磁控溅射制备Ta2O5／TiO2薄膜及其光学与电学性能的研究

磁控溅射制备Ta2O5／TiO2薄膜及其光学与电学性能的研
究
傅正文;张胜坤
【期刊名称】《化学物理学报》
【年(卷),期】1999(012)002
【摘要】用直流平面磁控溅射沉积薄膜的方法在Ｓｉ和玻璃基片上制备了Ｔａ２Ｏ５／ＴｉＯ２混合薄膜，薄膜的透射光谱研究结果表明，在ＴｉＯ２掺入浓度为０到１７％，薄膜的折射率从２．０８到２．２３。

薄膜折射率与掺入ＴｉＯ２的浓度呈近线性关系。

薄膜的ＭＯＳ电容器的Ｉ－Ｖ和Ｃ－Ｖ测量表明，经过退火处理能够提高Ｔａ２Ｏ５／ＴｉＯ２混合薄膜的介电常数。

【总页数】5页(P186-190)
【作者】傅正文;张胜坤
【作者单位】复旦大学激光化学研究所;复旦大学激光化学研究所
【正文语种】中文
【中图分类】O614.411
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