半导体物理_第六章

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半导体物理基础 第六章 MOS

半导体物理基础   第六章   MOS

QS QB qNa xd
2 qNa xd S 2k s 0
(6-5)

(6-6)
6.2 理想MOS电容器
代入(6-44)式解出 x
d
Xd
kS 0 kS 0 2VG 1 C0 2 C0 C0 qkS 0 N a
2 0 12
(6-45)
C 2C 1 qN k VG C0 a S 0
6.2 理想MOS电容器
积累区( VG <0)
MOS系统的电容C基本上等于绝缘体电容 C0。当负偏压的数值逐渐减少时,空间电 荷区积累的空穴数随之减少,并且 QS 随 C也就变小。 平带情况( VG =0)
S
的变化也逐渐减慢, C S 变小。总电容
C FB C0
1 k 0 LD 1 k s x0
(6-1)
掌握载流子积累、耗尽和反型和强反型的概念。 正确画出流子积累、耗尽和反型和强反型四种情况的能带图。 导出反型和强反型条件
6.2 理想MOS电容器
6.2 理想MOS电容器
系统单位面积的微分电容
微分电容C与外加偏压 VG 的关系称为MOS系统的电容—电压特性。
dQM C dVG
(6-1)
S =半导体表面的电场
k0 =氧化物的相对介电常数
k S =半导体相对介电常数
xd =空间电荷区在半导体内部的边界亦即空间电荷区宽度。
外加电压 VG 为跨越氧化层的电压
V0和表面势 S 所分摊:
(6-2)
VG V0 S
6.1 理想MOS结构的表面空S结构内的电位分布
(6-22)
dV0 d s 1 dVG C dQM dQM dQM

半导体物理_第六章_pn结

半导体物理_第六章_pn结

Jn dEF dx n n
qDp dEF J p p0 kT dx
电流密度与费米能级的关系 对于平衡的pn结,Jn, Jp均为零,因此,
Jp dEF dx p p
EF=常数
qDp dEF J p p0 kT dx
当电流密度一定时,载流子浓度大的地方, EF随 位置变化小,而载流子浓度小的地方, EF随位置 变化较大。
非平衡载流子的电注入:正向偏压使非平衡载流子进入半导 体的过程。
注入到p区的电子断与空穴复合,电子流不断转化 为空穴流,直到全部复合为止。
扩散电流〉漂移电流
根据电流连续性原理,通过pp’(或nn’)任何一个界 面的总电流是相等的。只是电子电流和空穴电流 的比例不同。 总电流=扩散电流+漂移电流
反向偏移下,非平衡状态 外加反向电场与内建势场方向一致。
1. pp’处注入的非平衡少数载流子浓度:
EFn Ei n p ni exp( ) k0T EFn EFP n p p p ni exp( ) k0T
2
p p ni exp(
Ei EFp k0T
)
在pp’边界处, x=-xp, qV=Efn-Efp,
qV n p ( x p ) p p ( x p ) ni exp( ) k0T
电子电势能-q V(x)由n到p不断升高 P区能带整体相对n区上移。n区能带整体相对p区下移。 直到具有统一费米能级 pn结费米能级处处相等标志pn结达到动态平衡,无扩散、 漂移电流流过。
动态平衡时
本征费米能级Ei的变化与-qV(x)一致
k0T n Dn q
k0T n Dn q
同理,空穴电流密度为:
qV x p ( ) 0 2. 加反向偏压下,如果qV>>k0T, e k0T

半导体物理学第六章解读

半导体物理学第六章解读

ND X D ND NA
1
Q=eND
Xn
2
0e
(
NDNA ND NA
)(VD
V
2 )
♦单边突变结:
XD
2
e
0
1
(VD V NB
)
2
♦势垒区主要在轻掺杂 一边
• 对p+-n结, NB代表ND • 对p-n+结, NB代表NA
xn X D
xp XD
P+-n结
3. 突变结的势垒电容
电势
图6-8
电子势能(能带)
6.1.5p-n载流子的分布 ♦ 当电势零点取x=-xp处,则有: EC (x) EC qV (x)
EV (x) EV qV ( x)
x x p , EC ( x) EC x xn , EC (x) EC qVD
♦势垒区的载流子浓度为:
EC qV ( x ) EF
• 反向偏压下的突变结势垒电容(单位面积):
1
CT A
dQ dV
2(
0eND NA
ND NA )(VD
V
)
2
CT 0
A XD
CT
(VD
1 V )1/ 2
• 几点说明:
① p-n结的势垒电容可以等效为一个平行
板电容器,势垒宽度即两平行极板的距离
② 这里求得的势垒电容, 主要适用于反向 偏置情况
xn
NAXD ND NA
, xp
ND X D ND NA
• 代入上式
VD
q
2 0
( NAND ND NA
)
X
2 D
♦则,平衡p-n结
1
XD

半导体物理 第六章 PN结

半导体物理 第六章  PN结
主要内容:
1、非平衡PN结能带图 2、PN结电流电压方程
1、非平衡PN结
(1)PN 结正偏、反偏
• 平衡PN结
P
N
• 正偏PN结
P
N
• 反偏PN结
P
N
哈尔滨工业大学微电子科学与技术系
(2)非平衡PN能带图
EC
E
n F
空穴 EFP
能量 EV
qVD q(VD-V)
E
p F
电子
EC
能量
EFn
EV
EC
空穴 EFP
扩散电容:
(2)突变结势垒电容
CTA2(NA r 0 N qD)A N V N (D DV)AX rD 0
XD
2r0(NAND)V (DV) qN AND
(3)线性缓变结势垒电容
CT
A3
qjr202 12(VDV)
r0A XD
XD
3
12r0(VD qj
V)
(4)扩散电容
CDa2q(np0Lnk 0Tpn0Lp)exk q p 0TV
x
x
qVD ECn EFn
电子 能量
EVn
哈尔滨工业大学微电子科学与技术系
• 本征费米能级 Ei 随位置 x 的变化
dEi qdV(x)
dx
dx
(3)平衡PN结的载流子分布
n ( xP) n n 0 exp
xp
qV
( x ) qV
k
xn
0
TN
D
ห้องสมุดไป่ตู้
pp0
p(x)
p n 0 expn(x )qV
§6.1 PN结及其能带图
P-N Junction and its energy band diagram

微电子学 半导体物理学 第六章pn结

微电子学 半导体物理学 第六章pn结

(N
2 x 2 + N D xn ) A p
x D = xn + x p N A x p = N D xn
NA ND xn = xD x p = xD NA + ND NA + ND
1/ 2
1/ 2
2ε 0ε r 2ε ε N + N D 代入 VD 得 x D = 0 r A VD = qN VD N AN D q eff q2 N A (x + x p )2 (-xp<x<0) EC ( x ) = EC ( p ) − 2ε 0ε r q2 N D ( x − xn )2 − 2011 EC ( x ) = E复旦大学半导体物理 -qV D (0<x<xn) + C ( p) 2ε 0ε r
复旦大学半导体物理 - 2011
14
平衡时的费米能级
J n = J n扩 + J n漂 = 0
dn 0 J n = qn 0 µ n E + qDn dx
dn0 1 dEi 1 dE F = − n0 + n0 dx k BT dx k BT dx dV ( x ) 1 dEi E=− = dx q dx
NDNA越大,VD越大;Eg越大,ni越小,VD越大。 NA=1017cm-3, ND=1015cm-3, Si的VD=0.70V. 复旦大学半导体物理 - 2011
17
平衡时,
qVD = Ecp − Ecn = E g + ( EFn − Ec ) + ( Ev − EFp )
对于非简并半导体,势垒高度会大于禁带宽度Eg吗?
耗尽层近似
从N区到P区,随着电子势能的升高,电子浓度 迅速下降,由于Vd(~1V),在势垒区的大部 分范围内,电子极为稀少,可视为电子耗尽, N侧空间电荷区的电荷基本是由电离施主贡献 的。同理,P侧空间电荷区的电荷有电离受主 贡献。 认为,在空间电荷区载流子被耗尽了

半导体物理第六章习题答案

半导体物理第六章习题答案

第6章 p-n 结1、一个Ge 突变结的p 区n 区掺杂浓度分别为N A =1017cm -3和N D =5´1015cm -3,求该pn 结室温下的自建电势。

解:pn 结的自建电势结的自建电势 2(ln)D A D iN N kT V qn=已知室温下,0.026kT =eV ,Ge 的本征载流子密度1332.410 cm i n -=´代入后算得:1517132510100.026ln0.36(2.410)D V V ´´=´=´4.4.证明反向饱和电流公式(证明反向饱和电流公式(证明反向饱和电流公式(6-356-356-35)可改写为)可改写为)可改写为2211()(1)i s n n p p b k T J b q L L s s s =++ 式中npb m m =,n s 和p s 分别为n 型和p 型半导体电导率,i s 为本征半导体电导率。

证明:将爱因斯坦关系式p p kT D qm =和nnkT D q m =代入式(式(6-356-356-35))得 0000()p n p n S p n n pn p n p p nn p J kT n kT p kT L L L L m m m m m m =+=+因为002i p p n n p=,002i n nn p n =,上式可进一步改写为,上式可进一步改写为00221111()()S n p i n p i n p p p n n n p p nJ kT n qkT n L p L n L L m m m m m m s s =+=+ 又因为又因为()i i n p n q s m m =+22222222()(1)i i n p i p n q n q b s m m m =+=+即22222222()(1)i i i n p p n q q b s s m m m ==++ 将此结果代入原式即得证将此结果代入原式即得证2222221111()()(1)(1)n p i i Sp np pn np pnqkT b kT J q b LL q b L L m m s s mssss=+=××+++ 注:严格说,迁移率与杂质浓度有关,因而同种载流子的迁移率在掺杂浓度不同的p 区和n区中并不完全相同,因而所证关系只能说是一种近似。

《半导体物理》胡礼中第六章 非平衡载流子

《半导体物理》胡礼中第六章 非平衡载流子

第六章 非平衡载流子处于热平衡状态的半导体在一定温度下载流子密度是一定的。

但在外界作用下,热平衡状态将被破坏,能带中的载流子数将发生明显改变,产生非平衡载流子。

在半导体中非平衡载流子具有极其重要的作用,许多效应都是由它们引起的,如晶体管电流放大,半导体发光和光电导等都与非平衡载流子密切相关。

在大多数情况下,非平衡载流子都是在半导体的局部区域产生的,这些载流子除了在电场作用下作漂移运动外,还要作扩散运动。

本章主要讨论非平衡载流子的运动规律及其产生和复合机理。

§6-1 非平衡载流子的产生和复合一.非平衡载流子的产生。

若用n 0和p 0分别表示热平衡时的电子和空穴密度,则当对半导体施加外界作用使之处于非平衡状态时,半导体中的载流子密度就不再是n 0和p 0了,要比它们多出一部分。

比平衡态多出的这部分载流子称过剩载流子,习惯上也称非平衡载流子。

设想有一块n 型半导体,若用光子能量大于其禁带宽度的光照射该半导体,则可将其价带中的电子激发到导带,使导带比热平衡时多出了一部分电子n ∆,价带多出了一部分空穴p ∆,从而有:0n n n -=∆ (6-1) 0p p p -=∆ (6-2) 且 n ∆=p ∆ (6-3) 式中,n 和p 分别为非平衡状态下的电子和空穴密度,n ∆称非平衡多子,p ∆称非平衡少子,对于p 型半导体则相反。

n ∆和p ∆统称非平衡载流子。

图6-1为光照产生非平衡载流子的示意图。

通过光照产生非平衡载流子的方法称光注入,如果非平衡载流子密度远小于热平衡多子密度则称小注入。

虽然小注入对多子密度的影响可以忽略,但是对少子密度的影响却可以很大。

光注入产生的非平衡载流子可以使半导体的电导率由热平衡时的0σ增加到σσσ∆+=0,其中,σ∆称附加电导率或光电导,并有:p n pe ne μμσ∆+∆=∆ (6-4) 若n ∆=p ∆,则 )(p n pe μμσ+∆=∆ (6-5) 通过附加电导率的测量可直接检验非平衡载流子是否存在。

半导体物理第六章PN结

半导体物理第六章PN结

二、PN结的反向电流
加反向偏压时,外加电场与内 建电场方向相同,增强了势垒区的 电场强度,势垒区加宽、增高,漂 移运动超过了扩散运动。n区中的空 穴(p区中的电子)一旦到达势垒区 边界处,就立即被电场扫向p区(n 区),构成了pn结的反向电流,方 向由n区到p区。
一、PN结的正向电流
多子电流与少子电流的转换
注入的非平衡少子在扩散过程中与多子相遇
中性区 势垒区 扩散区 扩散区 中性区 + p n
而不断复合,经过一个扩散长度后,复合基 本完毕,载流子浓度接近平衡数值。非平衡 少子边扩散边复合的区域称为扩散区,载流 子浓度接近平衡值的区域称为中性区 半导体中的电流主要由多子运载,然而pn结 正向电流是由电注入的非平衡少子引起的。 �非平衡少子被多子复合并非电流的中断, 因为与少子复合的多子是从n区的右边过来的 电子,所以它们的复合正好实现了少子电流 到多子电流的转换,如图c所示。
qV ) k0T
� pn结的正向电流随正向偏压呈指数规律增长。
一、PN结的正向电流
正偏压作用下的能带图
1、由于正偏压的作用,势垒高度下降, pn结不再处于平衡状态,在势垒区和扩散区,电子 准费米能级和空穴准费米能级不一致,而在中性区二者则趋于重合。 �说明通过势垒边界分别注入到两侧的非平衡载流子扩散一段距离后才复合完毕。而中性区 载流子的分布接近热平衡分布,故在中性区,两个准费米能级趋于汇合成统一的费米能级。
qα j x d 2V ( x ) ρ ( x) = − = − dx 2 ε sε 0 ε sε 0
xD 对上式积分,并利用边界条件 ε ⎛ ± ⎜ ⎝ 2
⎞ ⎟ = 0 , 得: ⎠
ε ( x) =
qα j
2ε sε 0x − Nhomakorabea2
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对于N型半导体材料,在小注入条件下,少数载 流子空穴的浓度将以时间常数τp0进行衰减。
τp0称为过剩少数载流子的寿命。此时多数载流 子电子和少数载流子空穴的复合率也完全相等, 即:
一般而言,过剩载流子产生率通常与电子或空 穴的浓度无关。
讨论过剩载流子产生和复合过程常用的符号
3. 产生与复合过程 (1)带与带之间的产生与复合过程:
2. 过剩载流子的产生与复合 当有外界激发条件(例如光照)存在时, 将会把价带中的一个电子激发至导带,从而产 生了一个电子-空穴对,这些额外产生出的电 子和空穴就称为过剩电子和过剩空穴。
过剩电子和过剩空穴一般是由外界激发条件 而产生的,其产生率通常记为gn'和gp',对于 导带与价带之间的直接产生过程来说,过剩电 子和过剩空穴也是成对产生的,因此有:
当有过剩载流子产生时,电子的浓度和空穴 的浓度就会高出热平衡时的浓度,即:
其中n0和p0分别是热平衡状态下导带电子和价带 空穴的浓度,δn和δp分别是过剩电子和过剩空 穴的浓度。 右图所示 就是由光 激发所引 起的过剩 电子和过 剩空穴的 产生过程
当有过剩载流子产生时,外界的激发作用就 已经打破了热平衡状态,电子和空穴的浓度也 不再满足热平衡时的条件,即:
第六章 半导体中的非平衡过剩载流子
本章学习要点: 1. 了解有关过剩载流子产生与复合的概念; 2. 掌握描述过剩载流子特性的连续性方程; 3. 学习双极输运方程,并掌握双极输运方程的 几个典型的应用实例; 4. 建立并深刻理解准费米能级的概念; 5. 了解表面效应对过剩载流子复合的影响,并 掌握其定性分析的方法。
D’和μ’分别称为双极扩散系数和双极迁移率。 根据扩散系数和迁移率之间的爱因斯坦关系,
由上述公式可见,双极扩散系数D’和双极 迁移率μ’均为载流子浓度的函数,又因为载流 子浓度n、p中都包含了过剩载流子的浓度δn , 因此双极输运方程中的双极扩散系数和双极迁 移率都不是常数,由此可见,双极输运方程是 一个非线性的微分方程。
我们已经介绍了处于热平衡状态下的半导 体材料。当有外加电压时,或者有电流流过半 导体器件时,半导体材料实际上就处于一种非 热平衡状态。 非热平衡状态:半导体材料处于外界作用 力下的一种状态。 本章中将讨论非平衡的过剩载流子随着空 间位置和时间的变化关系,这也是研究PN结稳 态特性和双极型晶体管特性所必不可少的
由此可见对于P型半导体材料和小注入条 件,双极扩散系数和双极迁移率分别简化为少 数载流子电子的扩散系数和迁移率,它们都为 常数,因此双极输运方程也简化为一个系数为 常数的线性微分方程。
同样如果我们考虑的是一块N型半导体材料并 假定n0>>p0,仍然采用小注入条件,即δn<<n0, 与上述分析类似,此时双极扩散系数可简化为
因此单位时间内由于x方向空穴粒子流的通 量而导致微分体积元中空穴的净增量为:
假如Fpx+(x)>Fpx+(x+dx),则微分体积元中 净的空穴数量将随着时间而不断增加。如果我 们将上式推广到一般的三维情形,则上式变为:
除了空穴粒子流的通量之外,空穴的产生率 和复合率同样也会影响微分体积元中空穴的浓度, 因此考虑空穴的产生和复合效应之后,单位时间 内微分体积元中空穴的净增量为:
由于过剩电子和过剩空穴相互分离所诱生 的内部电场示意图:
考虑上述内建电场之后,上一节中导出的 电子和空穴的连续性方程中的电场则应同时包 含外加电场和内建电场,即:
其中Eapp为外加电场,而Eint则为内建电场。 由于内建电场倾向于将脉冲的过剩电子和过剩空 穴保持在同一空间位置,因此这些带负电的过剩 电子和带正电的过剩空穴就会以同一个等效的迁 移率或扩散系数共同进行漂移或扩散运动。这种 现象通常称为双极扩散或双极输运过程。
1.泊松方程 我们已经提到连续性方程描述了过剩载流 子浓度随着时间和空间的变化规律,但是我们 还需要增加一个方程来建立过剩电子浓度及过 剩空穴浓度与内建电场之间的关系,这个方程 就是泊松方程,其表达式为:
其中εS是半导体材料的介电常数。为了便 于联立求解上述方程组,我们需要做适当的近 似。可以证明,只需很小的内建电场就足以保 证过剩电子和过剩空穴在一起共同漂移和扩散, 因此我们可以假设:
电子和空穴的连续性方程可进一步变换为下述 形式:
பைடு நூலகம்
注意在上述两个时间相关的扩散方程中,既包含 与总的载流子浓度n、p相关的项,也包含仅仅与 过剩载流子浓度δn、δp相关的项。
因此上述两式就是在掺杂和组分均匀的条 件下,描述半导体材料中过剩载流子浓度随着 时间和空间变化规律的方程。
§6.3 双极输运过程 如果在有外加电场存在的情况下,在半导 体材料中的某一点处产生出了一个脉冲的过剩 电子和一个脉冲的过剩空穴,此时这些过剩电 子和过剩空穴就会在外加电场的作用下朝着相 反的方向漂移. 但是,由于这些过剩电子和过剩空穴都是带 电的载流子,因此其空间位置上的分离就会在 这两类载流子之间诱生出内部电场,而这个内 建电场又会反过来将这些过剩电子和过剩空穴 往一起拉,即内建电场倾向于将脉冲的过剩电 子和过剩空穴保持在同一空间位置。
§6.1 载流子的产生与复合 所谓载流子的产生,即把一个价带电子激 发至导带,形成一对可以参与导电的电子-空 穴对的过程;所谓载流子的复合,即一个导带 电子跃迁至价带,使得一对本来可以参与导电 的电子-空穴对消失的过程。
1. 热平衡状态下的半导体材料 对于处于热平衡状态的半导体材料来说,其 中电子和空穴的浓度不随时间发生变化。但是 这只是一种动态平衡,在半导体材料中仍然不 断地存在着大量电子-空穴对的产生过程,同 时也存在着大量电子-空穴对的复合过程。
3. 非本征掺杂与小注入条件的限制 对于上述非线性的双极输运方程,我们可以 利用非本征半导体材料和小注入条件来对其进行 简化和线性化处理。
其中n0和p0分别是热平衡时的电子和空穴浓 度,δn则是过剩载流子浓度。如果我们考虑P型 半导体材料并假定p0>>n0,所谓小注入条件,即 过剩载流子浓度远小于热平衡时的多数载流子浓 度,亦即δn<<p0,再假设Dn、Dp处于同一个数量 级,由上式,双极扩散系数可简化为:
上式即称为一维条件下的空穴连续性方程。
类似地可以得到一维条件下的电子连续性方程为:
式中Fn-为电子粒子流的通量,其单位也是 cm-2s-1,电子的复合率表示为n/τnt,其中τnt既 包含热平衡载流子寿命,也包含过剩载流子寿命。 在第五章中我们曾经推导出了空穴的电流密度 方程和电子的电流密度方程,它们分别为:
尽管内建电场很小,但是其散度却未必能够 忽略不计。
为了确保内建电场的存在,以便使得过剩电 子和过剩空穴能够在一起共同漂移和扩散,只 需很小的过剩电子和过剩空穴的浓度差。可以 证明,过剩电子浓度δn和过剩空穴浓度δp只 要有1%的差别,其引起的内建电场散度就不 可以忽略,此时有:
2. 双极输运方程
一般情况下,半导体中的电子和空穴总是 成对产生的,因此电子和空穴的产生率总是相 等的,即:
其中第一项αrni2为热平衡时的产生率。由于 过剩电子和过剩空穴总是成对产生的,即:
在小注入的条件下,上述方程很容易求解。 对于非本征的N型半导体材料,通常n0>>p0;而对 于非本征的P型半导体材料,则有p0>>n0,小注入 条件也就是过剩载流子的浓度远远低于热平衡时 多数载流子的浓度。反之,大注入条件(接近或超 过)
和热平衡时一样,过剩电子也会不断地和过 剩空穴相复合。假设过剩电子和过剩空穴的复 合率分别为Rn'和Rp',由于过剩电子和过剩空 穴也是成对复合掉的,因此有:
下图所示为半导体材料中过剩载流子的复合过 程,如果撤掉外界作用,由于过剩载流子的复 合作用,非热平衡状态将会逐渐地向热平衡状 态恢复。
对于导带与价带之间的直接复合过程来说, 电子发生复合的速率既与电子的浓度成正比, 也与空穴的浓度成正比,因此有:
对于P型半导体,在小注入条件下上述方程变为
此方程的解为一个指数衰减函数:
对小注入条件来说,τn0是一个常数,上式反 映了过剩少数载流子电子的衰减过程,因此τn0 也称为过剩少数载流子的寿命。微秒数量级
过剩少数载流子电子的复合率(通常其定义为 一个正值)则可以表示为:
对于带与带之间的直接复合过程来说,过剩多 数载流子空穴也将以同样的速率发生复合,即:
假设电子和空穴的热产生率分别为Gn0和Gp0,其 单位为cm-3·s-1,对于导带与价带之间的产生过 程,电子和空穴都是成对产生的,因此有:
与此类似,假设电子和空穴的复合率分别为Rn0 和Rp0,其单位也是cm-3·s-1,对于导带与价带之 间的直接复合过程来说,电子和空穴也是成对 复合掉的:
在热平衡状态下,电子和空穴的浓度不随时间 改变,即达到动态平衡,因此有:
其中τn和τp分别是过剩电子和过剩空穴的寿 命,通常也将其称为过剩少数载流子的寿命。过 剩电子的产生率和过剩空穴的产生率必须相等, 我们可以将其定义为过剩载流子的产生率,即:
在小注入条件下,少数载流子的寿命通常 是一个常数,因此对于P型半导体材料来说,小 注入条件下的双极输运方程可表示为:
式中δn是过剩少数载流子电子的浓度,而 τn0则是小注入条件下少数载流子电子的寿命。 类似地,对于N型半导体材料来说,小注入 条件下的双极输运方程同样可表示为:
D' , '
需要指出的是 D' , ' 是一个等效的概 念,只有在研究载流子分布时被引用。在考 虑电子流或空穴流时决不能用 D' , ' ,而 用 Dn , n和Dp , p
对于双极输运方程来说,剩下的两项就是产生 率和复合率。对于P型半导体材料来说,则有:
而对于N型半导体材料来说,则有:
式中δp是过剩少数载流子空穴的浓度,而 τp0则是小注入条件下少数载流子空穴的寿命。
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