第6章 半导体器件

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半导体器件-第6章习题

半导体器件-第6章习题

[
(lg I D ) V
G VT G VT
(lg I D ) V VG V
G 0
G 0
VG V
]1
已知VT=0.5V时,S=0.1V/decade 当VG=VT时,ID=0.1×10-6A;当VG=0时,ID=?
所以,
16
解: 由已知条件可得:
10
所以
2
11
18. 一n沟道的n+多晶硅-SiO2-Si MOSFET,其NA=1017cm-3, Qf/q=5×1010cm-2,d=10nm,试计算其阈值电压. 解:
12
13
20. 一p沟道的n+多晶硅-SiO2-Si MOSFET,其ND=1017cm-3, Qf/q=5×1010cm-2,d=10nm,试计算其阈值电压.
1 d 解:由已知条件 Qot 0 y ot ( y )dy d
而, ot ( y 5nm) q 5 1011 cm 2 所以, Qot
1 19 7 11 1.6 10 5 10 5 10 10 107
4 108 C / cm 2
5
由Vo=0.35=Eo×d=Eo×10×10-9得 Eo=3.5×105V/cm 由 得,Es=Eoεox/εs
所以,Es=3.5×105×3.9/11.9=1.147×105V/cm
6
10. 假设氧化层中的氧化层陷阱电荷Qot为薄电荷层,且其在 y=5nm处的面密度为5×1011cm-2,氧化层的厚度为10nm。试计 算因Qot所导致的平带电压变化。
在本征时,有
ψ s ψ B 所以
所以,由 Es
质中静电场的边界条件,电位移矢量连续:

半导体器件基本结构

半导体器件基本结构

半导体器件基本结构半导体器件是一种基于半导体材料制造的电子元件,用于控制和调节电流和电压。

它在现代电子设备中起着重要的作用,包括计算机、手机、电视、汽车等。

半导体器件的基本结构主要由半导体材料、金属电极和其他衬底材料构成。

半导体材料是半导体器件的核心部分,主要有硅和锗。

这些材料的电阻率介于导体和绝缘体之间,即在一定程度上可以导电,但电阻相对较高。

半导体材料的导电性质可以通过杂质掺杂来调节,这种过程可以增加或减少材料中的自由电子和空穴数量。

通过控制杂质的类型和浓度,半导体材料可以具有不同的电性能,如P型半导体和N型半导体。

P型半导体和N型半导体是半导体器件的两种基本类型。

P型半导体是通过杂质掺入三价元素,如硼,将半导体材料中的一些原子替换为杂质原子。

这些杂质原子缺少一个电子,被称为“空穴”。

因此,P型半导体中的电荷移动是由空穴贡献的。

N型半导体是通过杂质掺入五价元素,如磷,将半导体材料中的一些原子替换为杂质原子。

这些杂质原子有一个额外的电子,被称为“自由电子”。

因此,在N型半导体中,电荷移动是由自由电子贡献的。

半导体器件的常见结构包括二极管、三极管和场效应晶体管。

二极管是最简单的半导体器件之一,由P型半导体和N型半导体材料的结合组成。

在二极管中,当正向电压施加在P型半导体一侧时,空穴和自由电子结合,形成一个电流通路,即正向电流。

而在反向电压施加时,两种半导体材料之间形成一个势垒,阻止电流流动,即阻塞反向电流。

三极管是一种基于二极管的三端口装置,通常由两个N型半导体材料和一个P型半导体材料组成。

三极管中的电流被控制通过一个输入电流和一个输出电流进行放大。

当输入电流施加到基极时,它会控制两个PN结之间的电流流动,从而调节输出电流。

这种结构使得三极管成为一种重要的电子放大器和开关。

场效应晶体管(FET)是一种依靠电场调控电流的器件。

它由一个控制电极(栅极)、一个源极和一个漏极组成,通常是由浅的、高掺杂的P型或N型半导体材料制成。

半导体器件分析课件

半导体器件分析课件
传感器与MEMS器件在医疗、环境监测等领域有广泛应用。研究新型传感器与MEMS器 件结构、材料和制程技术,提高器件的灵敏度、稳定性、可靠性等性能。
微波与毫米波器件
随着无线通信技术的发展,对微波与毫米波器件的需求增加。研究新型微波与毫米波器件 结构、材料和制程技术,提高器件的频率范围、功率容量、效率等性能。
根据能带理论,半导体材料具有特殊的能带结构,其价带和导带之间的间隙称为能 隙,电子需要吸收或释放能量才能从价带跃迁到导带。
能带理论是理解半导体器件工作原理的基础,它解释了为什么半导体材料具有导电 性,以及为什么半导体器件能够在外加电场的作用下控制电流的流动。
半导体器件的输运特性
半导体器件的输运特性是指电子 在半导体材料中的运动规律,包 括电子的扩散、漂移、散射等过
流几乎为零。
实际半导体器件的电流-电压特性会受到温度、材料、工艺等因素的影响, 表现出不同的特性。
半导体器件的频率特性
频率特性是指半导体器件在工作频率下 的性能表现。
频率特性主要受到载流子寿命、迁移率、 了解频率特性对于设计高频或微波频段
结电容等因素的影响。在高频下,半导
的半导体器件具有重要的意义。
体器件的性能会受到散射和寄生效应的
限制,表现出不同的频率响应。
03
CATALOGUE
半导体器件的制造工艺
半导体材料的选择与制备
半导体材料种类
半导体材料制备方法
硅、锗、硒、磷等元素及化合物半导 体材料,具有导电性能可控的特性。
采用物理或化学气相沉积、外延生长 等方法制备单晶或多晶半导体材料。
半导体材料纯度要求
可靠性强化
选择适合特定应用的半 导体材料和介质材料,
以改善器件性能。

半导体器件物理第6章习题及答案

半导体器件物理第6章习题及答案

第六章 金属-氧化物-半导体场效应晶体管6-3.在受主浓度为31610-cm 的P 型硅衬底上的理想MOS 电容具有0.1um 厚度的氧化层,40=K ,在下列条件下电容值为若干?(a )V V G 2+=和Hz f 1=,(b ) VV G 20=和Hz f 1=,(c )V V G 20+=和MHz f 1=。

解答: (1)V V G 2+=,Hz f 1= 由 si BTH C Q V ψ+-=014830004048.8510 3.5410(/)0.110K C F cm x ε----⨯⨯===⨯⨯ )(70.0105.110ln 026.02ln 221016V n N V i a T f si =⨯⨯===φψ si a s dm a B qN k x qN Q ψε02-=-=7.010106.110854.8122161914⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯-=-- )/(1088.428cm C -⨯-= 则 )(08.270.01054.31088.4880V C Q V si B TH=+⨯⨯=+-=--ψTH G V V < ,则21020000)21(εs a G sSk qN V C C C C C C C +=+=21141619168)1085.81210106.121054.321(1054.3---⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯⨯+⨯=)/(1078.128cm F -⨯=b) V V G 20=,Hz f 1=G TH V V >,低频)/(1054.3280cm F C C -⨯==∴c)V V G 20+=,MHz f 1=G TH V V >,因为高频,总电容为0C 与S C 串联820min 3.4810(/)s s s dmk C C F cm x ε-=====⨯则 )/(1075.1280cm F C C C C C s s -⨯=+=6-4.采用叠加法证明当氧化层中电荷分布为)(x ρ时,相应的平带电压变化可用下式表示:()x FBqx x V dx C x ρ∆=-⎰解答:如右图所示, 消除电荷电荷片dx x q )(ρ的影响所需平带电压:000000)()()()(C x dx x xq x x x k dx x q x C dx x q dV FBρερρ-=-=-=由 00x →积分:()x FBq x x V dx C x ρ∆=-⎰6-6.利用习题6-3中的结果对下列情形进行比较。

半导体物理与器件 第6章

半导体物理与器件 第6章

式中, E Fm 表示金属的费米能级,下标 m 表示金属。
图 6.1 金属的功函数
功函数标志着金属中的电子摆脱金属的束缚所需要的能 量,表 6.1 为几种常见金属的功函数。类似地,也可定义半 导体的功函数为半导体的费米能级与真空能级之差,即
图 6. 2 为半导体的功函数,图 6. 2 中出现的 E Fs 表示半 导体的费米能级, χ 为半导体的电子亲和能,表示半导体导 带底的电子要逸出体外所需的最小能量。不同的半导体材料 具有不同的电子亲和能,表 6.2 中给出常见的几种半导体的 电子亲和能。半导体的功函数是随着半导体的掺杂浓度的变 化而变化的,但当材料的种类确定后,半导体的电子亲和能 则是定值,不随掺杂浓度的变化而改变。
6. 1 金属半导体接触
在这一节中将讨论金属和不同导电类型的半导体接触的 情况。
6. 1. 1 金属和半导体的功函数 金属和半导体类似,也存在自己的费米能级。在绝对零
度时,费米能级以下的所有能级都被电子所占据,而费米能 级以上的能级则是全空的。随着温度的升高,此时虽然有少 量电子通过热激发能获得能量跃迁到高于费米能级的地方, 但费米能级以下的所有能级几乎都被电子所占据,而费米能 级以上的能级几乎是全空的。因此,金属中的电子虽然可自 由运动,但它仍受金属的束缚。用 E 0 表示真空能级,金属 费米能级的位置如图 6.1 所示,其中定义金属费米能级与真 空能级 E 0的差为金属的功函数即
由于在金属和半导体接触的界面处,在接触前和接触后 各能级之间的关系没有发生变化,因此有
若金属与 N 型半导体接触,金属的功函数小于半导体 的功函数,则电子从金属向半导体流动,半导体一侧带负电, 金属一侧带正电,电场的方向是由带正电的金属指向带负电 的半导体,即电场是由半导体的表面指向体内。沿着电场的 方向就是电势降低的方向,乘以电子电量,就是电子电势能 增加的方向,因此从半导体表面到体内,能带向上弯,从半 导体体内向半导体表面看的话,能带是向下弯。此时在能带 弯曲的部分,积累了大量的电子,是一个高电导的区域,与 前面的阻挡层相对应,将其称为反阻挡层。其平衡时的能带 图如图 6.4所示。

第6章(MOS电容)

第6章(MOS电容)
南京大学
半导体器件原理
(2)界面陷阱电容(并联于硅电容)
(3)表面产生复合中心(减小少子寿命)
在耗尽时起作用,而在反型或积累时不起作用。
(4)表面态或陷阱帮助的带到带隧穿
南京大学
半导体器件原理
二、高场效应
1. 碰撞离化和雪崩击穿 αp 单位距离内空穴导致电子空穴对产生 αn单位距离内电子导致电子空穴对产生
南京大学
半导体器件原理
(4)氧化层中的可动电荷 来源:沾污氧化层外表面的正离子,在电场或温度的 作用下,漂移到近界面处。 影响:在硅表面处感应负电荷,影响器件的稳定性。
成份:Na+,K+,Li+,H+。 热氧化后去除表层氧化层, 采用P处理, 无钠清洁工艺 用氮化硅作表面钝化。
南京大学
半导体器件原理
南京大学
半导体器件原理
1)对耗尽层情况: 由氧化层厚度,半导体掺杂浓度,可得ψs 随VG的变化关系。
南京大学
半导体器件原理
2)对强反型情况: 空间电荷密度还包括载流子,耗尽层宽度达极 大值。 外加电压只引起反型层中电子浓度的增加以及 金属电极上正电荷的增加。
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半导体器件原理
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半导体器件原理
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半导 实际常用实验测定。
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半导体器件原理
经验碰撞离化率 (1)αn>> αP, 特别在低电场时 (2)离化系数随电场迅速增长,PN结中,减小最大 电场以减小离化系数 掺杂缓变或使用轻掺杂区做i层, 可有效降低PN 结中的峰值电场.
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半导体器件原理
λ:Si中热电子能量损失的平均自由程 qV(d):发射的有效能量势垒 ER:光学声子能量 λ0:10.8 nm, λ的低温极限。

69第6章3_半导体器件物理EM3模型

69第6章3_半导体器件物理EM3模型

半导体器件物理(1)半导体器件物理(I)在E-M2模型基础上进一步考虑晶体管的二阶效应,包括基区宽度调制、小电流下复合电流的影响、大注入效应等,就成为E-M3模型.第6章BJT模型和BJT版图6-1 E-M 模型四、E-M3模型半导体器件物理(I)1.基区宽度调制效应(Early 效应)按照器件物理描述的方法,正向放大应用情况下,采用正向Early 电压V A (记为VA )描述c’-b’势垒区两端电压Vc’b’对有效基区宽度X b 的影响,进而导致I S 、βF 等器件特性参数的变化。

同样引入反向Early 电压(记为VB )描述反向放大状态下Ve’b’的作用。

第6章BJT模型和BJT版图6-1 E-M 模型四、E-M3模型半导体器件物理(I)考虑基区宽变效应引入两个模型参数:正向Early 电压VA反向Early 电压VB这两个模型参数的默认值均为无穷大。

若采用其内定值,实际上就是不考虑基区宽度调制效应。

考虑基区宽变效应等效电路并不发生变化。

第6章BJT模型和BJT版图1.基区宽度调制效应(Early 效应)6-1 E-M 模型四、E-M3模型半导体器件物理(I)小电流下正偏势垒区存在的复合和基区表面复合效应使基极电流增大。

引入下述基区复合电流项描述正向放大情况下be 结势垒区的影响:I 2=I SE [exp(qV b’e’/Ne kT)-1]反向放大情况下引入下述基区复合电流描述bc 结势垒区的影响:I 4=I SC [exp(qV b’c’/Nc kT)-1]相当于等效电路中I B 增加两个电流分量。

2.小电流下势垒复合效应的表征第6章BJT模型和BJT版图6-1 E-M 模型四、E-M3模型第6章BJT模型和BJT版图6-1 E-M模型四、E-M3模型2.小电流下势垒复合效应的表征半导体器件物理(I)半导体器件物理(I)I 2=I SE [exp(qV b’e’/Ne kT)-1]I 4=I SC [exp(qV b’c’/Nc kT)-1]新增4个模型参数:ISE (发射结漏饱和电流)ISC (集电结漏饱和电流)NE (发射结漏电流发射系数)NC (集电结漏电流发射系数)第6章BJT模型和BJT版图2.小电流下势垒复合效应的表征6-1 E-M 模型四、E-M3模型半导体器件物理(I )正向放大情况下,大注入效应使I CC 随be 结电压的增加趋势变慢,为此只需将I CC 表达式作下述修正,等效电路无需变化:I CC =I S [exp(eV b’e’/kT)-1]/[1+(I S /I KF )exp(eV b’e’/2kT)](1/2)反向放大情况下,考虑大注入效应,I EC 随与bc 结电压关系作如下修正:I EC =I S [exp(eV b’c’/kT)-1]/[1+(I S /I KR )exp(eV b’c’/2kT)](1/2)3.大注入效应的表征第6章BJT模型和BJT版图6-1 E-M 模型四、E-M3模型半导体器件物理(I)I CC =I S [exp(eV b’e’/kT)-1]/[1+(I S /I KF )exp(eV b’e’/2kT)](1/2)I EC =I S [exp(eV b’c’/kT)-1]/[1+(I S /I KR )exp(eV b’c’/2kT)](1/2)考虑大注入效应,新增两个模型参数:IKF :表征大电流下正向电流放大系数下降的膝点电流IKR :表征大电流下反向电流放大系数下降的膝点电流3.大注入效应的表征第6章BJT模型和BJT版图6-1 E-M 模型四、E-M3模型半导体器件物理(I)第6章BJT模型和BJT版图6-1 E-M模型五、讨论1.默认值为0或者无穷大的模型参数E-M2模型中有14个模型参数以及E-M3模型中的ISE和ISC两个参数的默认值均为0。

半导体物理与器件 第六章3

半导体物理与器件 第六章3

海因斯-肖克莱少子漂移迁移率实验 海因斯 肖克莱少子漂移迁移率实验
Vin d A n E0 V1 B V2
t=0时刻 时刻 输入脉冲
t=t0
t
x − µ p E0t = 0
d µp = E0t0
δp脉冲按少子迁移率 δp脉冲按少子迁移率 脉冲 沿着外加电场方向漂 沿着外加电场方向漂 移
t=t1 t
半导体物理与器件
Hale Waihona Puke 半导体物理与器件半导体物理与器件
§6.6 表面效应
在实际的半导体器件中,半导体材料不可能是无穷大的,总有 在实际的半导体器件中,半导体材料不可能是无穷大的 无穷大 一定的边界,因此表面(边界) 一定的边界,因此表面(边界)效应对半导体器件的特性具有 非常重要的影响。 非常重要的影响。 表面态 当一块半导体突然被中止时, 当一块半导体突然被中止时,表面理想的周期性晶格发生中 出现悬挂键(缺陷),从而导致禁带中出现电子态( ),从而导致禁带中出现电子态 断,出现悬挂键(缺陷),从而导致禁带中出现电子态(能 ),该电子态称为表面态。通常位于禁带 该电子态称为表面态 禁带中 呈现为分立 级),该电子态称为表面态。通常位于禁带中,呈现为分立 的能级,可以起到复合中心的作用。SRH理论表明 复合中心的作用 理论表明, 的能级,可以起到复合中心的作用。SRH理论表明,过剩少 数载流子的寿命反比于复合中心的密度,由于表面复合中心 数载流子的寿命反比于复合中心的密度, 寿命反比于复合中心的密度 的密度远远大于体内复合中心的密度,因此表面过剩少数载 的密度远远大于体内复合中心的密度,因此表面过剩少数载 流子的寿命要远远低于体内过剩少数载流子的寿命 要远远低于体内过剩少数载流子的寿命。 流子的寿命要远远低于体内过剩少数载流子的寿命。
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字电路里的开关元件,以及作为小电流的整流管。
电工电子技术
N型锗片 阳极 引线 阴极 引线
N型硅
铝合金小球
阳极引线 PN结 金锑合金 底座
金属触丝 (a)
外壳 (b) 阴极引线
图6.7半导体二极管的结构及符号 (a)点接触型结构;(b)面接触型结构;
电工电子技术
阳极 阴极 引线 引线
P N
a
阳极
阴极
极管的伏安特性。
电工电子技术
I / mA C 8 4 - 150 - 100 - 50 UB D R U E I I / A (a)
图6.8 二极管的伏安特性
二极管特性 R
A
B
I
+ U - U/V
0 0.4 0.8 1.2 - 10 死区 - 20 电压
(a)硅二极管2CP6;
电工电子技术
I / mA C 8 4 UB - 40 - 30 - 20 - 10 - 0.2 A B 0 0.4 0.8 1.2 U / V 死区 电压
(a)硅原子;(b)锗原子;(c)简化模型
电工电子技术 本征半导体晶体结构示意图如图 6.2 所示。由图 6.2可见,各原子间整齐而有规则地排列着,使每个原 子的4个价电子不仅受所属原子核的吸引,而且还受相 邻4个原子核的吸引,每一个价电子都为相邻原子核所 共用,形成了稳定的共价键结构。每个原子核最外层 等效有8个价电子,由于价电子不易挣脱原子核束缚而 成为自由电子,因此,本征半导体导电能力较差。
电工电子技术 2. 反向击穿电压UB 反向击穿电压是指反向击穿时的电压值。击穿时, 反向电流剧增,使二极管的单向导电性被破坏,甚至 会因过热而烧坏。一般手册上给出的最高反向工作电 压约为击穿电压的一半,以确保管子安全工作。例如
2AP1最高反向工作电压规定为 20V,而实际反向击穿
电压可大于40V。
电工电子技术
一、本征半导体
本征半导体是一种纯净的半导体晶体。常用的半 导体材料是单晶硅(Si)和单晶锗(Ge)。 半导体硅和锗都是4价元素,其原子结构如图 6.1(a),(b)所示。
电工电子技术
价电子 电子轨道 惯性核
Si + 14
Ge + 32
+4 价电子
原子核 (a) (b) (c)
图6.1半导体的原子结构示意图
综上所述,PN结正向偏置时,正向电流很大;PN
结反向偏置时,反向电流很小,这就是 PN 结的单向导 电性。
电工电子技术
6.2 半导体二极管
一、 半导体二极管的结构
半导体二极管又称晶体二极管,简称二极管。二
极管按其结构的不同可以分为点接触型和面接触型两类。 点接触型二极管的结构,如图 6.7 ( a )所示。这 类管子的PN结面积和极间电容均很小,不能承受高的 反向电压和大电流,因而适用于制做高频检波和脉冲数
电工电子技术
反向电流不超过其最大稳定电流,就不会形成破坏性
的热击穿。因此,在电路中应与稳压管串联一个具有 适当阻值的限流电阻。
电工电子技术
电工电子技术
P区
N区
P
耗尽层空 间电荷区
N
扩散运动方向 (a)
图6.5PN结的形成
自建场 (b)
(a)多子扩散示意图;(b)PN结的形成
电工电子技术 2. PN结的单向导电性 1)PN结正向偏置——导通 给PN结加上电压,使电压的正极接P区,负极接N区 (即正向连接或正向偏置),如图 4.6 ( a )所示。由于 PN结是高阻区,而P区与N区电阻很小,因而外加电压几 乎全部落在 PN 结上。由图可见,外电场将推动 P 区多子 (空穴)向右扩散,与原空间电荷区的负离子中和,推动 N区的多子(电子)向左扩散与原空间电荷区的正离子中 和,使空间电荷区变薄,打破了原来的动态平衡。同时电 源不断地向 P 区补充正电荷,向 N 区补充负电荷,其结果 使电路中形成较大的正向电流,由P区流向N区。这时PN 结对外呈现较小的阻值,处于正向导通状态。
电工电ห้องสมุดไป่ตู้技术
结变窄
结变宽
-+
P
-- ++
N 自建场方向 P -- ++ N
-+ -+
-- ++
外电场方向 自建场方向
外电场方向 正向电流(很大) + -
反向电流(很小) - +
(a)
图6.6PN结的单向导电性 (a)正向连接; (b)反向连接
(b)
电工电子技术
2)PN结反向偏置——截止
将PN结按图 6.6(b)所示方式连接(称 PN 结反 向偏置)。由图可见,外电场方向与内电场方向一致, 它将 N 区的多子(电子)从 PN 结附近拉走,将 P 区的 多子(空穴)从 PN 结附近拉走,使 PN 结变厚,呈现 出很大的阻值,且打破了原来的动态平衡,使漂移运 动增强。由于漂移运动是少子运动,因而漂移电流很 小;若忽略漂移电流,则可以认为PN结截止。
电工电子技术
+4
+4
+4
自由电子
+4 +5 +4
施主原子
+4 +4 +4
图6.4 N型半导体的共价键结构
电工电子技术
三、 PN结的形成及特性
1. PN结的形成 在同一块半导体基片的两边分别形成N型和P型半 导体,它们的交界面附近会形成一个很薄的空间电荷 区,称其为PN结。
PN结的形成过程如图6.5所示。
图6.9
温度对二极管伏安特性的影响
电工电子技术
(3)当温度升高时,反向击穿电压减小。击穿现象
是由于大的反向电流使少数载流子获得很大的动能, 当它与PN结内的原子发生碰撞时,产生了很多的电 子—空穴对,使PN结内载流子数目急剧增加,并在反 向电压作用下形成很大的反向电流。因此温度升高时, 反向击穿电压减小。 综上所述,温度升高时,二极管的导通压降UF降 低,反向击穿电压UB减小,反向饱和电流IS增大。
电工电子技术 三、 半导体二极管的主要参数 二极管的参数是定量描述二极管性能的质量指标, 只有正确理解这些参数的意义,才能合理、正确地使 用二极管。 1. 最大整流电流IF
最大整流电流是指管子长期运行时,允许通过的
最大正向平均电流。因为电流通过PN结时要引起管 子发热。电流太大,发热量超过限度,就会使PN结 烧坏。例如2AP1最大整流电流为16mA。
电工电子技术
二、 杂质半导体
在本征半导体中掺入微量的杂质元素,就会使半导 体的导电性能发生显著改变。根据掺入杂质元素的性质不 同,杂质半导体可分为P型半导体和N型半导体两大类。 1. P型半导体 P型半导体是在本征半导体硅(或锗)中掺入微量的3 价元素(如硼、铟等)而形成的。因杂质原子只有3个价 电子,它与周围硅原子组成共价键时,缺少1个电子,因 此在晶体中便产生一个空穴,当相邻共价键上的电子受热 激发获得能量时,就有可能填补这个空穴,使硼原子成为 不能移动的负离子,而原来硅原子的共价键因缺少了一个 电子,便形成了空穴,使得整个半导体仍呈中性,如图 6.3所示。
电工电子技术 2. N型半导体 N型半导体是在本征半导体硅中掺入微量的5价元 素(如磷、砷、镓等)而形成的,杂质原子有5个价电 子与周围硅原子结合成共价键时,多出1个价电子,这 个多余的价电子易成为自由电子,如图4.4所示。
综上所述,在掺入杂质后,载流子的数目都有相
当程度的增加。因而对半导体掺杂是改变半导体导电 性能的有效方法。
作电压,否则管子容易损坏。
电工电子技术
4.2.4 特殊二极管
特殊用途的二极管在电子设备中早已得到广泛的应 用,这里简单介绍几种特殊用途的二极管。
1.稳压二极管
1)稳压特性 稳压二极管的伏安特性曲线、图形符号及稳压管电 路如图4.10所示,它的正向特性曲线与普通二极管相似, 而反向击穿特性曲线很陡。在正常情况下稳压管工作在 反向击穿区,由于曲线很陡,反向电流在很大范围内变 化时,端电压变化很小,因而具有稳压作用。图中的UB 表示反向击穿电压,当电流的增量ΔIZ很大时,只引起很 小的电压变化ΔUZ。只要
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6.1 6.2 6.3 6.4
半导体的基础知识 半导体二极管 半导体三极管 场效应管
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6.1 半导体的基础知识
物体根据导电能力的强弱可分为导体、半导体和
绝缘体三大类。凡容易导电的物质(如金、银、铜、 铝、铁等金属物质)称为导体;不容易导电的物质 (如玻璃、橡胶、塑料、陶瓷等)称为绝缘体;导电 能力介于导体和绝缘体之间的物质(如硅、锗、硒等) 称为半导体。半导体之所以得到广泛的应用,是因为 它具有热敏性、光敏性、掺杂性等特殊性能。
I / A (b)
图6.8 二极管的伏安特性
(b)锗二极管2AP15
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1)正向特性
0A段:称为“死区”。 AB段:称为正向导通区。 2)反向特性 0D段:称为反向截止区。这时二极管呈现很高
的电阻,在电路中相当于一个断开的开关,呈截止状
态。
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DE段:称为反向击穿区。当反向电压增加到一
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+4
+4
+4
共价键
+4 +4 +4
价电子
+4 +4 +4
图6.2单晶硅的共价键结构
电工电子技术 但是,如果能从外界获得一定的能量(如光照、温 升等),有些价电子就会挣脱共价键的束缚而成为自由 电子,在共价键中留下一个空位,称为“空穴”。空穴 的出现使相邻原子的价电子离开它所在的共价键来填补 这个空穴,同时,这个共价键又产生了一个新的空穴。
定值时,反向电流急剧加大,这种现象称为反向击穿。 发生击穿时所加的电压称为反向击穿电压,记做UB。 这时电压的微小变化会引起电流很大的变化,表现出 很好的恒压特性。同样,若对反向击穿后的电流不加 以限制,PN结也会因过热而烧坏,这种情况称为热 击穿。
电工电子技术 2. 温度特性 温度对二极管伏安特性的影响如图4.9所示。
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