镀膜实验的数据处理
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通过本实验，我们直接地接触薄膜材料，对薄膜材料有一个直观的感性认识，了解和学会直流磁控溅射制备金属薄膜的原理和方法，了解清洗基片的方法。
七、思考题
1．进行真空镀膜为什么要求有一定的真空度？如果达不到要求会怎样？
由于真空分子碰撞少，污染少，可获得表面物理研究中所要求的纯净，结构致密的薄膜。如果达不到，就会有杂质掺入，镀的膜平整度也不好，结构不致密。
2．镀膜前为什么要对基片认真清洗？为了使镀膜比较牢固，可以怎样对基片进行处理？
对基片进行严格清洗，是因为基片的清洁度直接影响播磨的牢固性和均匀性。如果表面有灰尘杂质等，会降低薄膜的附着力，而且，也会造成薄膜表面不平整，影响薄膜对光的反射。
为了使镀膜比较牢固，应该对薄膜进行严格清洗，再用酒精反复严格擦拭，反复严格擦拭，如果有条件，可对其进行离子轰击，祛除表面上吸附的气体分子和污染物，增加基片表面活性，提高基片与膜的结合力。
指导教师批阅意见：
成绩评定：
五、数据处理
薄膜制备条件
样品标号
沉积时间（min）
5
氩气流量（Sccm）
45
本底真空（Pa）
3.6*10^-1
工作真空（Pa）
8.5*10^-3
溅射电流（A）
0.3
溅射电压（V）
360
薄膜ຫໍສະໝຸດ Baidu度（nm）
50
溅射功率：108W
六、实验结果陈述与总结
在本实验中，我们通过操作仪器，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，完成了真空镀膜。特点是实验步骤比较多，抽真空的时间比较长，但按步骤一步一步来就能顺利完成。最终实验完成得比较顺利，薄膜表面平整度很好。
七、思考题
1．进行真空镀膜为什么要求有一定的真空度？如果达不到要求会怎样？
由于真空分子碰撞少，污染少，可获得表面物理研究中所要求的纯净，结构致密的薄膜。如果达不到，就会有杂质掺入，镀的膜平整度也不好，结构不致密。
2．镀膜前为什么要对基片认真清洗？为了使镀膜比较牢固，可以怎样对基片进行处理？
对基片进行严格清洗，是因为基片的清洁度直接影响播磨的牢固性和均匀性。如果表面有灰尘杂质等，会降低薄膜的附着力，而且，也会造成薄膜表面不平整，影响薄膜对光的反射。
为了使镀膜比较牢固，应该对薄膜进行严格清洗，再用酒精反复严格擦拭，反复严格擦拭，如果有条件，可对其进行离子轰击，祛除表面上吸附的气体分子和污染物，增加基片表面活性，提高基片与膜的结合力。
指导教师批阅意见：
成绩评定：
五、数据处理
薄膜制备条件
样品标号
沉积时间（min）
5
氩气流量（Sccm）
45
本底真空（Pa）
3.6*10^-1
工作真空（Pa）
8.5*10^-3
溅射电流（A）
0.3
溅射电压（V）
360
薄膜ຫໍສະໝຸດ Baidu度（nm）
50
溅射功率：108W
六、实验结果陈述与总结
在本实验中，我们通过操作仪器，电子在电场的作用下加速飞向基片的过程中与氩原子发生碰撞，电离出大量的氩离子和电子。氩离子在电场的作用下加速轰击靶材，溅射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉积在基片上成膜，完成了真空镀膜。特点是实验步骤比较多，抽真空的时间比较长，但按步骤一步一步来就能顺利完成。最终实验完成得比较顺利，薄膜表面平整度很好。