HVPE反应器内输运现象的数值模拟研究
垂直式HVPE反应器温场的数值模拟

垂直式HVPE反应器温场的数值模拟
赵勇明;陈贵锋;陈雷英;马晓薇;白云娜;李养贤
【期刊名称】《半导体技术》
【年(卷),期】2008(0)S1
【摘要】基于CFD理论得出了不同条件下的温场分布,研究了流速变化对HVPE 反应器温场的影响。
在模拟计算中,流场数值模拟基于非交错网格系统的SIMPLE 算法,用有限体积方法对控制方程进行离散,并采用改进的压力-速度耦合方法进行求解温场通过与具体实验结合选择合适的温度传输模型,分别改变石墨环几何尺寸、流量等条件,得到反应器流场、温场的相应变化。
根据对模拟结果进行分析,流场对温场的影响是重要的影响因素,流量的大小直接关系到温场的分布,并把数值模拟结果与实验进行了对比验证。
【总页数】3页(P116-118)
【关键词】氢化物气相外延;温场;计算机流体力学;有限体积法;流场
【作者】赵勇明;陈贵锋;陈雷英;马晓薇;白云娜;李养贤
【作者单位】河北工业大学材料学院信息功能材料研究所
【正文语种】中文
【中图分类】TN304.055
【相关文献】
1.HVPE反应器内输运现象的数值模拟研究 [J], 李晖
2.垂直喷淋式原子层沉积反应器设计及数值模拟 [J], 于海群;左然
3.垂直式HVPE生长GaN材料的数值模拟 [J], 赵勇明;陈贵锋;陈雷英;马晓薇;白云娜;李养贤
4.大尺寸HVPE反应器托盘温度的数值模拟研究 [J], 赵江;左然;刘鹏;童玉珍;张国义
5.大尺寸HVPE反应器寄生沉积的数值模拟研究 [J], 黄业;左然;唐斌龙;张红;刘鹏;张国义
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化学工程中的反应器动力学建模与仿真

化学工程中的反应器动力学建模与仿真在化学工程领域中,反应器是一个关键的设备,用于进行化学反应并产生所需的化学产品。
为了更好地设计和优化反应器,工程师们需要了解反应器的动力学行为。
动力学建模和仿真是一种重要的方法,可以帮助工程师们理解和预测反应器的性能。
反应器动力学建模是通过数学方程描述反应器中化学反应的速率和过程。
建模的目的是找到一组能够准确描述反应器行为的方程,并通过解这些方程来预测反应器的性能。
反应器动力学建模的关键是确定反应速率方程,该方程描述了反应物浓度和温度对反应速率的影响。
在建模过程中,工程师们需要收集实验数据来确定反应速率方程的参数。
他们会进行一系列实验,改变反应物浓度和温度,然后测量反应速率。
通过分析这些数据,工程师们可以确定反应速率方程中的参数,并将其应用于模型中。
除了确定反应速率方程的参数,工程师们还需要考虑反应器中的传热和传质过程。
这些过程对反应器的性能有重要影响,因此也需要在模型中加以考虑。
传热和传质方程可以通过热力学和质量平衡方程来描述,工程师们可以利用这些方程来模拟反应器中的传热和传质过程。
一旦完成了反应器的动力学建模,工程师们就可以使用仿真软件来模拟反应器的行为。
仿真软件可以根据模型中的方程,计算出反应器中各个变量随时间的变化。
通过对不同操作条件和反应器设计的仿真,工程师们可以评估不同方案的性能,并选择最佳的操作条件和设计参数。
反应器动力学建模和仿真在化学工程中有广泛的应用。
例如,在新产品的开发过程中,工程师们可以通过建立反应器模型来预测产品的产率和纯度。
这样可以帮助他们选择最佳的反应条件,以提高产品质量和减少生产成本。
此外,反应器动力学建模和仿真还可以用于优化现有反应器的性能。
工程师们可以通过改变操作条件和反应器设计参数,来寻找最佳的操作策略。
通过仿真,他们可以评估不同方案的性能,并选择最佳的方案来改进反应器的效率。
总之,化学工程中的反应器动力学建模和仿真是一种重要的方法,可以帮助工程师们理解和预测反应器的性能。
HVPE反应器的环形分隔进口数对生长均匀性的影响

HVPE反应器的环形分隔进口数对生长均匀性的影响赖晓慧;左然;师珺草;刘鹏;童玉珍;张国义【摘要】利用FLUENT软件对3种环形分隔进口(4环、8环、12环)的氢化物气相外延(HVPE)反应器的生长均匀性进行了二维数值模拟研究.分别考虑输运模型和输运-生长模型,模拟过程保持相同的GaCl、NH3及N2气体进口流量.结果显示:在只考虑输运的模型中,反应室流动均匀性随着进口环数的增多而改善.8环进口时,衬底上方温度分布最均匀;4环进口时,衬底上方的GaC1浓度较高,但均匀性最差,V/Ⅲ比也较低;8环及12环进口可得到均匀的GaCl浓度分布及较高的V/Ⅲ比.在包括输运和GaN生长的模型中,尽管8环进口反应器衬底上方的GaCl浓度低于12环进口反应器,却因其较薄的边界层厚度而导致较高的生长速率,并且生长均匀性较高.因此,8环进口反应室更有利于GaN的HVPE生长.%Two-dimensional numerical simulation was performed by FLUENT for the HVPE reactor with different segmented annular inlets,considering the transport model and transport-growth model,with the flow rates of GaCl,NH3 and N2 kept constant.When only considering the gas transport,the results show that the flow uniformity is improved by increasing the number of annular inlets and the 8 annular inlets reactor can give the most uniform temperature distribution on the substrate.The GaC1 concentration on the substrate of 4 annular inlets is high,but the uniformity is poor,and the V/Ⅲratio is also low.The 8 and 12 annular inlets can give uniform GaCl concentration distribution on the substrate,and high V/Ⅲ ratio.When the GaN growth rate is also considered,the results show that the growth rate for 8 inlets is higher than that of the 12 inlets because of the thinner boundary layer ofthe GaCl concentration,although the GaCl concentration for 8 annular inlets is lower than that of the 12 annular inlets on the substrate.Thus,the 8 annular inlets is more advantageous to the GaN HVPE growth.【期刊名称】《发光学报》【年(卷),期】2013(034)006【总页数】6页(P797-802)【关键词】HVPE;GaN;环形进口;反应器设计;数值模拟【作者】赖晓慧;左然;师珺草;刘鹏;童玉珍;张国义【作者单位】江苏大学能源与动力工程学院,江苏镇江212013;江苏大学能源与动力工程学院,江苏镇江212013;江苏大学能源与动力工程学院,江苏镇江212013;北京大学物理学院宽禁带半导体研究中心,北京100871;北京大学物理学院宽禁带半导体研究中心,北京100871;北京大学物理学院宽禁带半导体研究中心,北京100871【正文语种】中文【中图分类】O471 引言GaN作为第三代半导体材料,广泛应用于蓝光LED、半导体激光器和大功率电子器件HEMT的制备。
化学气相沉积中输运现象的研究

学 出版社,1 7 . 97
[】T E T T A P 3 E R S R ,YO A V NOV C M. a t a Mo en I H M Anl i l d l g yc i
o Na rl o vci o zna A n l R . A a e, f t aC n et ni H r o tl n ui【 】 AI A Pp r u o n i
中图分类号 :T 2 .1 Q021 文献标志码 :A 文章编号 :10 -692 0)60 2 .5 0 213 (0 80.020
Th s a c f a s o tP e o n eRe e r h o n p r h n me ai CVD Tr n
WA NG O b n GU . i
tpc l y ia CVD a tr f o z n l dv ria. T ercruain whc fu n e ytes a eo ra tr tmp rtr f U v lct r co s h r o t etc 1 h ic lt , e o i aa n e o ihi il e c db p f e co, e eaueo wa , eo i sn h h y
反应器内流动场的数值模拟研究

反应器内流动场的数值模拟研究在化学工程、生物工程等众多领域中,反应器是实现物质转化和能量传递的关键设备。
而反应器内的流动场特性对于反应过程的效率、产物的质量和产量等方面都有着至关重要的影响。
因此,对反应器内流动场进行深入研究具有重要的理论意义和实际应用价值。
数值模拟作为一种有效的研究手段,能够在不进行实际实验的情况下,预测反应器内流动场的分布情况,为反应器的设计、优化和操作提供重要的参考依据。
通过建立合理的数学模型和采用适当的数值计算方法,可以模拟出反应器内流体的速度、压力、温度等物理量的分布,从而揭示流动场的内在规律。
在进行反应器内流动场的数值模拟时,首先需要对反应器的几何结构进行精确的描述。
这包括反应器的形状、尺寸、进出口位置等信息。
同时,还需要确定流体的物理性质,如密度、粘度等。
这些参数的准确性直接影响到数值模拟结果的可靠性。
数学模型的建立是数值模拟的核心环节之一。
常见的数学模型包括连续性方程、动量方程和能量方程等。
这些方程描述了流体的质量守恒、动量守恒和能量守恒原理。
为了更好地模拟实际情况,还需要考虑流体的湍流特性、化学反应等因素。
在湍流模拟方面,常用的模型有 kepsilon 模型、雷诺应力模型等。
对于涉及化学反应的情况,则需要引入相应的反应动力学方程。
数值计算方法的选择也是至关重要的。
有限差分法、有限元法和有限体积法是常用的数值计算方法。
有限差分法简单直观,但对于复杂几何形状的适应性较差;有限元法在处理复杂几何形状和边界条件方面具有优势,但计算量较大;有限体积法在守恒性方面表现出色,适用于大多数流体流动问题。
在实际应用中,需要根据具体问题的特点选择合适的数值计算方法。
在完成数值模拟计算后,需要对结果进行详细的分析和评估。
通过可视化技术,可以直观地展示反应器内流动场的分布情况,如速度矢量图、压力云图等。
同时,还可以提取关键位置的物理量数据,进行定量分析。
例如,分析进出口的压力差、速度分布的均匀性等。
反应器内混合效率的数值模拟研究

反应器内混合效率的数值模拟研究在化学工程、生物工程以及许多其他工业领域中,反应器的性能对于生产过程的效率和产品质量起着至关重要的作用。
而反应器内的混合效率则是影响其性能的关键因素之一。
通过数值模拟的方法来研究反应器内的混合效率,能够为优化反应器设计、提高生产效率提供有力的理论支持。
一、反应器内混合的重要性良好的混合在反应器中具有多方面的重要意义。
首先,它有助于促进反应物之间的均匀接触,从而提高反应速率和转化率。
如果混合不均匀,反应物在局部区域可能会过度积聚或缺乏,导致反应不完全或副反应的发生。
其次,均匀的混合能够保证温度和浓度分布的一致性,避免局部过热或过冷,以及浓度梯度引起的不利影响。
此外,对于一些具有复杂反应机制的过程,如串联、并联或竞争反应,良好的混合条件可以更好地控制反应路径和产物选择性。
二、数值模拟的基本原理数值模拟是基于数学模型和计算方法来预测物理系统的行为。
对于反应器内的混合过程,通常采用的是流体动力学(CFD)模型。
CFD模型基于质量守恒、动量守恒和能量守恒定律,通过求解偏微分方程组来描述流体的流动特性。
在建立模型时,需要对反应器的几何形状进行精确描述,并确定边界条件和初始条件。
边界条件包括入口和出口的流速、压力、温度等,而初始条件则是反应开始时流体的状态。
然后,将计算区域划分为网格,网格的精度和类型会对计算结果的准确性和计算效率产生影响。
常用的数值解法包括有限体积法、有限差分法和有限元法等。
这些方法将偏微分方程转化为代数方程组,通过计算机求解得到流场的各种参数,如速度、压力、温度、浓度等。
三、反应器类型与混合特点不同类型的反应器具有不同的混合特性。
例如,搅拌釜式反应器通过搅拌桨的作用实现强制混合,其混合效果相对较好,但能耗较高。
而管式反应器中的流体流动通常为层流或湍流,混合主要依靠分子扩散和对流,其混合效率在不同位置可能存在较大差异。
在搅拌釜式反应器中,搅拌桨的类型、转速、安装位置等都会影响混合效率。
大面积VHF_PECVD反应室喷淋式平板电极间电场和流场数值模拟

第47卷第2期2010年3月真空VACUUMVol.47,No.2Mar.2010收稿日期:2009-12-25作者简介:葛洪(1979-),男,山西省大同市人,博士。
联系人:赵颖,教授。
*基金项目:国家重点基础研究发展计划项目(批准号:2006CB202602和2006CB202603),国家自然科学基金(批准号:60506003),南开大学博士启动基金(批准号:J02031),科技部国际合作重点项目(批准号:2006DFA62390),国家高技术研究发展计划(批准号:2007AA05Z436)和教育部新世纪人才计划(批准号:60506003NCET )资助的课题。
大面积VHF-PECVD 反应室喷淋式平板电极间电场和流场数值模拟*葛洪1,张晓丹1,赵静2,赵颖1(1.南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津300071;2.天津新华职工大学,天津300040)摘要:以大面积喷淋式平板电极甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD)反应室为研究对象,利用FlexPDE 和CFD-ACE+商业软件,对反应室电极间的电场和流场分布进行了数值模拟。
根据数值模拟结果可知:对于大面积喷淋式平板电极VHF-PECVD 反应室,电极间气体流速分布呈现管流特征,而气压分布和电场分布具有类似的分布规律,即在大面积电极中央区域电场较强气压较高,而电极边缘区域电场较弱气压较低;另外,反应室采用喷淋式平板电极进行反应气体馈入,气体总流量、工作气压和电极间距是调节电极间气压分布均匀性的重要参量,采用大电极间距、高工作气压,以及小的气体总流量有助于获得均匀的气压分布。
关键词:甚高频等离子体增强化学气相沉积;喷淋式平板电极;数值模拟;CFD-ACE+中图分类号:O351;O44;TB43文献标识码:A文章编号:1002-0322(2010)02-0040-04Numerical simulation of electric field and flow field between large-area parallel-plateelectrodes of VHF-PECVD ReactorGE Hong 1,ZHANG Xiao-dan 1,ZHAO Jing 2,ZHAO Ying 1(1.Institute of Photo-electronics Thin Film Devices and Technique of Nankai University,Key Laboratory ofPhoto -electronics Thin Film Devices and Technique of Tianjin ,Key Laboratory of Photo -electronic Information Science and Technology (Nankai University),Ministry of Education,Tianjin 300071,China;2.Tianjin Xinhua Staff and Workers University,Tianjin 300040,China)Abstract:Th e VHF -PECVD (very high frequency plasma enhanced chemical vapor deposition)reactor with large -areaspraying parallel -plate electrodes was investigated via a numerical simulation of the distributions of the electric field and flow field between the electrodes by use of the commercial software FlexPDE and CFD -ACE +.The numerical simulation results showed that the distribution of gas flowrate between such electrodes presents the characteristics of pipe flow and both the electric field and gas pressure are distributed similarly,ie.,the electric field intensity is high with high gas pressure in the central part of electrodes,while the electric field intensity is low with low gas pressure in the edge part.In addition,with the reaction gas fed to the reactor via the spraying parallel -plate rlectrodes,the total gas flowrate,working gas pressure and the gap between electrodes are all the important parameters for readjusting the uniformity of the distribution of gas pressure between electrodes.So,the big gap between electrodes,high working pressure and small total gas flowrate benefit the uniform distribution of gas pressure between electrodes.Key words:VHF-PECVD;spraying parallel-plate electrode ;numerical simulation ;CFD-ACE+本文档由真空技术网()提供下载,仅供行业内学习交流使用,请勿作商业用途和非法传播。
反应器过程中液相混合的流动数值模拟

反应器过程中液相混合的流动数值模拟随着化工工艺的不断发展,反应器的应用越来越广泛,反应器的效率和质量也成为了化工工艺的重要指标之一。
而反应器过程中液相混合的流动则在很大程度上决定了反应器的效率和质量。
因此,对反应器中液相混合的流动进行数值模拟,有助于改进反应器的设计,提高反应器的效率和质量。
一、反应器设计与液相混合的流动反应器的设计是反应器工艺的重要环节之一。
设计中需要考虑的因素包括反应器的大小、形状、材料等,以及反应器中液相混合的流动等因素。
液相混合的流动对反应器的影响主要有以下两个方面:1. 反应器中的化学物质混合与排放:如果反应器中液相混合的流动不佳,会导致化学物质不能充分混合,这对反应器产生负面影响。
此外,如果反应器中液相混合的流动不均匀,也会导致化学物质的排放不均。
2. 反应器中的温度分布:液相混合流动的好坏还会影响反应器中的温度分布。
如果液相混合流动不好,就会导致反应器中出现大量的“冷热区”,这会对反应器的反应速率产生负面影响,导致反应器的效率降低。
因此,反应器设计必须充分考虑液相混合的流动,对反应器中的温度分布和化学物质的混合进行精确计算,以保证反应器的效率和质量。
二、反应器中液相混合流动的数值模拟液相混合流动的数值模拟是对反应器设计的重要补充手段,可以对反应器中液相混合的流动进行更加精确和全面的计算。
数值模拟所采用的方法主要有有限元法、有限体积法、谱元法等。
本文重点介绍有限元法。
有限元法是一种将物理问题离散化为单元的方法,将时间连续变为时间步长,将空间离散成有限个子区间,将微分方程离散成代数方程组。
在反应器中液相混合流动的数值模拟中,可以将反应器分为一个个小单元,对每一个小单元进行微分方程的离散化计算,以得到反应器中液相混合流动的各种参数,如流速、流量、温度、压力等。
三、反应器中液相混合流动的数值模拟实例下面通过一个实例来说明反应器中液相混合流动的数值模拟方法。
以一种反应器为例,反应器的直径为2m,高为5m,内径为1.5m,反应器壁厚度2cm,反应器活塞可以上下浮动,反应器中心有一水平旋转轴,旋转轴上面有一个液相喷嘴,液相在旋转轴上旋转,有一部分沿着壁面向下流动,核心区域沿着旋转轴向上流动,形成流动场。
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[ 文章编号]10 70 (00 0 0 7 0 0 7- 4 5 2 1 )5— 38— 6
H P V E反应 器 内输 运现 象 的数 值模 拟研 究
李 晖
( .集美大学机械 工程学院 ,福建 厦门 3 12 ;2 1 60 1 .江苏大学能源 与动力工程 学院 ,江苏 镇江 2 2 1 ) 103
运过程与外部参数的关系进行分析和讨论 ,提出了此类反应器操作参数的优化原则.
1 反 应 器 结构 与 数值 模 拟假 设
1 1 反应 器结构 .
本文 的模 拟对象为一 种具有 同心 圆喷 口的 H P V E反
应 器 ,图 1为该反应 器 的示 意 图. 该反应 器利用 三个 分
隔的进 口来分别通 人载气 和反应气 体 ,以满足 H P V E反 应器关 于分 隔进 口的要 求.其 中 ,位于靠 近反应腔 外壁
G N厚 膜最 为有效 的方法. a
本 文对一 种用于 制备 G N的 同心 圆 喷头 结 构 H P a V E反应 器 内 的输 运 现象 进 行 了数 值 模 拟研究 . 在该反 应器 中 ,反应气体 通过 由同轴套 管组成 的 同心 圆喷头 引入反应 室并 水平 喷 向与气 流垂直 的基片 表 面. 内圆 内通 G C 和辅 N ,外 环 内通 N 。 a1 H ;总 载气 N 通 过平 行 于 同心 圆喷头 的圆管 进 口进入 反 : 应 器. 同时 ,利用 计算机数 值模拟 ,通过 分别改 变反应气及 载气 的进 E流量 、重 力方 向 、工作压 强等 l 操 作参数 ,得 出反 应室 内流场 、温 场 和浓度 场 的相 应变化 .根据 模拟结果 ,对这 种 H P V E反应 器 中输
第l 5卷
第 5期
集 美大学学报 ( 自然科 学版 )
Ju a o m i nvrt( a r c ne or l f ie U i sy N t a S i c ) n J ei ul e
V0 . 5 No 5 J1 . Sp 00 e .2 1
2 1 9月 0 0年
反应 器部分 尺寸如 下 :同心 圆喷 口的外 圆直 径为 5c m,内圆直 径 为 3c m;总载气 ( : 进 口直 N)
径 5c m;基片距 离 同心 圆喷 口 5C I 径 1 m. 1,直 T 0c 12 数值模 拟假设 .
本文重点研究稳态时反应器流场、温场和浓度场随外界参数的变化.为简化复杂的模拟程 ,在
G N是重 要 的宽 带隙半导 体材料 ,是制备 蓝光 L D和大 功率 激光 器等现 代光 电器 件 的基础 n . a E 一] 但 由于缺少 与之相 匹配 的衬底 ,高质量 的 G N薄 膜生 长一 直 存 在 困难 ,限制 了其广 泛应 用 ] 由于 a . 无 法制得 大面积 的 G N体材料 ,利用 H P ( yr eV pr hs E ix ,氢化 物气相外 延 )技术 生 a V E H d d ao ae pt y i P a 长大面积 的 G N厚质外 延层就 成 了重 要 的选择 .H P a V E具 有设 备 简单 、成本 低 、生 长速度 快 等优点 , 可 以生长均 匀 、大 尺寸 的 G N厚 膜 ,作 为进一步 用 MO V a C D生长 薄膜 的衬底 .迄今 报道 的 H P V E生 长 厚膜 ,速率最 高可 以达到 80t / ,而且 位错 密度仅为 1 c ] 0 m h  ̄ 0/m .当前 ,H P V E技术 已经成 为外延
量减小总载气进 口流量 , 当增大同心圆喷 口的双进 I流量 ,并降低反应室 内的压强. 适 = 1
[ 关键词]H P V E反应器 ;同心 圆喷头 ;输运现象 ;数值模拟 [ 中图分类号]T 2 ;T 3 I 0 K 1 1 B4 ;' 34 N [ 文献标志码 ]A
O 引言
[ 摘要 ]对 用于制备 G N的具有 同心 圆喷头的 H P ( a V E 氢化物气相 外延 )反应器 内的输运 现象进行 了 三维数值模拟研究.在模拟计算 中,分别改变总载气进 口流量 、同心圆喷 口进 口流量、重力 、压强等条件,
得到反应 器内流场 、温场、浓度场的相应 变化.根据对模 拟结果 的分析 ,得出输运过程 的优 化条件为 :尽
・3 9・ 7
了抑制对 流和减 少外壁 沉积 ;另一 双重进 口即为所谓 的 同心圆喷 口,它是 以反应 腔 中心轴线 为轴 的同 轴套管 ,内管通 人 由 HC 和金属 G I a源生成 的 G C 和辅 N 的混合 气 ,二者 比例约为 110;外 ( ) aI :0 环
管通人 N H ,以满足 G N生 长大 V/1的要 求 .反应器 如 图 1所示水平 放置 ,基片 ( a 1 1 衬底 )生长 表 面 垂直于 同心圆喷 口放置 .
不影 响主要结 果 的前 提下 ,作如 下假设 :1 忽略 热辐射 和热扩散 效应 ;2 忽 略 G C 粒 子 与 N 的 ) ) a1 H 表 面与气相化 学反应 ,仅 考虑载气 与反应 气体 的混合 、扩散 和对 流效 应 ;3 )反 应器 基 片 的温度 分布 被简化 为等温 条件 ,反应器 外壁也 假设为 另一 等温条 件 ;4 流动 为稳 态 . )
的管状 进 口为 总 载气 进 口,通 人 载气 N ,其 目的 是 为
图 1 具 有 同心 圆喷 口的 H P V E反 应器 示 意 图
Fg 1 S h mai fa HVPE r a trwi i. c e t o c e co t h c n e ti-i ua nes o c nr cr lrilt c c
[ 收稿 日期]20 0 9—1 7 0—1 [ 修回 日期 ]2 1 O —0 0 0一 1 5 [ 基金项 目]福建省科技计划重点项 目 (0 9-06 20 1 0 ) 1 2 [ 作者简介】李晖 (9 4 ) 17 一 ,女,讲师 ,硕士 ,从事工程热物理研究.
第 5期
李晖 :H P V E反应器 内输运现象的数值模拟研究