（Reverse Osmosis ）

6、清洗装置