半导体激光器的模式及特性
TOSA_ROSA基本认识

2、PIN TIA分类 3、PINTIA结构组成
4、ROSA物料组成
5、ROSA工作原理
PIN-TIA分类
按结构分:
1、PIN 2、PINTAI 3、APD 4、APDTIA
PIN-TIA 封装结构剖面图
1、管座(Header) 2、跨阻放大器(TIA) 3、载体(Submount) 4、光电二极管(PD) 5、电容 6、管帽(Cap) 7、球面透镜
TOSA制作注意事项
1、管芯与管芯座粘接激光焊接不良分析比较
不良品
TOSA制作注意事项
2、管芯与管芯座激光焊接不良分析比较
不良品
不良品
TOSA制作注意事项
3、耦合SFP模块组件方向控制
5067-2615方向
TOSA制作注意事项
4、耦合激光焊接焊点要求
LIV测试PD不良比较
正常品
PD不良品
ROSA结构、物料组成、工作原理、生产流程
激光器纵模的概念
激光器的纵模反映激光器的光谱性质。对于半导体 激光器,当注入电流低于阈值时,发射光谱是导带 和价带的自发发射谱,谱线较宽;只有当激光器的 注入电流大于阈值后,谐振腔里的增益才大于损耗, 自发发射谱线中满足驻波条件的光频率才能在谐振 腔里振荡并建立起场强,这个场强使粒子数反转分 布的能级间产生受激辐射,而其他频率的光却受到 抑制,使激光器的输出光谱呈现出以一个或几个模 式振荡,这种振荡称之为激光器的纵模。
息比特率在100~200Mb/s以下,同时只要求 几十微瓦的输入光功率,那么LED是可选用 的最佳光源。
比起半导体激光器,因为LED不需要热稳定
和光稳定电路,所以LED的驱动电路相对简 单,另外其制作成本低、产量高。
852nm激光器的说明书

852nm激光器的说明书全文共四篇示例,供您参考第一篇示例:852nm激光器说明书第一部分:产品概述852nm激光器是一种高性能的红外激光器,具有窄线宽,高功率和稳定性的特点。
该激光器广泛应用于医疗、工业、科研等领域,因其在红外光谱范围内的优异性能而备受青睐。
本激光器采用了先进的半导体激光技术,具有高效率、长寿命和良好的光电特性。
第二部分:技术参数波长:852nm输出功率:可调线宽:<0.1nm光束质量:M² < 1.2工作模式:连续或脉冲可选稳定性:±2%工作温度:10-40摄氏度存储温度:-20-60摄氏度第三部分:产品特点1. 波长精准:852nm激光器波长精度高,保证在红外光谱范围内的精确应用。
2. 输出稳定:采用优质半导体芯片和稳定的光学设计,输出功率稳定,波动小。
3. 长寿命:采用先进的散热设计和封装工艺,保证激光器的长期稳定运行。
4. 多种工作模式:可根据用户需求选择连续或脉冲工作模式,适用于不同的应用场景。
第四部分:安全注意事项1. 严格按照说明书操作,避免超范围使用和调整。
2. 长时间使用后,请确保激光器散热良好,避免过热损坏。
3. 使用前确保激光器和周围环境干净,防止外界污染影响激光器性能。
第五部分:应用领域1. 医疗领域:如激光治疗、激光手术等。
2. 工业领域:如激光测距、激光打标等。
3. 科研领域:如光谱分析、光学实验等。
第六部分:维护保养1. 定期清洁激光器表面及散热口,防止灰尘积聚。
2. 定期检查激光器电路、光学系统,确保运行正常。
3. 激光器长时间不使用时,应储存在阴凉干燥处。
第七部分:售后服务我们承诺对所有出售的852nm激光器提供一年免费保修,终身维护的服务承诺。
如有任何质量问题,请及时联系我们的售后服务部门。
总结:852nm激光器是一种高性能的红外激光器,具有精准波长、高稳定性和长寿命等特点,适用于医疗、工业和科研领域。
用户在使用时应严格按照说明书操作,并注意激光器的安全使用和定期维护,以保证其性能和寿命。
光纤耦合半导体激光器原理

光纤耦合半导体激光器原理光纤耦合半导体激光器是一种将光纤与半导体激光器相结合的器件,可将激光器器件与光纤相互耦合,实现高效的光纤传输和集成应用。
它不仅具备了半导体激光器的小尺寸、高效率、低功耗等特点,还能实现激光光束与光纤之间的高效耦合和传输。
首先,模式匹配是光束通过光纤耦合的关键环节。
激光器芯片的输出模式和光纤的模式必须匹配才能进行有效的耦合。
通常,半导体激光器芯片的输出模式为高斯模式,而光纤的传输模式也为高斯模式。
通过设计激光器芯片和光纤的参数,如直径、焦距等,使得两者的输出模式能够匹配,以确保较高的耦合效率。
其次,光束扩展过程将激光器芯片的较小直径的光束扩展到与光纤直径相匹配的尺寸。
这一过程可以通过使用透镜或光纤连接器等光学元件来实现。
透镜可以将光束进行聚焦和发散,从而实现光束尺寸的调整。
光纤连接器则通过其内部的光学结构来实现光束尺寸的调整和耦合。
最后,耦合效率是衡量光束传输和耦合质量的指标。
耦合效率取决于光纤与半导体激光器芯片之间的距离、角度和位置等因素。
一般情况下,为了最大程度地提高耦合效率,需要将激光器芯片的输出焦点与光纤的输入端对准,并保持二者的光轴一致。
此外,通过调整激光器芯片和光纤之间的距离和角度等,还可以进一步优化耦合效率。
除了以上原理,光纤耦合半导体激光器还需要注意温度的控制和光学元件的稳定性等问题。
激光器芯片的温度对其性能有很大影响,因此需要采用冷却措施来控制温度。
此外,光纤连接器和透镜等光学元件在使用过程中也需要保持稳定的性能,这对于长时间稳定的激光输出至关重要。
总之,光纤耦合半导体激光器通过将半导体激光器芯片与光纤相结合,实现了激光光束的高效耦合和传输。
它的原理涉及模式匹配、光束扩展和耦合效率等关键过程,并需要注意温度控制和光学元件的稳定性等问题。
光纤耦合半导体激光器在光通信、光传感和激光加工等领域具有广泛的应用前景。
半导体激光器的快慢轴

半导体激光器的快慢轴
半导体激光器通常是具有各向同性的结构,但在激光输出的方向上,存在快轴(Fast Axis)和慢轴(Slow Axis)的概念。
这两个轴的不同性质与半导体激光器的结构和工作原理有关。
1.快轴(Fast Axis):在半导体激光器中,快轴通常是激光输出的方向中,激光的光学特性更好的轴。
在快轴方向上,激光器的发散性能(divergence)较小,光束的聚焦性能较好。
快轴通常是激光器的高度模式耦合轴。
2.慢轴(Slow Axis):相对于快轴,慢轴是激光输出方向中,激光的光学特性相对较差的轴。
在慢轴方向上,激光器的发散性能较大,光束的聚焦性能相对较差。
慢轴通常是激光器的低度模式耦合轴。
这两个轴的概念涉及到激光器的设计和优化。
在实际应用中,光束的质量与激光器的设计和材料特性密切相关。
选择快轴和慢轴方向的重要因素包括激光器的结构、材料的各向异性以及所需的应用性能。
半导体激光器速率

半导体激光器速率半导体激光器是一种将电能转化为光能的器件,具有小体积、高效率、低成本等优点,被广泛应用于光通信、激光打印、医疗美容等领域。
而半导体激光器的速率是指其输出激光的频率或脉冲重复频率,对于各种应用而言都具有重要的意义。
半导体激光器的速率可以通过多种方式实现,其中最常见的是调制器的使用。
调制器可以根据输入的信号来调节激光器的输出,实现高速的光信号传输。
常见的调制方式有直接调制和外差调制两种。
直接调制是指通过改变激光器的电流来调节输出激光的光强。
这种方法简单直接,但由于半导体激光器的腔长有限,直接调制速率受到一定的限制。
目前,直接调制速率已经可以达到几十GHz,但要实现更高的速率仍然具有一定的挑战。
为了进一步提高半导体激光器的速率,外差调制成为一种常用的方法。
外差调制是通过引入一个辅助激光光束,与激光器的输出光束进行干涉,从而实现对激光器的调制。
外差调制可以实现非常高的速率,目前已经可以达到数百GHz甚至上千GHz的水平。
除了调制器,半导体激光器的速率还受到其他因素的影响。
例如,激光器的腔长和谐振模式对速率有一定的限制。
当腔长较短时,由于腔长模式间的相互干涉效应,速率会受到限制。
而当腔长较长时,速率受到谐振模式切换的限制。
因此,在设计半导体激光器时需要综合考虑腔长和谐振模式的选择,以实现较高的速率。
半导体材料的特性也会对激光器的速率产生影响。
例如,半导体材料的寿命时间常数决定了激光器的响应速度。
寿命时间常数较短的材料能够实现更高的速率,因为它们的载流子重新组合的时间更短。
因此,在材料选择和制备过程中需要考虑寿命时间常数的优化。
总结起来,半导体激光器的速率是指其输出激光的频率或脉冲重复频率,对于各种应用而言都具有重要的意义。
通过调制器的使用,可以实现对激光器速率的调节,其中外差调制是一种常用的方法。
除此之外,半导体激光器的腔长、谐振模式以及材料的特性也会对速率产生影响。
未来,随着技术的不断发展,我们可以预见半导体激光器的速率将会进一步提高,为各种应用领域带来更多的可能性。
半导体激光器发散角

数据记录
40o
30o
30 o
40 o
实验内容与步骤
2.2. 半导体激光器的偏振度测量
1)旋转偏振片,读出偏振片处于不同角度 2)记录对应的半导体激光器输出值 3)将实验值列表,并计算出其偏振度。
图 3 测量半导体激光器的偏振度
注意事项
1、用光功率获取输出功率时,每选择一个量程都需要重新调零。 2、半导体激光器输出或反射光应避免直接照射人眼。
T10 1l
2)焦距为f的薄透镜的透射矩阵:为 T 11/ f 10
r0 f
f0
(1
g f
) 0
由于半导体激光器快轴方向发散角非常大,不能用上述方法测量,用单点 扫描法。
快轴是单横模输出,其光强基本上按正弦(余弦)函数形式分布。
远场分布是近场分布的Fourier变换。 半导体激光器的模式分为空间模和纵模(轴模)。
半导体激光器的空间模和纵模(轴模)
空间模描述围绕输出光束轴线某处光强分布,
或者是空间几何位置上的光强(或者光功率)的分布,也称为远场分布
纵模表示是一种频谱,它反映所发射的激光其功率
在不同频率分量上的分布。
两者都可能是单模或者出现多个模式(多模)。 边发射半导体激光器具有非圆对称的波导结构,而且在垂直于结平面方向(称横向) 和平行于结平面方向(称侧向)有不同的波导结构和光场限制。
假定一条光线在输出面 的位置 (r0 ,0 );
离输出面 g的地方放一薄透镜 F,薄透镜的焦距 f ,
传输到透镜的后焦平面 时为(rf , f ),则
rff
1 0
f 1
实验一半导体激光器pi特性曲线测量

实验四半导体激光器光谱测量与模式分析一、实验目的:1.了解半导体激光器的工作原理和相关特性;2.掌握半导体激光器模式参数的测量方法;二、实验原理:半导体激光器的模式分为空间模和纵模(轴模)。
空间模描述围绕输出光束轴线某处的光强分布,或者是空间几何位置上的光强(或光功率)的分布,也称远场分布;纵模则表示一种频谱,它反映所发射的光束其功率在不同频率(或波长)分量上的分布。
二者都可能是单模或者出现多个模式(多模)。
边发射半导体激光器具有非圆对称的波导结构,而且在垂直于异质结平面方向(称横向)和平行于结平面方向(称侧向)有不同的波导结构和光场限制情况。
横向上都是异质结构成的折射率波导,而在侧向目前多是折射率波导,但也可采取增益波导,因此半导体激光器的空间模式又有横模与侧模之分。
图1表示这两种空间模式。
图1 半导体激光器横模与侧模由于有源层厚度很薄(约为0.15μm),都能保证在单横模工作;而在侧向,则其宽度相对较宽,因而视其宽度可能出现多侧模。
如果在这两个方向都能以单模(或称基模)工作,则为理想的TEM00模,此时出现光强峰值在光束中心且呈“单瓣”。
这种光束的光束发散角最小、亮度最高,能与光纤有效地耦合,也能通过简单的光学系统聚焦到较小的斑点,这对激光器的应用是非常有利的。
相反,若有源区宽度较宽,则发光面上的光场(称近场)在侧向表现出多光丝,好似一些并行的发光丝,在远场的侧向则有对应的光强分布,如图2所示。
这种多侧模的出现以及它的不稳定性,易使激光器的P-I特性曲线发生“扭折”(kink),使P-I线性变坏,这对信号的模拟调制不利;同时多侧模也影响与光纤高效率的耦合,侧模的不稳定性也影响出纤功率的稳定性;不能将这种多侧模的激光束聚焦成小的光斑。
图2 有多侧模的半导体激光器的近场和远场由于半导体激光器发光区几何尺寸的不对称,其远场呈椭圆状,其长、短轴分别对应于横向与侧向。
在许多应用中需用光学系统对这种非圆对称的远场光斑进行圆化处理。
半导体激光器件中的非线性吸收与多模式抑制研究

半导体激光器件中的非线性吸收与多模式抑制研究半导体激光器件是一种广泛应用于通信、医疗、生物和军事等领域的重要光学设备。
在半导体激光器件的工作过程中,非线性吸收和多模式抑制是其中两个重要的研究方向。
本文将深入讨论半导体激光器件中的非线性吸收与多模式抑制的研究进展,并探讨其在实际应用中的意义和前景。
首先,我们来介绍一下半导体激光器件中的非线性吸收。
非线性吸收是指在光场的作用下,材料的吸收能力与光强呈非线性关系的现象。
在半导体激光器件中,非线性吸收主要由两个原因引起:自然吸收和光生载流子吸收。
自然吸收是指材料本身对特定波长的光具有一定的吸收能力,而光生载流子吸收是由于光激发了半导体材料中的载流子而引起的。
非线性吸收的存在会影响激光器件的输出功率和光谱特性,因此对非线性吸收的研究具有重要意义。
过去的研究表明,非线性吸收对半导体激光器件的性能有着明显的影响。
通过控制和优化非线性吸收现象,可以改善激光器件的输出功率、工作效率和稳定性。
例如,在光通信领域,非线性吸收是限制光通信系统传输距离和数据传输速率的一个重要因素。
因此,研究者们一直致力于开发新的材料和结构,以减少非线性吸收,并提高光通信系统的性能。
除了非线性吸收,多模式抑制也是半导体激光器件中另一个重要的研究方向。
多模式抑制是指抑制多个特定模式的输出,以实现单模输出的目标。
在半导体激光器件中,多模式问题是由于光在共振腔中传输时,会在腔内发生多次反射,并产生多个模式的光。
这些多个模式之间的干涉和相互作用会导致输出光的幅度和相位变化,从而影响激光器件的性能和稳定性。
为了解决多模式问题,研究者们提出了多种方法和技术。
一种常见的方法是通过设计优化激光器件的结构和材料,以减少多模式的产生。
例如,可以采用折射率分布式反射镜来抑制多模式的产生,或者使用非线性光学效应、超快光学调制等技术来实现多模式抑制。
此外,还可以利用自适应光学系统和反馈机制来实现多模式的控制和抑制。
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4.2.6 半导体激光器的基本特性
5.光谱特性 光谱特性
LED和LD的光谱特性 和 的光谱特性
λ0 1.0 0.8 相 对 0. 光 6 强 0.4 0.2 40 60 0 -40 -20 0 20 40 λ0 λ0 1.0
(2~5)nm
1.0 0.8 相 对 0. 光 6 强 0.4 0.2 0 -60 -40
4.2.6 半导体激光器的基本特性
5.光谱特性 光谱特性 (4) 边模抑制比(SSR) 边模抑制比(SSR)
边模抑制比是指在发 射光谱中, 射光谱中,在规定的 输出功率和规定的调 制时最高光谱峰值强 制时最高光谱峰值强 度与次高光谱峰值强 度之比。 度之比。该参数仅用 于单模LD, 于单模 ,如DFB-LD。 - 。
4.2.5 半导体激光器的模式
1.激光器的模式分析 .
纵模决定频谱特性 纵模决定频谱特性 横模决定光场的空间特性 光场的空间特性, 横模决定光场的空间特性,即横模决定近场特性 在激光器表面)和远场特性(近场的傅里叶变换) (在激光器表面)和远场特性(近场的傅里叶变换) 横模分为水平横模和垂直横模两种类型。 横模分为水平横模和垂直横模两种类型。 水平横模和垂直横模两种类型 水平横模反映出有源区中平行于 结方向光场的空 水平横模反映出 有源区中平行于PN结方向光场的空 有源区中平行于 间分布, 主要取决于谐振腔宽度、 间分布 , 主要取决于谐振腔宽度 、 边壁材料及其制 作工艺。 作工艺。 垂直横模表示与PN结垂直方向上电磁场的空间分布。 垂直横模表示与 结垂直方向上电磁场的空间分布。 结垂直方向上电磁场的空间分布
o
近场 图案 远 场 光 o 斑 30
I =80mA 72 64 60
o 10 TEM00 S ~10µm W ~ 1µm
激光器的近场图案和远场光斑
0 40o 角度 垂直于结平面方向
40o
80
o
40
o
20o
0 角度
20o
40
o
平行于结平面方向
4.2.5 半导体激光器的模式
2.纵模的概念与性质 .
4.2.5 半导体激光器的模式
1.55 1~3 30~60
阀值电流 Ith/mA 工作电流 输出功率 入纤功率
100~150 5~10 1~3 5~10 1~3 1~5 0.1~0.3 50~150 30×120 ×
100~150 1~3 0.1~0.2 30~100 30×120 ×
调制带宽 B/MHz 辐射角 寿命 t/h
500~2000 500~1000 20×50 × 20×50 ×
θ /(°)
106 ~107
-20~50 ~
105 ~106
-20~50 ~
108
-20~50 ~
107
-20~50 ~
工作温度 /°C °
4.2.6 半导体激光器的基本特性
LED通常和多模光纤耦合,用于1.3 µm(或0.85 µm)波长的小容 通常和多模光纤耦合,用于 通常和多模光纤耦合 或 波长的小容 量短距离系统。因为LED发光面积和光束辐射角较大, 而多 发光面积和光束辐射角较大, 量短距离系统 。 因为 发光面积和光束辐射角较大 光纤或G.651规范的多模 规范的多模GIF光纤具有较大的芯径和数值 模SIF光纤或 光纤或 规范的多模 光纤具有较大的芯径和数值 孔径,有利于提高耦合效率,增加入纤功率。 孔径,有利于提高耦合效率,增加入纤功率。 LD通常和 通常和G.652或 G.653规范的 单模光纤耦合 , 用于 规范的单模光纤耦合 通常和 或 规范的 单模光纤耦合, 用于1.3 µm或 或 1.55 µm大容量长距离系统。 大容量长距离系统。 大容量长距离系统 分布反馈激光器(DFB - LD)主要和 主要和G.653或G.654规范的单模光 分布反馈激光器 主要和 或 规范的单模光 纤或特殊设计的单模光纤耦合,用于超大容量的新型光纤系统。 纤或特殊设计的单模光纤耦合 , 用于超大容量的新型光纤系统 。
有源区内每秒钟发射的光子数 有源区内每秒钟注入的电子-空穴对数 有源区内每秒钟注入的电子 空穴对数 有源区内每秒钟产生的光子数 有源区内每秒钟注入的电子-空穴对数 有源区内每秒钟注入的电子 空穴对数
Pex hν Pex ηex = = I e IV
PN基本特性
4.2.6 半导体激光器的基本特性
表半导体激光器(LD)和发光二极管 和发光二极管(LED)的一般性能 表半导体激光器 和发光二极管 的一般性能 LD 工作波长 谱线宽度 LED 1.3 50~100 1.55 60~120
λ /µµ ∆λ / nm
I/mA P/mW P/mW
1.3 1~2 20~30
回顾:横模纵模
回顾:纵模特性
4.2.6 半导体激光器的基本特性
5.光谱特性 光谱特性 光谱特性描述的是激光器的纯光学性质 纯光学性质, 光谱特性描述的是激光器的纯光学性质,即输出光功率随波长 的分布规律。 的分布规律。 稳态工作时激光器 光谱由几部分因素 共同决定: 共同决定 : 发射波 长范围取决于激光 器的自发增益谱, 器的自发增益谱 , 精细的谱线结构取 决于光腔中纵模分 布 , 波长分量的强 弱则与激射时各模 式的增益条件密切 有关。 有关。
4.2.5 半导体激光器的模式
3. 横模 横模反映的是由于边界条件的存在对腔内电磁场形态的 横模反映的是由于边界条件的存在对腔内电磁场形态的 横向空间约束作用。 横向空间约束作用。 激光器的横模直 接影响到器件与 光纤的耦合效率 。 通常用近场图和 远场图来表示横 向光场的分布规 律。
4.2.6 半导体激光器的基本特性
∆λ 1/2
GaAlAs: (30~50)nm InGaAsP: (60~120)nm
0.8 相 对 0. 光 6 强 0.4 0.2 0 -0.4 -0.2 0
0.02nm
-20
0
20
0.2
0.4
波长 /nm
波长 /nm
波长 /nm
(a) LED 的 光谱特性
(b) 多模 LD 的 光谱特性
(c) 单模 LD 的 光谱特性
1)纵模数随注入电流变化 纵模数随注入电流变化
当激光器仅注入直流电流时, 当激光器仅注入直流电流时 , 随注入电流的增加纵模数减少 。
4.2.5 半导体激光器的模式
1)纵模数随注入电流变化 纵模数随注入电流变化
随注入电流的增加激光器 发射光谱的峰值波长移向 长波长。 长波长。
4.2.5 半导体激光器的模式
2)动态谱线展宽 动态谱线展宽 对激光器进行直接强度调制会使 发射谱线增宽,振荡模数增加。 发射谱线增宽,振荡模数增加。 这是因为对激光器进行脉冲调制 注入电流不断地变化, 时,注入电流不断地变化,结果 有源区里载流子浓度随之变化, 使有源区里载流子浓度随之变化, 进而导致折射率随之变化, 进而导致折射率随之变化,激光 器的谐振频率发生漂移, 器的谐振频率发生漂移,动态谱 线展宽。 线展宽。 调制速率越高,调制电流越大, 调制速率越高,调制电流越大, 谱线展宽的也越多。 谱线展宽的也越多。
4.2.5 半导体激光器的模式
1.激光器的模式分析 .
注入电流大于阈值电流时 当注入电流大于阈值电流时,辐射光在腔内建立起来的电 磁场模式称为激光器的模式 半导体激光器的模式特 性可分成纵模和横模 性可分成纵模和横模 通常用纵模表示 通常用纵模表示 沿谐振腔传播方 向上的驻波振荡 特性, 特性,横模表示 谐振腔横截面上 的场型分布。 的场型分布。
4.2.6 半导体激光器的基本特性
5.光谱特性 光谱特性 (1) 峰值波长 在规定输出光功率时, 在规定输出光功率时,激光光谱内强度最大的光谱波长被定 义为峰值波长。 义为峰值波长。 (2)中心波长 中心波长 在光源的发射光谱中,连接 % 在光源的发射光谱中,连接50%最大幅度值线段的中点所对 应的波长称为中心波长 (3)谱宽与线宽 谱宽与线宽 包含所有振荡模式在内的发射谱总的宽度称为激光器的谱宽 发射谱总的宽度称为激光器的谱宽; 包含所有振荡模式在内的发射谱总的宽度称为激光器的谱宽; 某一单独模式的宽度称为线宽。 某一单独模式的宽度称为线宽。
1.伏安特性 伏安特性
伏安特性描述的是半导体激光器的纯电学性质 通常用 曲线表示 半导体激光器的纯电学性质, 曲线表示。 伏安特性描述的是半导体激光器的纯电学性质,通常用V-I曲线表示。
4.2.6 半导体激光器的基本特性
2. P-I 特性
P-I 特 性 揭 示 了 LD 输 出 光 功 率 与注入电流之 间变化规律, 是 LD 最 重 要 的 特性之一。 特性之一。
4. 温度特性
I th = I 0 exp(T T0 )
Ith—温度为 时的阈值电流 温度为T时的阈值电流 温度为 I0—一个常数 一个常数 T—结区的绝对温度 结区的绝对温度 T0—LD的特征温度,与器件的材 的特征温度, 的特征温度 结构等有关。 料、结构等有关。对于 GaAs/GaALAs-LD T0=100~150K; ; InGaAsP/InP-LD T0=40~70K
4.2.6 半导体激光器的基本特性
4.2.6 半导体激光器的基本特性
LD 外形图
4.2.6 半导体激光器的基本特性
4.2.6 半导体激光器的基本特性
半导体激光器实用组件
激光器组件是指在一个紧密结构中(如管壳中),除激光二极管( ) 激光器组件是指在一个紧密结构中(如管壳中),除激光二极管(LD) ),除激光二极管 芯片外,还配置其他元件和和实现LD工作必要的少量电路块的集成器 芯片外,还配置其他元件和和实现 工作必要的少量电路块的集成器 主要包括: 件。主要包括: 光隔离器: 输出的激光反射, (1)光隔离器:其作用是防止 输出的激光反射,实现光的单向传输。 光隔离器 其作用是防止LD输出的激光反射 实现光的单向传输。 位于LD的输出光路上 的输出光路上; 位于 的输出光路上; (2)监视光电二极管(PD):其作用是监视 的输出功率变化,通常用 监视光电二极管( ) 其作用是监视LD的输出功率变化 的输出功率变化, 监视光电二极管 于自动功率控制。位于LD背出光面 背出光面; 于自动功率控制。位于 背出光面; (3)尾纤和连接器; 尾纤和连接器; 尾纤和连接器 (4)LD的驱动电路(包括电源和LD芯片之间的阻抗匹配电路); 的驱动电路(包括电源和 芯片之间的阻抗匹配电路 芯片之间的阻抗匹配电路); 的驱动电路 (5)热敏电阻:其作用是测量组件内的温度; 热敏电阻:其作用是测量组件内的温度; 热敏电阻 (6)热电制冷器(TEC):一种半导体热电元件,通过改变外部工作电 热电制冷器( ) 一种半导体热电元件, 热电制冷器 流的极性达到加热和冷却目的; 流的极性达到加热和冷却目的; 其他准直激光器输出场的透镜、 (7)其他准直激光器输出场的透镜、光纤耦合器及固定光纤的支架等。 其他准直激光器输出场的透镜 光纤耦合器及固定光纤的支架等