精磨

精磨
精磨

5-3球面金刚石高速精磨工艺

一、金刚石磨具的尺寸在高速精磨中,工件的几何精度和表面质量靠磨具来成型。因此金刚石磨具的尺寸、性能、复盖比、排列方式及磨片的特性参数(精度、浓度、结合剂)都直接影响工件的质量和效率。

①磨的磨具是把金刚石磨片按一定形式排列在磨具基体上,用粘结胶粘结而成,固化后修磨。

②修磨时,是用于先修好光圈的球模,加金刚砂和水,研磨金刚石磨盘。

③修磨后,用磨盘磨玻璃,看玻璃的光圈如何。

④中央留有内空,喷冷却液。

(一)球面金刚石精磨磨盘的曲率半径

粗磨、精磨、抛光各工序之间曲率半径的关系。加工凸球时,即凹模

图加工凸球面的各道工序磨具的曲率半径的关系

如图:零件为粗磨完工后,故其半径为Rc,粗磨模半径Rm,粗磨零

件为贴置模检查,半径为Rtm,检查后零件用精磨模研磨,半径为Rjm,△h1为Rc与Rtm在零件口径上的矢高差,即精磨盘与贴置模之间的光圈差。

为了保证零件为低光圈,并且有低得多提为低得少,应使每道工序都从边缘磨起半径变小。

故应:对凸球面零件(即凹磨盘)Rcm>Rtm>Rjm>Rpm

对凹球面零件(即凸模盘)Rcm

由于高速精磨出来的零件表面粗糙度比散粒小,故所留低光圈数小些,

第一道精磨盘磨出来零件光圈比抛光后光圈低4~ 5道

第二道精磨盘磨出来零件光圈比抛光后光圈低1~2道

(二)精磨盘与镜盘的相对位置和相对尺寸

1、精磨盘与镜盘的相对位置:磨具在主轴上,高速旋转

实现高速磨削

操作方便

镜盘偏心较小

2、精磨盘与镜盘的相对尺寸

指磨盘口径(或矢高)与镜盘口径(或矢高)的比例。

它与相互位置,零件曲率半径有关(不管磨盘、镜盘),p76,表5-5

3、精磨盘的基本半径

R jt=R jm t § ( 凸凹 )

R jt——基本表面曲率半径;R jm——精磨盘要求;t——精磨片厚度;§——胶层厚度,一般取0.1mm

为了保证磨具拧到主轴上,使磨具表面球心与摆架回转处于同一水平,基体一定要有一个基准面。H’为定位尺寸。标注R、H、 D、H’,故设计基本时,除注明R、D、H外,还要注明定位尺寸H’。

P77 图5-14

二、精磨片特性参数的选择

与金刚石磨具参数选择类似

1.粒度:精磨要求较高的磨削效率和较好粗糙度,故常有两个磨

具精磨。

第一道精磨粒度粗些,W20~W28,磨削量大;

第二道精磨粒度细些,W7~W10,粗糙度好。

也可只精磨一道,用W14为宜。

2.浓度

磨具金刚石层内,4.4克拉/cm3,适当的浓度对效率、质量、磨尖寿命均有利。常用40%~50% 法国,西德35%~50% 美国15%~75% 中国 30%~50%

3.结合剂

精磨工序中普遍使用金属结合剂:硬青铜结合剂(铁、钴、铜):寿命长;钢结合剂:耐磨质量稳定,软青铜结合剂(树脂+青

铜):加工大、薄零件。

美国:钢结合剂

西德、法国:(铁、钴、铜)硬青铜

日本:金属结合剂,树脂结合剂

我国:青铜结合剂作用把持金刚石颗粒,其磨损速度应与金刚

石磨耗速度大致相同,平衡磨耗。

故结合剂硬度要与玻璃硬度匹配:玻璃硬,结合剂硬;磨削

量大玻璃软,结合剂软;不出道子

①光学玻璃(K9)比对按磨耗,把结合剂硬度分

硬、中硬、软三种类,

②光学玻璃选精磨片硬度p78表5-6.7.8

如:ZBaF1—67—MZ—1(65左右,中硬玻璃),结合剂05

4、精磨片的形状、尺寸

形状:圆、距(苏联),工作面:平、凸、凹三种,尺寸主

要φ,t

磨片直径φ:取决于精磨盘的曲率半径,口径和镜盘的直径。

磨片厚度t:取决于精磨的直径。φ↑,t↓

参数P78表5-9

附2.3页

三.工艺因素对球面高速精磨的影响

指影响精磨的因素①效率:磨去量

②质量:粗糙度;

③磨具寿命;

④金刚石磨片的钝化

工艺因素包括:

①机床:主轴转速、压力、摆幅;

②磨具:磨片粒度、浓度、结合剂、摆列方式、复盖比等等;

③冷却液:种类,性能,流量、温度等;

④玻璃;品种、工作原始表面粗糙度;

⑤加工时间

1.主轴转速:

玻璃的磨削量随主轴转速的增大成线性增加,表面粗糙度,及凸凹层深度随磨削量增大而增大;磨具磨耗也随主轴转速提高而成线性增加。

国内精磨机主轴转速达几千转,小球面:2~3000转/ 分;中球面:1000转/分左右

2.压强的影响

玻璃的磨去量随压强增大而增大但q(1Kg/cm2,成直线;

q)1Kg/cm2,增大。但不是直线。

3.玻璃原始表面粗糙度

实验表面,在加工条件完全相同的情况下,加工原始表面粗糙度

不同的零件,经测定结果表明,工件原始表面粗糙度大,玻璃磨去量大。这是因为

①粗磨完成后的工件表面粗糙度大,有助于磨具的机械自锐作

用,有利于提高磨削效率,但也不能太粗,会使精磨后的破坏层抛光无法去除,留下砂眼;

②玻璃破坏层内的较深裂纹和凸凹不平的表面,去除破坏层比去

除致密的基体快。

4.玻璃品种4页

去除量随品种而异,一般说来,玻璃硬度大,磨去量小。

5.加工时间

①一般说来,玻璃磨去量随加工时间延长而增加,这决定于玻璃

品种和磨片结合剂的种类;

②加工时间与表面粗糙度和关系分三种情况

散粒磨料精磨工艺

磨料

精磨磨料最粗粒度为W40,最后一道工序的磨料通常视工艺条件而定的。

磨料的使用次序不是一次将所有相邻编号的磨料都用上,而是要按照一定原则能迅速除去上一道磨料的粗糙表面,从而得到均匀的精磨表面。

精磨模的材料

常用的材料为铸铁HT20-40、黄铜H62、砖黄铜HSi80-3。对

于较大直径的平面模具表面,可铣出一些沟槽,以便磨料流通和排出磨下的材料。

精磨模的修改

精磨模经车床加工后,其工作面曲率半径的精度还不能满足光学加工的要求,需进行修改。当精磨模使用一段时间后,表面变形较大,也需要修改。

当修改球模时凹凸模对磨,凹模在上,曲率半径变小;凸模在上,曲率半径变大。

当修改平模时两模误差同号时,顶针放正,振幅中等;两模误差异号时,中心凸起在上,凹下在下,顶针偏离大。

影响精磨模表面曲率半径精度的工艺因素

精磨时玻璃镜盘在精度模上的研磨过程,在磨削玻璃的同时,精磨模也有一定的磨损。逐渐,精磨模就不能保证工件的加工精度。

精磨模与镜盘的相对尺寸

球模时,相对尺寸指Hjm/Hj,平模或大曲率半径时球模,相对尺寸为Djm/Dj.

摆幅的大小

摆幅就是上模摆动的幅度。摆幅越大,上模的中部与下模的边缘磨削较多。因此,摆幅大小应合适。对于平模,上模摆动的距离为下模直径的0.45~0.65范围内;对于球模,上模摆动的角度为下模张角2r的04~0.55范围内。

顶针的前后伸缩

上模中心与下模中心的偏离;偏离越大,上模的中部和下模的边缘磨削较多。因此偏离量的大小也应合适,对于平面,偏离量可取摆幅大小的0~0.1.对于球面为0~0.4.

主轴转速与上模摆速之比

就是主轴转速与偏心轮转速之比。主轴转速越大,下模边缘磨削越大;偏心轮转的越快,上模与下模中心部分磨的越快。对于平面来说,主轴转速为摆幅的0.4~0.8倍,对于球面为1~2.5倍。

精磨注意事项

磨料粒度要均匀,他是精度质量的关键之一;每次加磨料时,要均匀散开,不宜成团的添加;

磨料悬浮液不应太稀或太稠,否则易出划痕;

每次更换磨料时,工作及镜盘应刷洗干净,机器台面也应擦拭干净;

精磨完毕,应用放大镜检查表面有无粗砂眼或划痕;

应经常检查精度面的曲率半径和平面度,发现变化较大时,应及时修整模具。

常见病疵及产生原因

高速精磨工艺5页

高速精磨用金刚石模具

球面金刚石模具

球面金刚石模具结构由金刚石精磨片、粘结剂和模具基体组成。球面金刚石精磨模的曲率半径

金刚石精磨模的曲率半径于散粒磨料精磨模曲率半径的计算有些不同,一般情况下,第一道静默后的光圈数比抛光后的低3~4道,第二道精磨后的光圈数比抛光后的低1~2道。

工艺因素对高速精磨的影响

机床主轴转速

玻璃的磨削量与机床主轴的转速成正比。

镜盘压力

玻璃的磨削量与镜盘的压力成正比。

加工时间的影响

玻璃的磨削量与加工的时间成正比。

工件初识表面粗糙度

工件初识表面粗糙度影响高速精磨的精度,粗糙度越大,玻璃的磨削量越大,精磨后的粗糙度越大。

工艺因素对高速精磨的影响

光圈匹配

光圈匹配指的是被加工镜盘的曲率半径与最后完工的曲率半径之间的差别;一般情况,镜盘的要比完工的光圈低3~4圈。

金刚石精磨片的覆盖比

复盖比与磨削量成反比,对于打球面,覆盖比取小些,对于小球面,覆盖比取大些。

冷却液

在高速精磨是必然后产生大量的磨削热,为减小热应变对玻璃的影响,必须用冷却液进行冷却、润滑及清洗。

常见疵病及产生原因

常见疵病及产生原因(1)

5-4金刚石精磨中的冷却液

高速精磨:①三乙醇胺——水;②甘油——水③三乙醇胺——甘油——水

用金刚石磨具在高速精磨机床上加工零件,机床和磨具对玻璃的机械磨削作用是主要的。但是冷却液的作用也很重要。冷却清洗、润滑、化学作用直接影响去除量、表面粗糙度的磨具寿命。

一、冷却作用

指冷却液流经玻璃和工具表面时,吸收和带走热量的能力。

高速精磨是在高速高压下工作,必然产生较多磨削热。冷却作用要适当才有利于磨削。①若冷却作用太强,温度太低,会使粘结胶变硬,零件脱落,若冷却不足,温度高,磨具磨耗大;②与抛光液温差大,光圈衔接不好。影响磨具寿命和尺寸形稳性。在液体中,水的冷却作用最好,价廉;油的冷却作用最差;乳化液冷却作用介于二者之间。

二.润滑作用

指减少金刚石磨具与工件接触面磨损的能力。

冷却液润滑性好,可以减少摩擦,也可以减少玻璃屑对磨具的附着作用,有利于延迟磨具的釉化,保护磨具,提高效率工件质量。润滑作用过大,会降低磨削效率。

二、清洗作用

指及时清除加工中产生的玻璃碎屑和磨具碎屑的能力。

若冷却液清洗作用差,加工中不断产生的碎屑得不到及时清除,就会堆积在玻璃和磨具的表面上。在高速高压作用下,在磨具表面很快形成一层材料膜,使磨具变钝,这就是金刚石磨具的釉化。

釉化(变钝)的磨具不仅会破坏自锐作用,降低磨削效率,还会使表面粗糙度加大,降低磨具使用寿命。

对于循环使用的冷却液,其中碎屑含量不宜多,应及时清除碎屑或更换,在一定范围内增大冷却液的流量是提高清洗作用的有效方法。

四.化学作用

目前国内外广泛使用的高速就精磨冷却液是以水为主体的水溶性冷却液,①三乙醇胺——水;②甘油——水③三乙醇胺——甘油——水

以三乙醇胺——水冷却液为例,说明对磨具和玻璃的作用:

1.冷却液对金刚石磨具的化学自锐作用

金刚石磨片中,金属结合剂中的铜,能与空气中的二氧化碳、氧、冷却液中的水生成两种碱式碳酸铜:

CuCO3*Cu(OH)2*H2O Cu+CO2+H2O+O2

2[CuCO3* Cu(OH)2] 2

精磨基础知识

精磨基础知识 精磨的目的是保证零件达到抛光前所需要的面形精度尺寸精度和表面粗糙度,由此看出,精度的品质对抛光的影响是重要的。 精磨的方法分为散粒磨料磨和固着磨料精磨。在这里重点讲固着磨料精磨。 一、固着磨料精磨 固着磨料精磨就是金钢石丸片精磨,又称高速精磨,在高速精磨中,既要求有较高的磨削率,又要得到较好的表面粗糙度,所以对丸片的选择粘贴方法,冷却液的选择及其它工艺因素的影响方面条件应考虑周到。 (一)丸片的选择: 丸片的待性参数包括:金钢石的粒度、浓度、结合剂和丸片尺寸等,而金钢石丸片就是将金钢石微粉与结合剂烧结而成。 1、粒度的选择:精磨加要分为两道,第一道精磨主要为切削厚度让其尽快达到规定的尺寸及适当的表面粗糙度,所以一般选择较粗粒度的丸片,如国产:W28、W14、进口、1000#、1 200#、1500#等。第二道精磨需加工较好的表面透明度并使用保证稳定性,所以对丸片粒度的选择一般有:国产、W10、W7、进口:1500#、1800#、2000#等 2、浓度的选择:浓度过低或过高对精磨品质与效率都有较大影响,金钢石丸片的浓度是指金钢石丸片有效体积每立方厘米含有金钢石的重量,规定每立方厘米中含有4.39克拉金钢石作为100%浓度,1克拉=0.2g,浓度为50%其金钢石含量为2.2克拉/cm3.。 如果浓度过高,结合剂就相对减少,这样对金钢石颗粒的把持力减弱金钢石颗粒会过早脱落,若浓度过低,金钢石颗粒相对减少,作用在每个金钢石颗粒上的切削力增大,也可能使金钢石颗粒过早脱落。 3、结合剂: 现使用的结合剂耐磨性由弱到强依次为金属结合剂、树脂结合剂、陶瓷结合剂和电镀结合剂四种,我们现在所使用的丸片一般为金属结合剂和树脂结合剂。 A、金属结合剂:结合力强、耐磨性好、磨耗小,使用寿命长,可以承受较大的载荷磨削,但成本高,自锐性稍差,钝化的金钢石颗粒不能及时脱落,磨削过程不能充分冷却,易堵塞发热。 B、树脂结合剂:加工表面粗糙度小,磨削中不易堵塞发热,耐磨性差,不适合大负荷磨削。 金钢石磨片的结合剂主要作用是把持金钢石颗粒,结合剂的硬度,直接影响钝化金钢石颗粒

精磨

5-3球面金刚石高速精磨工艺 一、金刚石磨具的尺寸在高速精磨中,工件的几何精度和表面质量靠磨具来成型。因此金刚石磨具的尺寸、性能、复盖比、排列方式及磨片的特性参数(精度、浓度、结合剂)都直接影响工件的质量和效率。 ①磨的磨具是把金刚石磨片按一定形式排列在磨具基体上,用粘结胶粘结而成,固化后修磨。 ②修磨时,是用于先修好光圈的球模,加金刚砂和水,研磨金刚石磨盘。 ③修磨后,用磨盘磨玻璃,看玻璃的光圈如何。 ④中央留有内空,喷冷却液。 (一)球面金刚石精磨磨盘的曲率半径 粗磨、精磨、抛光各工序之间曲率半径的关系。加工凸球时,即凹模 图加工凸球面的各道工序磨具的曲率半径的关系 如图:零件为粗磨完工后,故其半径为Rc,粗磨模半径Rm,粗磨零

件为贴置模检查,半径为Rtm,检查后零件用精磨模研磨,半径为Rjm,△h1为Rc与Rtm在零件口径上的矢高差,即精磨盘与贴置模之间的光圈差。 为了保证零件为低光圈,并且有低得多提为低得少,应使每道工序都从边缘磨起半径变小。 故应:对凸球面零件(即凹磨盘)Rcm>Rtm>Rjm>Rpm 对凹球面零件(即凸模盘)Rcm

注塑模具精加工工艺流程

注塑模具精加工工艺流程 一幅模具是由众多的零件组配而成,零件的质量直接影响着模具的质量,而零件的最终质量又是由精加工来完成保证的,因此说控制好精加工关系重大。在国内大多数的模具制造企业,精加工阶段采用的方法一般是磨削,电加工及钳工处理。在这个阶段要控制好零件变形,内应力,形状公差及尺寸精度等许多技术参数,在具体的生产实践中,操作困难较多,但仍有许多行之有效的经验方法值得借鉴。 模具零件的加工,根据零件的外观形状不同,大致可把零件分三类:板类、异形零件及轴类,其共同的工艺过程大致为:粗加工——热处理(淬火、调质)——精磨——电加工——钳工(表面处理)——组配加工。 1. 零件热处理 零件的热处理工序,在使零件获得要求的硬度的同时,还需对内应力进行控制,保证零件加工时尺寸的稳定性,不同的材质分别有不同的处理方式。随着近年来模具工业的发展,使用的材料种类增多了,除了Cr12、40Cr、Cr12MoV、硬质合金外,对一些工作强度大,受力苛刻的凸、凹模,可选用新材料粉末合金钢,如V10、ASP23等,此类材质具有较高的热稳定性和良好的组织状态。 针对以Cr12MoV为材质的零件,在粗加工后进行淬火处理,淬火后工件存在很大的存留应力,容易导致精加工或工作中开裂,零件淬火后应趁热回火,消除淬火应力。淬火温度

控制在900-1020℃,然后冷却至200-220℃出炉空冷,随后迅速回炉220℃回火,这种方法称为一次硬化工艺,可以获得较高的强度及耐磨性,对于以磨损为主要失效形式的模具效果较好。生产中遇到一些拐角较多、形状复杂的工件,回火还不足以消除淬火应力,精加工前还需进行去应力退火或多次时效处理,充分释放应力。 针对V10、APS23等粉末合金钢零件,因其能承受高温回火,淬火时可采用二次硬化工艺,1050-1080℃淬火,再用490-520℃高温回火并进行多次,可以获得较高的冲击韧性及稳定性,对以崩刃为主要失效形式的模具很适用。粉末合金钢的造价较高,但其性能好,正在形成一种广泛运用趋势。 2. 零件的磨削加工 磨削加工采用的机床有三种主要类型:平面磨床、内外圆磨床及工具磨具。精加工磨削时要严格控制磨削变形和磨削裂纹的产生,即使是十分微小的裂纹,在后续的加工使用中也会显露出来。因此,精磨的进刀要小,不能大,冷却液要充分,尺寸公差在0.01mm以内的零件要尽量恒温磨削。由计算可知,300mm长的钢件,温差3℃时,材料有10.8μm左右的变化,10.8=1.2×3×3(每100mm变形量1.2μm/℃),各精加工工序都需充分考虑这一因素的影响。 精磨时选择好恰当的磨削砂轮十分重要,针对模具钢材的高钒高钼状况,选用GD单晶刚玉砂轮比较适用,当加工硬质合金、淬火硬度高的材质时,优先采用有机粘结剂的金刚石砂轮,有机粘结剂砂轮自磨利性好,磨出的工件粗糙可达Ra=0.2μm,近年来,随着新材料的应用,CBN砂轮,也即立方氮化硼砂轮显示出十分好的加工效果,在数控成型磨,坐

第九篇精磨加工工艺

第六章精磨加工工艺 光学零件的高速精磨工艺是指用金刚石固着磨料来磨削玻璃。可以用线接触的方式,如同铣磨那样,进行范成法加工;也可以用面接触的方式,用金刚丸片进行精磨,我司现在主要采用此种模式。 一、精磨加工原理 1.精磨的目的 一方面使工件表面的凹凸层深度和裂纹层深度减少,即达到零件要求表面的粗糙度(外观); 另一方面使工件表面曲率半径的精度进一步提高,保证零件达到抛光前所需要的面形精度(光圈),尺寸精度(中心厚度),因此,从精磨的目的可以分析出精磨的重点控制项目是:光圈、中心厚度、外观。 人们往往认为,精磨表面粗糙度愈小,对抛光越有利,其实这不完全正确。衡量精磨表面结构,主要有两项指标:裂纹层深度和凸凹层深度、裂纹层深度决定抛光要去除材料的厚度,影响抛光时间;凸凹层深度决定抛光模釉化程度,直接影响抛光速率。 抛光过程基本可以分为两个阶段:首先是抛去凸凹层,然后抛去裂纹层,从抛光第一阶段开始,抛光模与工件表面凸凹层峰顶接触,这时抛光玻璃表面承受相当大的单位压力,同时表面的凹坑,使抛光液能充分进入整个表面,因此抛光效率较高。随着抛光过程的继续,抛光模与工件表面接触面积增加,工件所受单位压力减少,同时抛光液在工件表面的附着能力降低,因此抛光过程减缓。当抛光进入二阶段达到裂纹层时,整个工件表面与抛光模完全接触,抛光过程趋于稳定化,这时抛光模开始釉化,随着抛光的继续,釉化加剧,抛光效率降低,釉化程度取决于第二阶段的持续时间,所以第二阶段的抛光时间取决于裂纹层深度的大小,因此精磨后的表面应具有较小的裂纹层深度。 综上,精磨的工件表面结构应具有较小的裂纹层深度和较为粗糙的表面。

超精磨抛光技术

超精磨抛光技术介绍 超精磨抛光技术: 超精磨抛光是一种微米级的近乎艺术形式的表面处理技术。 超精磨抛光工艺: 15年前,磨石研磨抛光是用于精密表面处理的主要工艺方法。而如今,抛光带精磨抛光工艺,也称为"超精抛光"或是"微精抛光",成为了这方面的新的工艺方法。 超精磨抛光技术作为磨石研磨抛光的有力补充,在减少研磨抛光时间的基础上极大地优化了表面处理的精度。从而能够以更低的成本完成表面的预处理工艺。 目的 这种精磨抛光工艺可以到达更高的质量要求,并可在实际应用重复实现,而且事实上这种工艺几乎可以用在所有材质的可旋转的对称工件上。通过这种工艺处理的表面可以达到0.004 um Ra的微米级表面光洁度。 这种工艺的主要优点表现为能够连续抛光整个工件表面。该工艺能够极大改进轴承的表面光洁度从而直接增强其耐磨损能力 超精磨工艺可以去除材料表面的非结构物质或称为"软质皮",这层结构通常有 0.002 至 0.008 mm厚,是由于研磨轮的高温而在材料表面形成的。 事实上,超级精磨工艺能够完成任何材质表面的处理要求,因为这种工艺只能去除材质表面的刺点而不会影响和改变工件本身的形状。 工艺 这种表面抛光工艺使用15或50米长的超精抛光带,这种抛光带的表面研磨剂为0.1至100um的铝合金氧化物颗粒。当工件旋转时,超精抛光带也同时在速度控制的电机下缓慢进给,该进给率是可以进行精调的。抛光带通过振动橡胶接触辊在压力控制下接触工件表面,抛光带的连续进给和回收保证了整个抛光进程的一次性完成。 工件的轴向旋转结合抛光带的横向高频振动将在工件表面产生随机的正弦抛光花纹,同时配合研磨液或是冷却液进行湿研磨。整个抛光单元可以被安装在标准车床的刀具架上。

下摆机精磨抛光工艺标准

文件名称下摆机研磨工艺制定时间版次第一版作成审核批准 一、目的:光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。1去除精磨的破坏层达到规 定的外观质量要求。 2、精修面形,达到图纸规定的曲率半径R值,并满足零件光圈数N及光圈局部误差的 要求。 二、抛光机理: 认为抛光是精磨的继续,它们从本质上是相同的,都是尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合,因此抛光时切向力很大,从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉,逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定范围时,粒度越大,抛光效率越高;抛光粉硬度越高,抛光速率越高(如氧化铈CeQ抛光粉比红粉FM3硬度高,前者比后者抛光速率高2?3倍)。 另外在一定范围内,增大抛光压力,提高主轴转速,抛光速率显著提高,高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得,抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1? 1.2 um。仅从以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 三、抛光基本常识: 1、光圈的概述: 被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时,它们之间形成对称的契形空气间隙,从而产生等厚干涉条纹,在白光照射下,可见到彩色光环,这种彩色环称为光圈,物理学中称牛顿环。 光圈 数: 红色光圈有几圈,光圈数就几圈 、[人1^1 光圈 *「象散光圈允差T椭圆、马鞍形、棱形 (面检)(△ N1表示) 局部 L光圈局部不规则程度T中高、中低、翘边等 2、光圈的识别:(△ N2表示) 高光圈与低光圈: 3、光圈数与局部误差的计算方法: a)光圈数的计算方法:N=N检-N补 光圈数N,实际光圈数为N检,基准补负为N补。 例:基准补负2圈,实际测光圈数为一4圈,贝U: N = N检一N补=4-(-2 )=-2 圈 b)局部误差计算方法: A、象散光圈:△ N仁b/a-1 B 、光圈局部不规划:△ N2=a/b=0.2/仁0.2 具 体 内 容 a. 高光圈:一低头或稍用力压镜片,光圈向外扩散的,即高光圈; b. 低光圈:一低头或稍用力压镜片,光圈向内收缩的,即低光圈;

下摆机精磨抛光实用工艺

实用标准文案 文件名称 作成 下摆机研磨工艺制定时间 审核 版次 批准 第一版 一、目的:光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。1、去除精磨的破坏层达到规定 的外观质量要求。2、精修面形,达到图纸规定的曲率半径R 值,并满足零件光圈数N 及 光圈局部误差△ N的要求。 具 体 内 容 二、抛光机理:认为抛光是精磨的继续,它们从本质上是相同的,都是尖硬的磨料颗粒对玻璃 表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削作用可以在 分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合,因此抛光时切向力很大,从而使玻璃 表面凸凹微痕结构被切削掉,逐渐形成光滑的表面。实验表明抛光粉粒度在一定范围时,粒度 越大,抛光效率越高;抛光粉硬度越高,抛光速率越高(如氧化铈Ce02抛光粉比红粉Fe203 硬度高,前者比后者抛光速率高2~3倍)。 另外在一定范围内,增大抛光压力,提高主轴转速,抛光速率显著提高,高速抛光即是依此而发展起来的。通过实验测得,抛光去除掉的玻璃颗粒尺寸大约为1~1.2 um 。仅从 以上几点即可以看出抛光的机械磨削作用是十分明显的。 三、抛光基本常识: 1、光圈的概述:被检查镜面表面面形与标准曲率半径的原面形有偏差时,它们之间形成对 称的契形空气间隙,从而产生等厚干涉条纹,在白光照射下,可见到彩色光环,这种彩色环 称为光圈,物理学中称牛顿环。 红色光圈有几圈,光圈数就几圈. 象散光圈允差→椭圆、马鞍形、棱形 (△ N1 表示) 光圈局部不规则程度→中高、中低、翘边等 (△ N2 表示) 光圈数: 2、 光圈 面 检)局部 光圈的识别:高光 圈与低光圈: a. 高光圈:一低头或稍用力压镜片,光圈向外扩散的,即高光圈; b. 低光圈:一低头或稍用力压镜片,光圈向内收缩的,即低光圈; 3、光圈数与局部误差的计算方法: a)光圈数的计算方法:N=N检-N 补光圈数N,实际光圈数为N 检,基准补负为N补。 例:基准补负2 圈,实际测光圈数为-4圈,则:N=N检-N补=4-(-2 )=-2 圈 b)局部误差计算方法:

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