工业超纯水水质试行标准
超纯水行业相关水质标准
50
美国半导体工业用纯水指标
项 目
Ⅰ级
Ⅱ级
Ⅲ级
Ⅳ级
残渣，mg/L
0.1
0.3
0.3
0.5
TOC，mg/L
0.02
0.05
0.10
0.40
颗粒，粒/L
500
1000
2500
5000
细菌数，个100mL
0
6
10
50
活性硅SiO2，μg/L
35Βιβλιοθήκη 1040电阻率MΩ·cm
18.3
17.9
17.5
17.0
阳离子，μg/L
1
1
10
500
硫酸根，最大值 ug/L
1
1
10
500
总有机碳，最大值 ug/L
20
100
200
1000
美国纯水水质标准
（美国计量测试学会ASTM纯水水质标准，1983）
序号
水质项目
单位
E-Ⅰ
E-Ⅱ
E-Ⅲ
E-Ⅳ
1
电阻率，25℃
MΩ.cm
18
15
2
0.5
2
二氧化硅（全）
µg/l
5
10
100
1000
3
微粒（粒径≥1μm）
个/ml
2
5
100
500
4
微生物
个/ml
1
10
50
100
5
有机物TOC
µg/l
50
200
1000
5000
6
铜Cu
µg/l
2
10
电子工业超纯水水质标准
序号
水质项目
一级高纯水指标
二级高纯水指标
1
电阻率（25°C）Mcm
>15
>10
2
电导率，卩s/cm
0.05
0.1
3
PH值
6.8〜7.2
6.6〜7.4
4
细菌总数，个/mL
V3
V9
5
微粒（直径〉0.5卩m，粒/mL）
V150
V300
6
二氧化硅
V10
V20
7
有机物（以COD计）
V0.3
V0.5
锌Zn2+
0.03
0.1
0.5
*
阴离子，卩g/L
0.1
0.1
0.3
*
溴Br-
0Cl-
0.05
0.2
0.8
*
亚硝酸根NO2-
0.05
0.1
0.3
*
硝酸根NO3-
0.1
0.1
0.5
*
磷酸根PO43-
0.2
0.2
0.3
*
硫酸根SO42-
0.05
0.3
1.0
*
*
我国电子工业部高纯水水质试行标准
8
钠Na
V0.5
V2
9
铁Fe
V1
V2
10
铜Cu
V0.5
V1
11
钙Ca
V1
V3
12
镁Mg
V0.2
V1
13
锌Zn
V0.5
V1
14
锰Mn
V0.2
V0.5
说明：①一级高纯水适用于大规模集成电路，微波器件以及有相同要求到半导体器件产品
工业超纯水机运行参数
工业超纯水机运行参数一、技术规范及水质范围1、工业超纯水机适用的水质范围工业超纯水机进水有特定要求，检查进水水质是否符合标准十分重要。
进水水质不符合标准将会导致膜元件的不可恢复性损害。
1：电导率：〈600US/CM2：硬度： 500mg/L4：色度：〈155：浊度：〈1NTU6：游离氯〈 0.1PPM7：SDI 〈 58：水温 5-45度二：运行参数：工作压力：1.0-1.5Mpa产水量：3T/h回收率：25%进水压力〉2Kg进水量〉8T/ h特别注意：因本设备为涉水产品，应防止冰冻，冰冻能造成设备不可回复的损害，所以设备间应配有取暖设施。
3：水处理工艺流程：增压泵石英机械过滤器活性碳过滤器树脂软化RO装置高压泵保安过滤4、产品功能以市政自来水为源水，经过太空1号RO-3000S型水处理设备处理后，出水水质符合卫生部法监发[2001]161号文件附件4C《生活饮用水水质处理器卫生安全与功能评价规范-反渗透处理器》出水水质要求。
三：安装指导1：设备尽量安装在干燥通风的地方，因为长期处于潮湿环境会造成电器设备和元件的损坏。
2：系统应置于便于操作者进入和维修的场地，四周应留有充足的空间。
3：选择安装地点时应尽量考虑前处理装置有较合适的位置，并符合这些工艺流程的摆放顺序。
4：前处理和主机按要求就位后，UPVC管道进行连接。
5：电器的安装工作必须要有合格的电器技术人员和工人进行，必须要用可靠的接地。
6：安装地点应保证夏夏季环境不高于40度，冬季高于4度。
否则会对设备造成不可恢复的损坏。
7：纯水收集地点(如纯水箱入口处)的高度不应高于设备纯水出口处5m，否则会对逆渗透产生背压，造成逆渗透不可恢复和损坏。
8：纯水出口连接中不可安装任何阻碍纯水流出的装置9：安装纯水连接管和浓水排放管的管径不应小于纯水出口和浓水的管径。
10：电器安装详见电路图。
四、操作方法：1;各种设备的连接和安装2：管道设备安装。
3：系统进水管道初级增压泵的联接方法，初级增压泵的进水口是一个25mm的接口，可以用镀锌管、UPVC塑料管或胶皮软管联接。
半导体纯水规格
半导体纯水规格半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为：我国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。
半导体纯水规格通常包括以下方面：1. 电导率（或电阻率）：电导率是衡量水中离子导电能力的一个重要指标，电阻率则是电导率的倒数。
半导体工业中，超纯水的电导率通常要求在0.1μS/cm以下，甚至更低。
2. 总有机碳（TOC）：有机物是微生物和化学物质的来源，可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求总有机碳含量极低，一般在10ppb 以下。
3. 颗粒物：水中颗粒物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用过滤器等设备来去除水中的颗粒物。
一般要求超纯水中的颗粒物含量在1ppb 以下。
4. 金属离子：金属离子如铜、铁、锌等可能会对半导体制造过程产生负面影响。
因此，超纯水通常要求金属离子含量极低，一般在1ppt以下。
5. 酸碱度：酸碱度是衡量水溶液酸碱性的指标。
半导体工业中，超纯水的酸碱度通常要求在pH 5-8之间。
6. 微生物：水中微生物可能会污染半导体芯片，因此超纯水系统通常会使用紫外线消毒等设备来灭菌。
一般要求超纯水中的微生物含量在1个/ml以下。
7. 其他指标：除了上述主要指标外，半导体纯水规格还包括硅、氯离子、硫酸根等其他指标的要求。
具体指标可能会因不同的生产工艺和产品类型而有所不同。
总的来说，半导体纯水需要具备极高的纯度和洁净度，以保障半导体制造过程中的质量和稳定性。
简述工业生产对超纯水水质的要求
简述工业生产对超纯水水质的要求水在常温下呈液态存在，具有一般液体的共性。
但与其他液体相比，又有许多独特的性质。
水有哪些主要特性?①水在O一4℃范围内不是热胀冷缩，而是冷胀热缩，即：温度升高，体积缩小，密度增大。
②在所有的液体中，水的比热容最大，为4.18J/g·℃。
因此水可以作为优质的热交换介质，用于冷却、储热和传热等方面。
③在常温下(O一100℃)，水可以出现固、液、气三相变化，故利用水的相热转换能量是很方便的。
④在液体中，除了汞(Hg)以外，水的表面能最大。
⑤水溶解及反应能力极强，许多物质不但在水中有很大的溶解度，而且有最大的电离度。
⑥水的导电性能随着水中含盐量的增加而增大。
工业生产对水质有什么要求?各种工业用水，都采用超纯水设备产水，按其使用方式可分为直接用水和间接用水两大类。
直接用水，系水与产品直接接触，对产品质量有很大影响，故要求良好的水质;间接用水，对产品质量一般没有影响，出于防腐和防垢等的要求不同，而需要采用不同的水质。
(1)原料用水是指直接作为原料或作为原料的一部分而使用的水。
在饮料、食品加工工业中，水质对产品质量影响较大，最好的水质应无色、无味、无浊，盐类含量适当，氨、氮、亚硝酸盐、细菌等指标符合生产要求。
合成纤维、电解、医药等则要求优质的纯水。
(2)产品处理用水指在生产过程中用作洗涤、漂染、打浆等，故也要求较好的水质。
其水质要求大致与原料用水相同。
电子工业等用水则要求优质的纯水。
(3)锅炉用水由于水的硬度高会使锅炉内结垢，致使锅炉热效率降低;溶解氧和盐类会引起锅炉及管路的腐蚀;HSiOf和碱度会引起汽水共沸，并影响蒸汽品质。
因此，锅炉对水的硬度、含盐量、碱度、pH值、HSiOf及溶解氧等均有严格的指标要求。
(4)冷却用水冷却水的作用是冷却热介质，所以防止其腐蚀、结垢和微生物危害是冷却水处理的三大任务。
因此，冷却水的水质，对硬度、悬浮物、溶解气体、油及其他有机物、藻类及微生物等都应严格控制。
工业用水水质标准
工业用水水质标准１．范围本标准规定了作为工业用水的再生水的水质指标和再生水利用方式。
本标准适用于以城市污水再生水为水源，作为工业用水的下列范围：冷却用水：包括直流式、循环式补充水。
洗涤用水：包括冲渣、冲灰、消烟除尘、清洗等。
锅炉用水：包括低压、中压锅炉补给水。
工艺用水：包括溶料、水溶、蒸煮、漂洗、水力开采、水力输送、增湿、稀释、搅拌、选矿、油田回注等。
产品用水：包括浆料、化工制剂、涂料等。
2.水质指标值：国家水质标准发布时间：2007年12月26日中华人民共和国国家标准地下水质量标准Quality standard for ground waterGB/T 14848-93国家技术监督局1993－12－30批准1994－10－01实施1 引言为保护和合理开发地下水资源，防止和控制地下水污染，保障人民身体健康，促进经济建设，特制订本标准。
本标准是地下水勘查评价、开发利用和监督管理的依据。
2 主题内容与适用范围2.1 本标准规定了地下水的质量分类，地下水质量监测、评价方法和地下水质量保护。
2.2 本标准适用于一般地下水，不适用于地下热水、矿水、盐卤水。
3 引用标准GB 5750 生活饮用水标准检验方法4 地下水质量分类及质量分类指标4.1 地下水质量分类依据我国地下水水质现状、人体健康基准值及地下水质量保护目标，并参照了生活饮用水、工业、农业用水水质最高要求，将地下水质量划分为五类。
Ⅰ类主要反映地下水化学组分的天然低背景含量。
适用于各种用途。
Ⅱ类主要反映地下水化学组分的天然背景含量。
适用于各种用途。
工业用水水质检测标准2024
引言概述：工业用水的水质检测标准是确保工业生产过程中水质的合格与安全的重要措施。
准确的水质检测可以帮助企业提前发现水质问题，防止水质对生产过程和产品质量造成影响，同时也能保护环境和公众的健康。
本文将从五个大点出发，详细阐述工业用水水质检测的标准。
正文内容：1.社会公共供水标准1.1硬度标准硬度的定义及影响因素硬度的测量方法和评价指标1.2pH值标准pH值的意义与测量方法各行业工业用水所需的适宜pH范围1.3总溶解固体标准总溶解固体的意义和来源总溶解固体的测量方法和基准1.4无机物和有机物标准无机物和有机物对工业用水的影响各行业对无机物和有机物的要求和限制2.工业用水处理标准2.1混凝沉淀处理标准混凝剂的选择与投加量沉淀剂的选择与投加量混凝沉淀法的操作条件2.2活性炭吸附处理标准活性炭的选择和投加量活性炭吸附法的操作条件吸附后的处理和再生2.3膜分离处理标准膜分离工艺的分类及选择反渗透和超滤工艺的操作条件膜分离处理中的问题与解决方案3.特定行业工业用水标准3.1食品行业严格的水质要求和标准食品加工过程中的主要水质要求食品行业的水质检测方法和设备3.2医药行业药品生产中的水质要求药品行业的水质检测技术药品行业的水质管理和监测3.3电子行业电子产品制造中的水质要求电子行业的水质检测方法和设备电子行业的水质保障措施4.工业用水质量监测手段4.1在线监测技术常见的在线监测仪器和设备在线监测技术的优势和局限性4.2实验室监测技术常见的实验室水质监测方法实验室监测技术的准确性和灵敏度实验室监测技术的使用限制4.3传感器监测技术传感器监测技术的原理和应用传感器监测技术的优势和局限性传感器监测技术的发展趋势5.水质检测标准的重要性及应用5.1保证生产安全与效率5.2环境保护与可持续发展5.3合规性和法律责任5.4提高企业形象及市场竞争力5.5水质检测技术的发展趋势总结：工业用水质检测标准的确立与执行对于保证工业生产的安全和效率至关重要。
工业超纯水机水质标准范围
工业超纯水机水质标准范围1.电导率：工业超纯水的电导率一般要求低于0.1μS/cm，甚至可以达到更低的水平。
电导率是用来反映水中溶解性物质含量的一个指标，电导率越低，表示水中溶质的含量越低，水质越纯净。
2.溶解氧：工业超纯水的溶解氧一般要求低于5ppb（parts per billion，即亿分之一）。
溶解氧是水中溶解的氧的含量，高溶解氧会对腐蚀和氧化产生不利影响，因此需要严格控制。
3.总有机碳（TOC）：工业超纯水的TOC一般要求低于1ppb。
TOC是水中的有机污染物含量的一个指标，工业超纯水的TOC要求非常低，需要采用特殊的处理方法，如UV氧化等。
4.微生物指标：工业超纯水的微生物指标一般要求低于10cfu/mL （colony forming unit per milliliter）。
微生物是可能引起水质污染的重要因素之一，超纯水需要通过滤芯等方法去除水中的微生物。
5.其他离子：工业超纯水还需要严格控制其他离子的含量，如钠离子、钾离子、钙离子、镁离子等。
这些离子的含量过高会影响水的质量，需要进行去除。
值得注意的是，不同行业对于工业超纯水的水质标准要求可能会有所不同。
一般来说，食品、医药、电子等行业对超纯水的要求更高，需要更低的电导率、TOC等指标。
而对于一些传统的重工业领域，对水质的要求可能相对更宽松一些。
综上所述，工业超纯水机的水质标准范围包括电导率、溶解氧、TOC、微生物指标等多个方面。
这些指标一般要求非常低，需要通过工业超纯水机的处理方法才能达到。
不同行业对水质标准要求可能会有所不同，但总体上超纯水的水质标准要求都非常严格。
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我国电子工业超纯水水质试行标准、半导体工业用纯水指标、集成电路水质标准。
电子工业部把电子级水质技术分为五个行业等级，分别为18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以区分不同水质。
电导率≤10μS/CM动物饮用纯水(医药)、普通化工原料配料用纯水、食品行业配料用纯水、普通电镀行业冲洗用去离子纯水、纺织印染用除硬脱盐纯水、聚脂切片用纯纯水、精细化工用纯水、民用饮用纯净水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电导率≤4μS/CM电镀化学品生产用纯水、化工行业表面活性剂生产用纯水、医用纯化水、白酒生产用纯水、啤酒生产用纯水、民用饮用纯净水、普通化妆品生产用纯水、血透纯水机用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率5~10MΩ.CM锂电池生产用纯水、蓄电池生产用纯水、化妆品生产用纯水、电厂锅炉用纯水、化工厂配料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率:10~15MΩ.CM动物实验室用纯水、玻壳镀膜冲洗用纯水、电镀用纯纯水、镀膜玻璃用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率≥15 MΩ.CM医药生产用无菌纯水、口服液用纯水、高级化妆品生产用去离子纯水、电子行业镀膜用纯水、光学材料清洗用纯水、电子陶瓷行业用纯水、尖端磁性材料用纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率≥17 MΩ.CM磁性材料锅炉用软化纯水、敏感新材料用纯水、半导体材料生产用纯水、尖端金属材料用纯水、防老化材料实验室用纯水、有色金属，贵金属冶炼用纯水、钠米级新材料生产用纯水、航空新材料生产用纯水、太阳能电池生产用纯水、纯水晶片生产用纯水、超纯化学试剂生产用纯水、实验室用高纯水、其它有相同纯水质要求的用纯水.
电阻率≥18 MΩ.CM ITO导电玻璃制造用纯水、化验室用纯水、电子级无尘布生产用纯水等其它有相同纯水质要求的用纯水，光伏光电行业。