Kemet平面研磨机配液态金刚石研磨剂进行平面研磨及抛光技术
科密特平面研磨和抛光耗材
Micro Abrasives 高 度 专 业 化 而 又 灵 活 的 器 材 设置。能独特的提供特级研磨剂真正的用 户定制化。
MICROGRIT 研 磨 砂 的 种 类 包 括 ： 氧 化 铝 、 氧化铈、碳化硅、碳化硼、及Microlap浆 （Microlap Slurries）。
✦ 台置式系统
Kemet ( 科 密 特 ) 工 业 超 声 波 清 洗 系 统 ✦ 水式喷洒系统
✦ 全自动清洗系统
遍及世界
法国
Kemet Europe S.A.R.L.
荷兰
Kemet Europe B.V.
英国
Kemet International Ltd
比利时及卢森堡
Kemet Europe B.V.B.A.
Kemet® 平 面 研 磨 机 配液态金刚石研磨剂 进行平面研磨及抛光技术
Kemet ( 科 密 特 ) 平 面 研 磨 抛 光 系 统 提 供 的 平 面 抛 光 方 法 ， 效 率 最 高 ， 可 靠 性 最 好 。 Kemet ( 科 密 特 ) 平 面 研 磨 抛 光 机 和 平 面 研 磨 抛 光 系 统 ， 采 用 当 今 最 前 沿 的 尖 端 研 磨 技 术 ， 与 Kemet ( 科 密 特 ) 金 刚 石 产 品 配 套 使 用 时 ， 效 果 尤 为 出 色 。
Kemet ( 科 密 特 ) 15 研 磨 及 抛 光 机
台式精密金刚石平面研磨抛光机
Kemet ( 科 密 特 ) 15 台 式 研 磨 机 采 用 刚 性 金 属 构造，配有高度可调式工作台。机床包含 一个数字过程计时器和一套全自动金刚石 研磨液分配系统。
选配项目
✦ 变速
✦ 适用于提卸式研磨盘系统
金刚石抛光液技术使用说明书
产品技术说明书金刚石抛光液产品编号：hanslaser005 产品的特点：1.单晶金刚石抛光液具有良好的切削力，适用于超硬材料的研磨抛光。
2.多晶金刚石抛光液有良好的韧性，在研磨抛光过程中能够保持高磨削力的同时不易产生划伤。
适用于光学晶体、陶瓷、超硬合金等各种硬质材料的研磨和抛光。
3.纳米抛光液能达到超精密的抛光效果，分散稳定性，长时间不沉淀，不团聚。
广泛用于硬质材料的超精密抛光过程，可使被抛表面粗糙度低于0.2nm使用方法：1.请使用前先摇匀；2.在使用时，可用少量的水加以稀释。
储存方法：1.贮存时应避免曝晒，贮存温度为5-35℃2.低于0℃以上储存，防止结冰，在零度以下因产生不可再分散结块而失效。
3.避免敞口长期与空气接触。
价格实惠：大族的生产技术，是引进国外生产技术，其品质可以媲美进口的产品,但大族产品价格比进口便宜，有效的避免了进口产品其交货周期长，价格昂贵。
安全处置：1.车间内必须保持良好的通风状况。
2.避免放置在儿童能接触到的地方。
如与眼睛或皮肤接触，请用大量清水冲洗。
3.在使用时请勿进食或吸烟。
4.使用前可参阅安全技术说明书。
包裝方式：25KG/桶(也可依客户需求)产品制造：品性依据ISO9001规范保存期限：保质期为二年，建议在一年内使用。
保存条件：温度范围=5°C~35°C ，湿度范围<=70%危险特征：产品本身没有刺激性，对人体无害。
废弃物处理：切勿将废弃抛光剂排放入下水道、水体或土壤，废置抛光液应符合当地环保标准来处理。
平面研磨机工作原理
平面研磨机工作原理
平面研磨机是一种机械设备，用于将物体的表面进行研磨和抛光，主要用于加工平面、曲面和轮廓等各种形状的工件。
其工作原理如下：
1. 主轴系统：平面研磨机的主轴系统提供了旋转和驱动研磨工具的动力。
通常由电机、皮带传动装置和主轴组成。
电机驱动主轴旋转，将动力传递给研磨工具。
2. 工作台系统：平面研磨机的工作台用于固定和支撑工件。
通过工作台的高度调节和水平调节，可以将工件放置在合适的位置，并确保表面平整度。
3. 砂轮系统：砂轮是平面研磨机上最常用的研磨工具，用于磨削和研磨工件的表面。
砂轮一般由砂轮盘、砂轮电机和砂轮夹具组成。
砂轮盘固定在主轴上，由砂轮电机驱动旋转。
工件与砂轮之间施加适当的压力，使砂轮与工件表面紧密接触，实现磨削和抛光。
4. 冷却系统：平面研磨机的冷却系统用于冷却和润滑砂轮和工件表面，以减少热量和摩擦带来的损伤。
冷却系统一般包括冷却液储存器、冷却液泵和喷射装置。
冷却液通过喷射装置喷洒到砂轮和工件表面，同时也带走磨削时产生的热量。
总之，平面研磨机通过主轴系统、工作台系统、砂轮系统和冷却系统的相互作用，实现对物体表面的研磨和抛光。
通过调节工作参数，可以得到所需的表面粗糙度和平整度。
平面抛光机的加工工艺
平面抛光机的加工工艺平面抛光机是一种用于加工金属和非金属材料的机器，通过磨削和抛光的方式来提高材料的表面光洁度和平整度。
平面抛光机的加工工艺可以分为以下几个步骤：预处理、研磨、抛光、清洗和检验。
首先是预处理。
在开始抛光之前，需要对材料进行预处理，包括清洗、去除表面污染物、去除锈蚀等。
这可以通过溶剂清洗、喷砂、电解清洗等方法来完成。
预处理的目的是为了提高抛光效果和材料的表面质量。
接下来是研磨。
研磨是通过砂带、砂轮等工具对材料进行磨削，以去除表面粗糙度和形成一定的表面粗糙度。
研磨可以采用不同的粒度和材料的砂带或砂轮，根据要求选择适当的磨削方式和参数。
研磨的目的是为了减小表面缺陷，提高材料的平整度和表面质量。
然后是抛光。
抛光是通过涂抹研磨膏、使用抛光布等工具对材料进行抛光，以进一步提高表面光洁度和平整度。
抛光可以使用不同颗粒的抛光膏和不同材质的抛光布，根据要求选择适当的抛光方式和参数。
抛光的目的是为了消除研磨过程中留下的痕迹和划痕，使表面更加光滑和均匀。
完成抛光后，需要进行清洗。
清洗可以去除抛光过程中产生的残渣和污染物，确保表面的干净和纯净。
清洗可以使用溶剂、超声波清洗机等方式进行，根据材料的要求选择适当的清洗方法和参数。
清洗的目的是为了提供一个干净的表面，便于后续的处理和使用。
最后是检验。
在加工完成后，需要对材料进行检验，以确保加工质量和满足要求。
检验可以通过目视检查、使用表面缺陷检测仪器等方式进行，根据要求选择适当的检验方法和参数。
检验的目的是为了判断抛光效果是否符合要求，对表面质量进行评估和记录。
总结来说，平面抛光机的加工工艺包括预处理、研磨、抛光、清洗和检验。
每个步骤都有其特定的目的和要求，通过合理的操作和控制，可以达到提高材料表面质量和满足要求的效果。
在实际应用中，根据不同材料的特性和要求，需要选择适当的加工工艺和参数，以获得最佳的加工效果。
平面研磨及抛光
5拋光完，先關到水 龍頭
6再關掉電源
1-2拋光
7把氧化鎂回收在桶 子裡。
8清洗氧化鎂的殘餘，把 玻璃洗淨。
9先運轉風壓機，方便 使用。
3-2拋光
10用風壓機把水分通 通都吹乾，方便觀察。
11玻璃吹乾時，觀察有 沒有拋亮，沒有的話， 再重複以上的動作，直 到拋亮。
12完成拋光
平面研磨及拋光
3-1平面研磨 3-2拋光
學生 曾雅詩 製
3-1平面研磨
3-1平面研磨
*研磨有不同的粗細度，分別有80、 240、600係數（粗→細）。 *適合研磨邊緣筆直的玻璃或是作品 的底座。 * 雖然係數不同，但操作方式都是一 樣的。 *每研磨一台一定要把玻璃清乾淨， 才能使用下一台研磨機。 *玻璃研磨完，可以拋光機拋亮。
12把玻璃吹乾，萬一 衣服上被噴到金剛砂， 也可用壓風機吹掉。 在吹乾時，可觀察剛 剛研磨的位置是否有 磨好，再去磨下一台 研磨機。
3-2拋光
3-2拋光
1按下開關
2先開水龍頭讓水帶著 氧化鎂流下，再把水 關小一點成滴狀。
3由中心慢慢把氧化鎂 往外圍帶開，再以研磨 過的位置都拋光。
3-2拋光
4拋光時，可在外圍多 停留幾秒鐘，這樣就可 以拋的很亮，因為越外 圍速率越快。
7關掉電源
8到排金剛砂的水桶 裡，把玻璃上和手上 的金剛砂洗掉。
9這樣玻璃上和手上的 金剛砂會留在桶子內， 這樣金剛砂才能回收再 利用，不浪費資源。
3-1平面研磨
10玻璃和手在到洗手台 洗乾淨，這樣才不會把 上一台的金剛砂帶到下 一台機器去，這樣磨砂 機才有粗磨跟細磨之分。
11打開風壓機，讓風壓 先運轉，這樣吹出來的 風會比較強。
3-1平面研磨
平面研磨机操作规程
平面研磨机操作规程
平面研磨机是一种常见的机械设备，用于进行金属工件的表面研磨和抛光。
为了确保操作的安全和提高工作效率，下面是一份平面研磨机的简要操作规程：
1. 操作前准备：
a. 确保平面研磨机安装牢固，电源已接好地线。
b. 检查磨盘和磨料的磨损情况，如有磨损应及时更换。
c. 检查研磨液液位，确保充足。
2. 开机准备：
a. 打开机床主电源开关，确保操作面板上的按钮和指示灯正常工作。
b. 调整研磨盘和工件夹持装置，使其与工件接触均匀。
c. 按下启动按钮，启动研磨机。
3. 进行研磨操作：
a. 将工件放置在工件夹持装置上，调整夹持装置，保证工件稳固。
b. 根据工件的要求，选择合适的研磨液，将其注入机器内的喷淋系统中。
c. 调整研磨盘的转速和进给速度，根据研磨要求逐渐接近工件。
d. 在研磨的过程中，观察工件表面的状况，及时调整研磨参数，确保研磨质量和效果。
4. 完成工作：
a. 完成研磨操作后，将研磨机停止，并切断电源。
b. 清理研磨盘和机器周围的研磨粉尘和废料。
c. 定期对研磨机进行维护保养，检查零部件的磨损情况，及时更换和维修。
需要注意的是，在操作平面研磨机时，应严格按照操作规程进行操作，遵守安全操作规范，保持机器的清洁和整洁，定期检查和维护，以确保操作安全和设备的正常运行。
超精密平面研磨和抛光
超精密平面研磨和抛光一、精密平面的研磨机二、平面研磨使用的研具1）特种玻璃，或用在加工成平面的金属板上涂一层四氟乙烯或镀铅和铟；优点：能得到高精度的平面缺点：研具层寿命短2）使用半软质研磨盘或软质研磨盘优点：研磨出的表面变质层很小，表面粗糙度也很小；缺点：研磨盘不易保持平面度三、平面研磨时工件和软质研具的磨损量工件与研具两者的任意点A处的加工量和研具磨损量，相对于两者的中心各自画圆弧与横轴相交，从交点出发每20min间隔与纵轴平行地上升或下降。
工件形成凸面，研具在半径上形成凹面使用ηp小的研具效果好。
使用ξ小的研具能有效地控制平面度的恶化，但ξ太小时，压力偏差较大，反而易引起平面度的恶化。
而当ξ较大时，只要加工量少，由于压力偏差较小，初始的平面度不会产生多大的恶化。
四、平行度和晶体方位误差的修正平行度的修正研磨是使被加工面与基准平面的角度误差达到最小值。
单面研磨法采用使工件附加偏心压力。
晶体方位误差的修正加工是以晶格面作参照物进行研磨的。
五、获得高质量平面研磨抛光的工艺规律1）研磨运动轨迹应能达到研磨痕迹均匀分布并且不重叠。
2）硬质研磨盘在精研修形后，可获得平面度很高的研磨表面，但要求很严格的工艺条件。
3）软质（半软质）研磨盘易获得表面粗糙度值极小和表面变质层甚小的研磨抛光表面，但不易获得很高的平面度。
4）使用金刚石微粉等超硬磨料可获得很高的研磨抛光效率。
5）研磨平行度要求很高的零件时，采用（1）上研磨盘浮动以消除上下研磨盘不平行误差；（2）小研磨零件实行定期180度方位对换研磨，以消除因研磨零件厚度不等造成上研磨盘倾斜而研磨表面不平行；（3）对各晶向硬质不等的晶片研磨时，加偏心载荷修正不平行度。
6）为提高研磨抛光的效率和研磨表面质量，可在研磨剂中加入一定量的化学活性物质。
7）高质量研磨时必须避免粗的磨粒和空气中的灰尘混入，否则将使研磨表面划伤，达不到高质量研磨要求。
参考资料：/。
一种适用于金刚石的研磨抛光机[发明专利]
![一种适用于金刚石的研磨抛光机[发明专利]](https://img.taocdn.com/s3/m/31692c6f814d2b160b4e767f5acfa1c7aa008223.png)
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202011014445.7(22)申请日 2020.09.24(71)申请人 郑州铁路职业技术学院地址 450046 河南省郑州市郑东新区鹏程大道56号(72)发明人 韩增盛 吕蒙 牛晨旭 魏保立 李春亚 陈光伟 乔龙图 巩奇 柴亮 李红亮 张成 (74)专利代理机构 郑州青鸟知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 41187代理人 谢萍(51)Int.Cl.B24B 37/00(2012.01)B24B 37/11(2012.01)B24B 37/27(2012.01)B24B 37/34(2012.01)B24B 47/12(2006.01)B24B 47/22(2006.01)(54)发明名称一种适用于金刚石的研磨抛光机(57)摘要本发明公开了一种适用于金刚石的研磨抛光机，包括机架、砂轮机构和研磨块机构，砂轮机构包括砂轮组件和砂轮动力组件；研磨块机构，包括研磨摇摆组件、研磨转动组件和研磨组件；研磨摇摆组件，包括摇摆动力构件和摇摆臂构件；摇摆动力构件在机架上，摇摆臂构件对称设置在机架上，每个摇摆臂构件上均设有研磨转动组件和研磨组件，研磨转动组件带动研磨组件转动，研磨组件与砂轮组件的砂轮接触对应。
独立的动力使得砂轮与待研磨工件的旋转方向相反且相对转速高，提高了研磨效率和研磨效果，而且设置研磨摆臂组件，使待研磨工件主动实现均匀摆动，对称式研磨臂也减小了砂轮主轴上砂轮轴承径向受力。
而且设置的研磨锁紧构件能够实现研磨压力的调节。
权利要求书2页 说明书6页 附图8页CN 111993264 A 2020.11.27C N 111993264A1.一种适用于金刚石的研磨抛光机，包括机架（1），其特征在于：在机架（1）上设有砂轮机构（2）和研磨块机构（3），所述砂轮机构（2）包括砂轮组件和砂轮动力组件；砂轮动力组件带动砂轮组件转动；所述研磨块机构（3），包括研磨摇摆组件、研磨转动组件和研磨组件；所述研磨摇摆组件，包括摇摆动力构件和摇摆臂构件；摇摆动力构件安装在机架（1）上，摇摆臂构件关于摇摆动力构件对称设置在机架（1）上，每个摇摆臂构件上均设有研磨转动组件和研磨组件，研磨转动组件带动研磨组件转动，研磨组件与砂轮组件的砂轮接触对应。
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✦ 台置式系统
Kemet ( 科 密 特 ) 工 业 超 声 波 清 洗 系 统 ✦ 水式喷洒系统
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Kemet ( 科 密 特 ) 金 刚 石 产 品
Kemet ( 科 密 特 ) 国 际 有 限 公 司 已 有 5 0 年 的 丰 富 经 验 ， 是 世 界 领 先 的 、 制 造 研 究 及 工 业 用 途 的金刚石研磨产品的厂商之一。其广泛的标准配方范围包括液体、糊状体、悬浮液、凝胶 体和粘胶。
✦ 研磨盘及运载工具的运行速度通 过交流频率逆变器变动。
✦ 自动物件厚度控制。
✦ 若需要可为用户制造定制细磨、 砂磨或研磨盘。
Kemet ( 科 密 特 ) 超 音 波 系 统 用 于 清 洗 精 密 物 件
Kemet ( 科 密 特 ) 清 洗 系 统 有 高 效 率 的 洗 净 功 能 、 可 靠 和 重 复 一 致 。 Kemet ( 科 密 特 ) 能 提 供 多 种 清洗系统，从台置式系统到全自动清洗系统，能满足清洗多种不同元件和各行业严格的要求。
Kemet ( 科 密 特 ) 抛 光 研 磨 毡 垫 对于许多较软的材料而言，欲制造平直抛 光 表 面 ， 需 采 用 抛 光 研 磨 毡 垫 。 Kemet ( 科 密特)提供种类范围最广的自粘抛光研磨毡 垫，适合用于大多数的平面研磨机。
Kemet ( 科 密 特 ) 电 子 分 配 器 藉 由 触 控 感 应 装 置 来 进 行 分 配 Kemet ( 科 密 特 ) 液 态 金 刚 石 研 磨 剂 及 润 滑 液 。 数 字 显 示 装 置上显示的分配间隔、时间及气压一瞥可见。分配器达到 0.2gm（ 克 ） 的 分 配 准 确 度 ， 因 而 杜 绝 浪 费 和 简 化 成 本 控 制 。
Kemet Precision (M) Sdn Bhd
技术服务
Kemet Far East ( 科 密 特 远 东 ) 备 有 最 全 面 的 研 磨 、 抛 光 、 珩 磨 、 磨 料 流 动 加 工 和 次 微 米 表 面 加 工 设 备器材。我们的销售及技术人员组合将很高兴为客户提供在制程方面的需要和协助。
纤细双面研磨及抛光机
纤 细 双 面 研 磨 及 抛 光 机 (Nanofin Dual Face Grinding, Lapping And Polishing Machine) 除 能 在 范 围 广 泛 的 材 料 上 制 造 精密和重复一致的加工效果外，还能 执行复杂的常规操作。
✦ 5个运载工具均为齿轮驱动以进 行稳定操作从而加工易碎零件。
Kemet (科密特)金刚石产品由: Kemet International Ltd, UK英 国 总公司生产 其 品 质 系 统 经 由 英 国 标 准 协 会 （BSI）注 册 英国标准协会（BSI）认证或注册号码：Q 05919 BS EN ISO 9002 : 1994
标准、客户定制 及特级研磨剂
Kemet ( 科 密 特 ) 36 精 密 金 刚 石 平 面 研 磨 及抛光机
精密金刚石平面研磨及抛光机
Kemet ( 科 密 特 ) 36 精 密 金 刚 石 平 面 研 磨 及 抛 光 机有一个用于支撑变速箱、驱动电机和工作 台固定的焊接管形截面钢架。作为此机器整 体的一部分，一个复合研磨剂进料及废料槽 配置于此机器的提升盖板后面。此机器结合 一个软起动器，软起动器能使研磨盘在预定 时间内从静止状态平稳地加速到全速。
ISO 9001 : 2000 Cert No. 2467
选配项目
✦ 变速
✦ 温度控制
✦ 翻桌式
✦ 气动提升或开面式
✦ 3或4个调整环式
Kemet ( 科 密 特 ) 复 合 研 磨 盘 以 合 成 树 脂 、 金属微粒和其他材料均匀混合而制成。 对于现今的高级研磨技术要求此研磨盘 和 科 密 特 液 态 金 刚 石 研 磨 剂 (Kemet Liquid Diamond) 一 同 使 用 时 效 果 尤 其 理 想 。
Kemet ( 科 密 特 ) 金 刚 石 产 品 可 分 为 以 单 晶 金 刚 石 研 磨 粉 (Mono-crystalline Diamond Powder) 制 成 的 标 准 级 ， 或 以 多 晶 金 刚 石 研 磨 粉 (Polycrystalline Diamond Powder) 制 成 的 高 等 级 。 不 论 是 标 准级或高等级，都是采用最高品质的原金刚石粉，而且必须符合两项重要标准：外形和粒 度的指标。
Kemet ( 科 密 特 ) 光 机 组 在使用光学平面评估加工元件的平直度时获取精确尺寸及 对比边纹图形，视野必须以光机组照明。光机组即其全部 光线实质上波长相等的灯。 在 与 Kemet ( 科 密 特 ) 光 学 平 面 一 同 使 用 时 ， 清 楚 显 示 平 直 度 读 数 。
Kemet ( 科 密 特 ) 精 密 平 直 度 测 量 仪 此测量仪用于监测研磨盘的平直度，而研磨盘的平直度则 指示研磨物件的平直度有公制和英制度量仪供选择。每个 测量仪都配有一个硬化钢主控平面和并保存在一个坚固的 盒子包装。
Kemet Europe B.V.
英国ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
Kemet International Ltd
比利时及卢森堡
Kemet Europe B.V.B.A.
日本
Kemet Japan Company Ltd
澳大利亚
Kemet Australia Pty Ltd
新加坡
Kemet Far East Pte Ltd
马来西亚
KEMET FAR EAST PTE LTD
32 Ang Mo Kio Industrial Park 2, #02-12, Sing Industrial Complex, Singapore 569510
Tel: (65) 6482 0990 Fax: (65) 6481 1363 Email: sales@.sg
MICROGRIT 研 磨 砂 的 应 用 包 括 - 抛 光 剂 ： 陶瓷、金属、矿物及水晶、精密光学 玻璃、钢球的研磨及抛光，摩擦粉末 材料，玻璃研磨，镜片玻璃研磨及抛 光，压力喷砂研磨，石英半导体研磨、 切割及抛光、岩石表面处理及滚磨。
遍及世界
法国
Kemet Europe S.A.R.L.
荷兰
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台式精密金刚石平面研磨抛光机
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✦ 适用于提卸式研磨盘系统
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