材料表面形貌分析方法及其应用
表面分析技术在材料研究中的应用
表面分析技术在材料研究中的应用在材料研究领域中，表面分析技术是不可缺少的一项工具。
它可以揭示材料的表面形貌、化学成分、结构等相关信息，对于研究材料的性质、品质、功能等方面都有很大的帮助。
本文将从材料表面的性质入手，探讨表面分析技术在材料研究中的应用。
一、材料表面的性质材料表面是材料与外界交互的界面，通常是它与大气、水或其他材料接触的地方。
由于表面的物理、化学和结构特性不同于体积内部，表面会对材料的性质产生重要影响。
例如，材料的表面能会影响它们的接触、润湿和涂覆性，而化学成分和结构则决定了其吸附、反应和催化性能等。
二、表面分析技术的种类为了研究材料表面的性质，我们需要使用一系列表面分析技术。
根据不同的目的和研究对象，表面分析技术可以分为多种类型。
以下是其中几种主要的表面分析技术：1. 扫描电镜（SEM）扫描电镜是一种利用电子束扫描样品表面以获取图像的技术。
SEM对样品表面形貌的分析具有很高的分辨率，能够观察到微米和亚微米级别的表面结构。
此外，SEM还可用于分析样品的化学成分，通过扫描样品表面，能够发射出与物质本身成分相关的特征X射线，在能谱仪器上通过分析这些X射线，可以得到样品表面化学成分信息。
2. X射线衍射（XRD）X射线衍射是一种利用X射线衍射来研究材料内部结构和晶体结构的技术。
在表面分析中，XRD通常用于分析样品的晶体结构和晶体质量。
由于X射线是高频电磁波，具有很高的穿透力，能够透过很薄的材料层，对于表面分析来说具有很好的应用前景。
通过观察衍射光谱和图案，可以揭示出样品的晶体结构、晶格常数、应力及颗粒尺寸等信息。
3. X射线光电子能谱（XPS）X射线光电子能谱是利用X射线照射样品，激发材料表面中的电子，从而获得材料表面的化学成分、价态、电子态等信息。
通过测量电子能谱和发射电子的数量和能量分布，可以分析材料的表面化学组成情况，得到物质内部、表面和界面的相关信息。
4. 表面等离子体共振（SPR）表面等离子体共振是一种用于表面分析的实时检测技术，可以检测材料表面的结构和化学成分。
表面分析技术
表面分析技术表面分析技术是一项涉及材料和表面特性研究的重要技术手段。
通过对材料表面的分析和测试，可以了解材料的化学成分、结构形态以及物理性质等重要信息。
这些信息对于材料科学、化学工程以及各种工业领域的研究和应用具有重要的指导意义。
本文将介绍常见的表面分析技术及其应用，并探讨其在材料研究领域中的重要性。
一、X射线衍射（XRD）X射线衍射技术是一种分析晶体结构和晶体取向的重要手段。
通过照射材料表面的X射线，利用倒转的原理，可以得到材料中晶体的信息，如晶体晶胞参数、晶面取向和结晶度等。
X射线衍射技术广泛应用于金属材料、无机晶体、聚合物材料以及生物材料等领域的研究中。
二、扫描电子显微镜（SEM）扫描电子显微镜是一种通过扫描材料表面的电子束来获取表面形貌和成分信息的技术。
通过SEM技术可以观察到材料的微观形貌、表面粗糙度以及颗粒分布情况。
此外，SEM还可以结合能谱分析，获取材料的元素成分信息，对于材料表面的成分分析具有重要意义。
扫描电子显微镜的高分辨率、高灵敏度和高成像质量使其成为材料科学研究中不可或缺的工具。
三、原子力显微镜（AFM）原子力显微镜是一种通过探针在材料表面扫描获取高分辨率表面形貌和力学性质的技术。
与扫描电子显微镜类似，原子力显微镜可以获得纳米级别的表面形貌信息。
此外，通过原子力显微镜还可以研究材料的力学性质，如力曲线、硬度和弹性模量等。
原子力显微镜在纳米材料研究、表面重构以及生物医学领域的研究具有重要应用价值。
四、拉曼光谱（Raman）拉曼光谱是一种通过激光照射材料表面，并测量散射光强度的技术。
拉曼光谱的原理是根据材料分子振动产生的震动频率差异来获取材料的化学成分和物理性质信息。
通过拉曼光谱可以研究材料的晶体结构、官能团成分以及分子结构的变化等。
应用于纳米材料、生物医学和化学合成等领域的研究中。
五、表面增强拉曼光谱（SERS）表面增强拉曼光谱是一种通过将材料置于金属纳米颗粒表面，使得拉曼信号得到大幅增强的技术。
材料形貌的微观结构分析与表征
材料形貌的微观结构分析与表征材料的微观结构是决定其性能和行为的关键因素之一。
通过微观结构的分析和表征，我们可以深入了解材料的组成、形貌和特性，从而为科学研究和工业应用提供有力的支持。
本文将探讨材料形貌的微观结构分析与表征的方法和意义。
一、形貌的微观结构分析材料的形貌是指材料的外部形状和内部结构特征。
传统的微观结构分析方法包括光学显微镜观察和扫描电子显微镜观察。
光学显微镜通过聚焦光线来观察材料的形貌，并且可以进行放大成像。
扫描电子显微镜则通过电子束来观察材料的形貌，并且可以获得更高的分辨率。
除了传统的显微镜方法外，还有一些先进的形貌分析技术被广泛应用。
例如，原子力显微镜可以通过探针与材料表面的相互作用来获取材料的形貌信息，具有非常高的分辨率和灵敏度。
透射电子显微镜可以通过透射电子束穿过材料来观察其内部结构，从而获得更为详细的形貌信息。
二、微观结构的表征材料的微观结构是指材料的晶体结构、晶粒尺寸、晶界分布等特征。
通过对微观结构的表征，我们可以了解材料的晶格结构、晶粒形貌以及晶体缺陷等信息。
X射线衍射是一种常用的微观结构表征方法。
通过照射材料的晶体，X射线会在晶格中发生衍射现象，从而提供关于晶体结构的信息。
同时，控制X射线的入射角度和衍射角度，可以计算出晶体的晶格参数和晶体的取向关系。
电子背散射衍射也被广泛用于微观结构的表征。
通过照射材料的定向薄片，电子束会在材料中发生背散射现象，从而提供关于晶体取向和晶粒形貌的信息。
利用电子背散射图样可以计算晶体的晶格参数以及晶界的方向和形貌。
除了X射线衍射和电子背散射衍射外，还有一些其他的微观结构表征方法，如拉曼光谱、核磁共振、质谱等。
这些方法可以提供关于材料微观结构的不同方面的信息，从而帮助我们深入了解材料的特性和行为。
三、微观结构分析与材料研究微观结构分析对于材料研究具有重要意义。
通过深入了解材料的微观结构，我们可以揭示材料的性能和行为背后的机制，从而为材料设计和制备提供指导。
材料表面与界面性质分析技术
材料表面与界面性质分析技术材料是人类社会发展的基础，它们蕴含着各种性质和特征，比如热学、力学、化学等等。
材料的性质往往由其内部构成及表面和界面特性所决定。
因此，对材料的表面和界面进行深入分析是非常必要和重要的。
那么，如何对材料的表面和界面进行分析呢？一、扫描电子显微镜技术扫描电子显微镜技术是一种常见的表面形貌观测和分析手段。
这种技术通过扫描电子束照射样品表面，并通过检测样品表面反射、散射和辐射等信号来获得样品表面的形貌和组成信息。
这种技术具有分辨率高、非接触、多功能等优点，可以被广泛应用于样品形貌、尺寸、表面化学成分等方面的探测和分析。
二、原子力显微镜技术原子力显微镜技术是一种高分辨、非接触表面显微镜技术。
它通过量子力学的原理来探测样品表面微观特征。
具体来说，是利用在极近距离下样品表面和探针之间的作用力进行采样。
原子力显微镜技术可用于表面拓扑、力学、电学、热学特性的表征，如原子尺度上的精确距离测量、接触区域的模拟和力学性质的量化等。
三、拉曼光谱技术拉曼光谱技术是一种照射样品后测量样品化学组成和分子结构的手段。
这种技术通过使用一束激光束引起样品内分子振动，以探测样品的分子成分和化学结构。
利用拉曼光谱技术可以非常精确地探测到许多有机和无机分子的结构，如聚合物中官能团的结构和亚表面结构等。
这种技术具有非常高的分辨率和精度，被广泛应用于材料科学和化学分析。
四、电化学阻抗谱技术电化学阻抗谱技术是一种通过分析材料接触面上的电化学反应来获得材料界面性质信息的技术。
该技术是基于对微小电压交流信号下材料粗糙表面的阻抗响应进行分析的，可揭示材料的化学反应、传输速率和电子传输特性等。
电化学阻抗谱技术可以用于生物医学、电池、阳极保护和光伏等领域的研究。
总之，对材料表面和界面特性进行精确分析可以检测到材料特性的微小变化，进而为各种材料科学应用提供基础数据和指导。
以上介绍的技术是常见的材料表面和界面性质分析技术，它们各自具有独特的优点和适用范围。
《形貌分析及其应用》课件
光学干涉显微镜、光干涉仪、光散射仪等是常 用的光学形貌分析仪器。
原子力显微镜形貌分析
1
原子力显微镜是一种高分辨率的表面形貌测量技 术，通过检测探针与样品表面原子间的相互作用 力来获取表面形貌信息。
2
原子力显微镜具有纳米级分辨率，可实现三维形 貌成像，广泛应用于材料、生物、医学等领域。
3
原子力显微镜的探针需根据样品特性进行定制， 以保证最佳的测量效果。
X射线形貌分析
X射线形貌分析是一种利用X射线衍射和散射原理获取晶体结构信息的方法 。
X射线形貌分析可揭示材料内部的晶体结构、相组成、晶粒大小等信息， 对于材料性能研究和质量控制具有重要意义。
扫描。
03
CATALOGUE
形貌分析的应用
生物医学领域的应用
细胞形态学研究
通过形貌分析技术观察细胞形态 、大小、排列等特征，有助于研 究细胞生长、分化、凋亡等过程 。
医学诊断
利用形貌分析技术对病理组织切 片进行观察和分析，有助于诊断 疾病，如癌症、炎症等。
生物材料表面形貌
研究
形貌分析用于研究生物材料的表 面结构，如人工关节、植入物等 ，以提高其生物相容性和使用寿 命。
详细描述
多功能形貌分析技术将结合多种测量方法，如光学、电子、离子等，实现对表 面形貌的全方位、多角度的观察和分析。这种技术将满足不同领域的研究和应 用需求，为表面形貌的深入研究和应用提供更多可能性。
实时动态形貌分析技术
总结词
实时动态形貌分析技术将实现快速、实时的形貌分析，为实时监测、控制和优化生产过程提供技术支 持。
材料表面微观形貌和化学性质分析
材料表面微观形貌和化学性质分析近年来，材料科学在各行各业的应用中越来越受到重视。
材料的性能优化成为了一项前沿领域的研究方向。
为更好地探寻材料的性能特征，表面微观形貌和化学性质分析成为了一个研究的热点。
一、表面微观形貌分析表面微观形貌是观察和研究材料表面的重要内容。
表面形貌直接关系到材料的物理化学性质和应用价值。
表面形貌的研究可以通过现代光学显微技术实现。
例如，扫描电子显微镜（SEM）和原子力显微镜（AFM）等技术可观察材料表面和其微观结构。
通过这些技术可以实现对材料表面的三维显微结构重建，定量和定性检测表面的各种特征，如粗糙度、疏密程度、平整度等，以及表面的微观形貌。
SEM技术广泛应用于材料科学、生物学等领域。
SEM技术通过扫描材料表面并检测从材料表面反射返回的电子信号来获取表面形貌等信息。
它的分辨率高达亚纳米级，可以清晰观察到微观结构。
AFM技术在柔性材料和生物学方面的研究方面较为重要。
AFM利用尖端触发力和距离测量原理获取表面形貌信息。
AFM可以在液-固相和气-固相的环境下进行实时观察，在测定粗糙度和表面性质的过程中提供高度的灵敏度。
二、表面化学性质分析表面化学性质是材料的一个重要性能指标，通常指物料分子和主体之间的相互反应。
不同材料的表面化学性质差异明显，因此，表面化学性质分析也是材料性能研究的重要方向。
表面化学性质的分析需要一定的化学分析技术。
X射线光电子能谱（XPS）是一种常见的表面分析技术，经常用于材料表面化学成分分析。
利用X射线固定能量的本质原理，XPS可以分析出与被测样品表面相互作用的元素和化学键组成。
同时，表面上的元素、化学键或者物质的含量也可以在不侵入其他分析方法的情况下得到确认。
表面等离子体共振（SPR）技术在表面化学性质和生物学领域中具有重要的应用价值。
SPR技术对表面微观结构和化学性质进行研究。
通过SPR技术可以实现对生物大分子、药物和肿瘤标志物等物质的分子识别，具有阈低、专一、快速测定的特点。
材料表面改性测试与分析方法介绍
材料表面改性测试与分析方法介绍材料表面改性是一种常见的工艺技术，它可以改善材料的性能和功能。
为了确保改性效果的准确评估和分析，需要使用一系列适用的测试和分析方法。
本文将介绍几种常见的材料表面改性测试与分析方法。
一、扫描电子显微镜（SEM）分析扫描电子显微镜（SEM）是一种常用的表面形貌分析方法，它可以通过高分辨率的图像展示材料表面的细微结构和形貌。
SEM分析可以帮助评估材料表面改性的效果，比较改性前后的表面形貌差异。
通过SEM分析，可以观察到材料的表面粗糙度、颗粒分布、裂纹情况等，从而判断改性效果的好坏。
二、接触角测试接触角测试是一种用来评估材料表面亲水性或疏水性的方法。
通过测量液滴在材料表面的接触角大小，可以得出材料表面的润湿性质。
一般来说，当液滴在材料表面接触角较小时，表明材料表面具有较好的润湿性；而当接触角较大时，表明材料表面具有较好的疏水性。
通过接触角测试，可以评估改性对材料表面润湿性的影响，进而判断改性效果。
三、拉伸试验拉伸试验是一种常用的机械性能测试方法，用于评估材料的拉伸强度、断裂伸长率等性能指标。
在材料表面改性过程中，拉伸试验可以用来分析改性对材料的强度和韧性的影响。
比较改性前后的拉伸性能指标，可以评估改性效果的优劣。
此外，拉伸试验还可以帮助分析改性对材料的断裂模式和失效机制的影响，为改性工艺的优化提供依据。
四、傅里叶变换红外光谱（FTIR）分析傅里叶变换红外光谱（FTIR）是一种用来分析材料化学组成和化学键信息的技术。
通过FTIR分析，可以观察到材料表面的功能基团情况，从而评估改性效果。
比较改性前后材料表面的红外光谱图谱，可以检测到新的峰位或峰强的出现，进而判断表面功能基团的变化。
FTIR分析还可以揭示表面化学变化对材料性能的影响，为改性工艺的优化提供依据和指导。
五、电子能谱（XPS）分析电子能谱（XPS）是一种用来分析材料表面化学元素、化学键状态和成分比例的方法。
通过XPS分析，可以获得材料表面的元素组成、化学键能级和化学状态信息。
研磨加工中的研磨表面形貌分析
研磨加工中的研磨表面形貌分析研磨加工是现代制造业中不可或缺的一部分。
它利用研磨工具对工件进行磨削，以达到优化工件表面形貌的目的。
研磨加工广泛应用于许多工业领域，例如汽车制造、医疗器械制造、航空航天制造等。
在研磨加工中，研磨表面形貌是一个重要的性能指标。
研磨表面形貌直接影响到工件的功能和质量。
因此，对研磨表面形貌进行分析和评价是非常必要的。
研磨表面形貌分析的方法主要有两类：一是直接观察和测量研磨表面形貌，二是利用计算机辅助分析研磨表面形貌。
直接观察和测量研磨表面形貌的方法是最为直接和简单的方法。
其中最常用的测量方法是利用表面形貌测试仪。
表面形貌测试仪能够直接对工件表面形貌进行测量和分析，并提供各种表面形貌参数。
其中常用的表面形貌参数有Ra、Rz、Rt等。
这些参数可以用于描述工件表面的粗糙度、平整度、平面度等指标，从而评估研磨表面的质量。
在利用计算机辅助分析研磨表面形貌方面，主要应用的技术是数字图像处理技术和三维测量技术。
数字图像处理技术可以用于提取研磨表面的轮廓信息和纹理信息。
三维测量技术可以用于获取研磨表面的三维形貌信息。
数字图像处理技术中，常用的方法有灰度变换、边缘检测、纹理分析等。
其中，边缘检测是最为常用的技术之一。
边缘检测能够检测出图像中的边缘和轮廓线，从而提取出研磨表面的轮廓信息。
同时，纹理分析也是一个重要的技术。
纹理分析可以用于提取研磨表面的纹理特征，例如灰度变化、纹理方向和频率分布等。
三维测量技术中，常用的方法有激光三维测量、光学三维测量和机械式三维测量等。
其中，激光三维测量是最常用的技术之一。
激光三维测量能够对研磨表面进行快速、高精度的三维测量，并提供表面形貌参数和三维形貌数据。
除了上述方法之外，还有一些新的技术正在被应用于研磨表面形貌分析领域。
例如，人工智能和机器学习技术可以帮助快速、准确的判断研磨表面的质量。
其中，深度学习是目前应用最广泛的机器学习技术之一。
深度学习能够学习大量数据样本，从而获得对研磨表面的合理判断。
化学中的材料表面形貌分析方法研究
化学中的材料表面形貌分析方法研究近年来，随着材料化学领域的不断发展，人们对于材料表面形貌分析方法的研究也越来越深入。
化学中的材料表面形貌分析，可以用于研究材料的纳米结构、表面形貌、晶体形貌等，可以为材料的设计与优化提供有效的依据。
一、扫描电子显微镜（SEM）分析法扫描电子显微镜（SEM）是一种利用电子束物理产生组织结构表面形貌图像的显微镜技术。
通过SEM可以快速地获得表面形貌图像，并可以实现高分辨率的表面形貌分析。
以金属材料为例，SEM可以获取金属表面的形貌、晶粒尺寸、晶界宽度、表面氧化物分布等信息。
此外，SEM还可以结合能谱分析（EDS）和电子组成分析（EBSD）等技术来对样品的元素成分和晶体结构进行分析。
二、原子力显微镜（AFM）分析法原子力显微镜（AFM）是一种用于观察样品表面的高分辨率显微镜技术。
AFM采用微悬臂探针对样品表面进行反弹，将探针的反弹量转化为图像，从而得到样品表面的形貌信息。
AFM可以实现高分辨率的表面形貌分析，对于纳米结构的样品甚至可以达到原子级别的分析。
与SEM不同的是，AFM的表面分析是无需真空环境和特殊条件的，因此在生物学、医学等领域的应用也非常广泛。
三、拉曼光谱分析法拉曼光谱是一种用于研究物质结构、成分和光谱特征的分析方法。
拉曼光谱利用激光来激发样品让其发生振动，进而通过分析样品发出的散射光谱来确定样品的结构、振动频率和类别等信息。
在化学中，拉曼光谱常用于鉴定物质的化学成分、分子结构和官能团等信息。
此外，在材料表面分析中，拉曼光谱可以用于表面包覆物的检测、纳米材料的结构分析和表面吸附分子的研究等方向。
四、X射线衍射（XRD）分析法X射线衍射（XRD）是一种用于分析材料结构和组分的方法。
XRD利用材料对X射线的衍射效应来分析其晶体结构，以此识别材料的种类、提取其结构和组分信息。
在材料表面形貌分析中，XRD常用于对薄膜和纳米结构的样品进行分析。
由于XRD可以识别出样品内部的晶体结构，因此可以用于研究样品的晶格形貌、纳米尺度的晶体缺陷、材料的晶体生长机制等问题。
常用的材料表征手段及方法
常用的材料表征手段及方法
一、常用的材料表征手段及方法
1、电子显微镜（Scanning Electron Microscope，SEM）：利用电子束扫描样品表面，产生高放大倍数的图像，研究材料表面形貌结构及其细节特征，可以分析出材料表面的厚度、形貌、角度等。
2、X射线衍射（X-ray Diffraction，XRD）：利用X射线以一定角度射向样品，检测其衍射的现象，从而分析样品的结构及其组成。
3、热重分析（Thermal Analysis）：分析材料在温度变化过程中物质的重量变化，从而推断材料的性质变化，或者判定材料过程中发生的反应。
4、拉伸测试（Tensile Test）：拉伸测试是检测材料力学性能的主要手段，拉伸力的大小可以反映出材料的强度和延伸率等特性。
5、硬度测试（Hardness Test）：硬度测试是对材料的耐磨性和硬度的检测，通过摩擦和冲击计测量材料的硬度，从而评估材料的抗磨损性能。
6、热膨胀测试（Thermal Expansion Test）：热膨胀测试是检测材料对温度变化的反应，通过测量材料在不同温度下的体积变化，从而判断材料的热膨胀性能。
7、真空测试（Vacuum Test）：真空测试是检测材料密封性能的主要手段，将材料放入真空环境中，测量材料的密封性能，从而判
断材料的使用寿命。
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0.6
产 额 0.4
0.2
背散射电子 二次电子
背散射射 电子产额 和二次电 子产额与 原子序数 Z的关系
0
20
40
60
80 100
原子序数Z
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.5 吸收电子
定义：入射电子进入样品后，经多次非弹性散射使 其能量消耗殆尽，最后被样品吸收，称吸收电子。
与光学显微镜相比， 扫描电子显微镜不仅图像分 辨率高，而且景深大，因此在断口分析方面显示出 十分明显的优势
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.1 概述
扫描电子显微镜的成像原理与透射电镜完全不同， 不是利用电磁透镜聚焦成像， 而是利用细聚焦电 子束在样品表面扫描，用探测器接收被激发的各种 物理信号调制成像
• 特点：特征能量损失电子的能量与样品中元素的 原子序数有对应关系，其强度随对应元素的含量 增大而增大
• 应用：利用电子能量损失谱仪接收特征能量损失 电子信号，可进行微区成分的定性和定量分析
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.6 电子信号强度的关系
如果使样品接地，上述四种电子信号强度与入
a) 背散射电子 b) 吸收电子 c) 透射电子 d) 二次电子 e) 特征X射线 f) 俄歇电子
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.3 背散射电子
当电子束照射样品时，入射电子在样品内遭到衍射 时，会改变方向，甚至损失一部分能量（在非弹性散射 的情况下）。
只有动能的交换，粒子的类型及其内部运动状态 并无改变，则这种碰撞称为弹性散射。
除有动能交换外，粒子内部状态在碰撞过程中有 所改变或转化为其他粒子，则称为非弹性散射。 如电子－原子碰撞中所引起的原子电离和激发
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.2 信号的种类
《材料电子显微分析 技术及应用》
任课教师：魏大庆、饶建存 哈工大分析测试中心 科学园B1栋210室 电话：86417617
第1章 表面形貌分析方法及其应用
a), b), c)分别为 二氧化钛纳米管的 正面，背面和侧面 的扫描电镜图片；
第1章 表面形貌分析方法及其应用
电子显微镜扫描下的花粉粒结构图
2. 能量范围：较宽，从几十到几万电子伏特
3. 产额数量：随样品平均原子序数增大而增大， 所 以背散射电子像的衬度可反映对应样品位置的平 均原子序数。
4. 技术应用：背散射电子像主要用于定性分析材料
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.4 二次电子
• 定义：在入射电子束作用下被轰击出来并离开样 品表面的样品原子的核外电子叫做二次电子
• 定义：若入射电子能量很高，且样品很薄，则会 有一部分电子穿过样品，这部分入射电子称透射 电子
• 分类：透射电子中除了能量和入射电子相当的弹 性散射电子外，还有不同能量损失的非弹性散射 电子，其中有些电子的能量损失具有特征值，称 为特征能量损失电子
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.6 透射电子
目前，扫描电子显微镜二次电子像的分辨率已优于 3nm，高性能的场发射枪扫描电子显微镜的分辨率 已达到 1nm 左右，相应的放大倍数可高达60万倍
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.1 散射的概念
样品对入射电子束的作用主要是散射，其中包 括：弹性散射和非弹性散射： 又称弹性碰撞和非弹性碰撞。
第1章 表面形貌分析方法及其应用
蚯蚓,生物学,扫描电子显微镜,一只动物, 无脊椎
第1章 表面形貌分析方法及其应用
细胞在纳米管表面的粘附状态观察
第1章 表面形貌分析方法及其应用
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.1 概述 扫描电子显微镜开始发展于20世纪60年代，随其性
能不断提高和功能逐渐完善，目前在一台扫描电镜 上可同时实现组织形貌、微区成分和晶体结构的同 位分析， 现已成为材料科学等研究领域不可缺少 的分析工具
在这种弹 性和非弹性散 射的过程中， 有些入射电子 累积散射角超 过 90 度 ， 并 将 重新从样品表 面逸出。
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.3 背散射电子
比较 类别
定义
能量 能量大 方向 数
变化
小
量
弹性背 被样品中原子 基本
散射电 核反弹回来的 散射角大 较 数万电 于90°， 多 子伏 方向变化
非弹性 入射电子和核 变化 数十到 方向变化 较
背散射 外电子撞击经
数千电
少
电子 多次散射后反
子伏
弹出样品表面
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.3 背散射电子
1. 产生深度：背散射电子产生于样品表层几百纳米 直一微米的深度范围
产生范围：产生于样品表层约1微米的深度范围
产额：随样品平均原子序数增大而减小。因为，在 入射电子束强度一定的情况下，对应背散射电子产 额大的区域吸收电子就少，所以吸收电子像也可提 供原子序数衬度
应用：吸收电子像主要也用于定性分析材料的成分
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.6 透射电子
• 产生过程：这是一种真空中的自由电子。由于原子 核和外层价电子的结合力能很小，因此外层的电 子比较容易和原子脱离，使原子电离。一个能量 很高的入射电子射入样品时，可以产生许多的自 由电子，这些自由电子中90%时来自样品原子外层 的价电子
第1章 表面形貌分析方法及其应用
1.2 电子束与样品作用产生的主要信号 1.2.4 二次电子
能量：能量较低，一般不超过50eV，大多数均小 于10eV
应用：二次电子一般都是在表层5~10nm深度范围 内发射出来的，它对样品的表面形貌十分敏感， 因此，能非常有效的显示样品的表面形貌。但二 次电子的产额和原子序数之间没有明显的依赖关 系，所以不能用它来进行成分分析
第1章 表面形貌分析方法及其应用