国外高纯钨粉和钨材制备
一种钨粉制造方法
一种钨粉制造方法
1. 钨粉的原料选择：选择高纯度的钨粉原料，含杂质较少。
2. 粉末制备：将选好的钨粉原料添加到特制的球磨机中，进行球磨，完成粉末的细化。
3. 粉末筛分：经过球磨的钨粉需要进行筛分，将粗颗粒与细颗粒分离。
4. 洗涤：对筛分后的细钨粉进行多次水洗并浸泡，以去除其中的杂质和残留的化学试剂，获得高纯度的钨粉。
5. 干燥：将洗涤后的钨粉放置于烘箱内进行干燥，以使其水分含量达到标准。
6. 粉末烧结：将经过干燥的钨粉放置于高温、高压下进行烧结，形成致密、均匀的钨粉块。
7. 粉碎：将烧结后的钨粉块粉碎成所需的粒子大小。
8. 筛分：将粉碎后的钨粉进行筛分，分离出不同粒径的粉末，以备不同用途。
超高纯钨粉及其制品应用的介绍
超高纯钨粉及其制品应用的介绍
超高纯钨粉是由高纯度钨金属经过特殊工艺处理而成的一种粉末
材料。
它具有优异的高温稳定性和机械性能，熔点高达3410℃，且具
有良好的耐腐蚀性和抗氧化性，具有广泛的应用。
在真空或惰性气氛下，超高纯钨粉被广泛用于制造高温炉具、高
温炉器、高温航空发动机燃烧室等。
此外，超高纯钨粉还可以用于制
造钨丝、弹簧、电极等电子元件。
而超高纯钨材料的制品也非常广泛，主要应用于热工业、电子工业、航空航天工业、机械加工等领域。
它可以制成各种形状和规格的
元件，如钨丝、钨片、钨带、钨珠、钨钎等，广泛应用于真空设备、
耐高温设备、热电偶、电极等领域。
总之，超高纯钨粉及其制品在现代工业中具有非常重要的地位和
应用前景，它的优异性能将为工业领域的进步和发展贡献巨大的力量。
钨粉生产工艺
钨粉生产工艺
钨粉是一种重要的工业原料，广泛应用于电子、冶金、化工等领域。
钨粉的生产工艺对产品质量和生产效率有着重要影响。
下面将介绍钨粉的生产工艺。
钨粉的生产通常采用钨酸铵还原的方法。
首先将钨酸铵溶解在水中，然后加入还原剂进行反应。
还原剂通常选用氢气、氢氧化钠等。
在反应过程中，要控制反应温度和反应时间，以确保反应充分，得到高纯度的钨粉。
得到的钨粉需要进行粉碎和分级处理。
粉碎可以采用球磨机或者颚式破碎机等设备。
分级处理可以采用空气分级机或者离心分级机等设备。
通过粉碎和分级处理，可以得到满足不同要求的钨粉产品。
钨粉的生产还需要进行干燥和包装。
干燥可以采用烘箱或者流化床干燥器等设备。
包装通常采用塑料袋或者桶装。
在包装过程中，要注意防潮防尘，确保产品质量。
总的来说，钨粉的生产工艺包括溶解、还原、粉碎、分级、干燥和包装等环节。
在每个环节中都需要严格控制操作参数，确保产品质量稳定可靠。
通过不断优化工艺流程和设备，可以提高钨粉的生产效率，降低生产成本，满足市场需求。
钨粉作为一种重要的工业原料，在现代工业生产中具有不可替代的作用。
随着科技的不断发展，钨粉的应用领域将进一步拓展，对钨
粉的生产工艺提出了更高的要求。
只有不断改进工艺，提高产品质量，才能在激烈的市场竞争中立于不败之地。
希望本文对钨粉生产工艺有所帮助，谢谢阅读！。
粉末冶金钨材料的制备及性能研究
粉末冶金钨材料的制备及性能研究随着社会的发展和科学技术的进步，新材料的研究和应用已经成为时代的需求。
粉末冶金技术作为材料科学领域中一种广泛应用的技术，已经成为材料科学研究的一项重要内容之一。
在粉末冶金技术中，钨材料的制备及性能研究一直备受关注。
本文将详细阐述粉末冶金钨材料的制备及性能研究。
一、钨材料的制备方法1. 真空热压法真空热压法是制备钨材料的常见方法之一。
首先，将精细钨粉在真空条件下加热，进一步提高钨粉的烧结能力。
然后，将加热后的钨粉放入模具中，并进行热压处理。
最后，经过热压处理的钨材料具有高强度、高硬度、高密度等优良的物理性能。
2. 合成抛射法合成抛射法是利用电弧放电、高频感应等方法将钨粉分散在气体氛围中，利用惯性或静电力将钨粉快速击打在基板上的制备方法。
该方法制备的钨材料具有高纯度、均匀性好等优点。
3. 等离子体烧结法等离子体烧结法采用等离子体热源将钨粉加热烧结，钨材料具有高纯度、高密度、高强度、高硬度等优点。
该方法还可以制备出微米级和纳米级的钨材料。
二、钨材料的性能研究1. 机械性能钨材料具有很高的硬度和抗拉强度，因此在热度极高的环境下具有一定的耐磨性和抗撞击性。
钨材料还具有很好的韧性和延展性，在高压力和高温度下不易变形。
2. 热学性能钨材料的导热性和热膨胀系数都很低，因此在高温环境下具有很强的耐火能力。
此外，钨材料还具有很好的热稳定性，即在高温环境下不会发生化学反应。
3. 电学性能钨材料具有很好的导电性和耐烧结性。
在高温环境下，钨材料不会因为电子烧蚀而失去导电能力。
此外，钨材料的电成形性、电切割性和电火花加工性都很好。
总结：粉末冶金钨材料的制备及性能研究已有很长时间，但仍有许多问题需要进一步解决。
未来，我们需要进一步探讨如何提高钨材料的高温性能、增加其热膨胀系数和减少其导电损失等问题。
高性能钨合金制备技术研究现状
高性能钨合金制备技术研究现状高性能钨合金是一种优质的材料，具有高熔点、高硬度和良好的耐磨性、耐腐蚀性等优良性能，在航空航天、汽车制造、机械加工等领域有着广泛的应用。
钨合金的性能受到制备工艺的影响，因此对高性能钨合金的制备技术进行研究对于提高其性能和扩大应用具有重要意义。
目前，国内外对高性能钨合金制备技术进行了大量的研究。
本文将重点介绍国际上钨合金制备技术的研究现状，包括原料选择、合金化工艺、制备工艺优化等方面的内容，以期为国内相关研究提供参考。
一、原料选择钨合金的原料主要包括钨粉和其他合金元素的粉末。
在原料选择方面，国际上的研究主要集中在提高原料纯度、改善原料颗粒度分布、优化原料配比等方面。
提高原料纯度是保证钨合金性能稳定的关键。
目前，采用的提高原料纯度的方法主要包括物理提纯、化学提纯、气相沉积等多种技术手段。
气相沉积技术因其快速、高效的特点受到了广泛关注，通过严格控制反应条件，可以获得纯度高、颗粒细小的钨合金原料。
改善原料颗粒度分布是提高合金均匀度的关键。
国际上普遍采用的方法是采用多级分级技术，通过多次粉碎、分级等工艺手段，使得原料的颗粒度分布更加均匀，提高了合金的成形性和均匀性。
优化原料配比是保证合金性能的重要手段。
通过精确控制原料的加入比例，可以调节合金中不同元素的含量，从而获得所需的合金性能。
目前国际上广泛应用的方法是采用计算机模拟和实验相结合的方法，通过对不同配比的原料进行试验，最终确定最佳的原料配比。
二、合金化工艺合金化是制备高性能钨合金的关键环节，主要包括化学还原法、粉末冶金法、溶液法等多种方法。
粉末冶金法是目前国际上应用最广泛的一种合金化工艺。
在粉末冶金法中，主要包括合金化前处理、均匀混合、成形、烧结等几个环节。
合金化前处理主要包括原料预处理、表面处理等工艺。
在原料预处理方面，主要通过粉碎、分级等手段，使得原料颗粒度更加均匀，提高了后续工艺的稳定性。
在表面处理方面，主要采用化学方法、物理方法等手段，去除原料表面的氧化物等杂质，提高了合金的成形性。
钨材用钨粉标准
钨材用钨粉标准1. 钨材用钨粉标准的背景和意义钨材用钨粉标准是针对钨材料生产和应用过程中的质量控制制定的一项重要标准。
作为一种重要的工业金属材料，钨具有高熔点、高密度、高硬度、耐腐蚀等优异性能，被广泛应用于航空航天、电子器件、化工等领域。
然而，由于生产工艺和原料质量等因素的影响，钨材料中常常存在着各种非金属夹杂物、化学成分偏差和颗粒度不均匀等问题。
因此，制定并严格执行针对钨粉质量控制的标准具有重要意义。
2. 钼粉化学成分及物理性能2.1 钼粉化学成分根据国际标准和国内行业规范，对于不同类型的钼粉产品应有相应的化学成分要求。
一般而言，工业纯金属钼粉中主要含有纯度高达99.9%以上的金属元素Mo，并且需要满足一定范围内其他元素含量（如铁、铜、铅、镍等）的要求。
2.2 钼粉物理性能钼粉的物理性能对钨材料的性能和应用起着至关重要的作用。
物理性能主要包括颗粒度、形态和表面特性等。
颗粒度是钼粉重要的物理特征之一，它对材料的加工工艺和成品质量有着直接影响。
一般而言，工业纯金属钼粉应具有一定范围内的颗粒度分布，以保证材料在成型和加工过程中具有良好的流动性和可压缩性。
3. 钨材用钨粉标准制定过程3.1 国际标准参考制定国家标准时，通常会参考国际上已有的相关标准。
在制定钨材用钨粉标准时，可以参考国际电工委员会（IEC）发布的相关标准以及美国ASTM（American Society for Testing and Materials）等组织发布的相关规范。
3.2 行业调研与技术交流制定钨材用钨粉标准需要充分调研行业内现有技术水平和质量控制情况，并与企业、科研机构等进行广泛的技术交流。
通过与行业内专家和企业的合作，可以获取更多的实际情况和技术要求，以确保标准的科学性和实用性。
3.3 标准制定与修订制定钨材用钨粉标准需要明确标准的适用范围、技术要求、测试方法等内容。
同时，还需要制定相应的质量控制流程和检验方法。
标准应当定期进行修订，以适应行业发展和技术进步。
高纯度钨条的用途
高纯度钨条的用途高纯度钨条是一种重要的工程材料，具有很广泛的应用领域。
该材料由超高纯度的钨粉经过筛选，球磨和压制等多个工艺步骤加工而成。
下面将介绍高纯度钨条的用途，包括电子学、光电子学、化学反应器和航天等领域。
一、电子学高纯度钨条是电子学领域的重要组成部分，可用于电子器件、真空电子器件、集成电路和半导体材料制造等领域。
由于高纯度钨条具有高熔点、高导热性、低热膨胀系数、高强度和高抗腐蚀性等优良特性，能够承受高温、低温和高真空环境下的使用，因此被广泛应用于电子学领域。
高纯度钨条可作为音振子电极、X射线管的阳极、发光二极管（LED）和太阳能电池等电子元器件的制造材料。
高纯度钨条还可以制作出许多电气组件，如电容器、电感器和电阻器等。
高纯度钨条在光电子学领域也有着广泛应用。
秉承其导电性能良好，其中尤其是在电子与光子性质的研究中，钨材料作为X射线和γ射线探测器、增强和检测器、光电电池等的重要材料充分发挥了其优点。
高纯度钨条可以用作激光器的半导体基板材料、半导体激光器的泵浦材料、太阳能电池和有机光电光反应器等的基础材料。
这些光电子学应用广泛，且优点显而易见。
三、化学反应器高纯度钨条还可用于制作化学反应器，特别是用于制造高温、高压和强酸强碱等特殊条件下的反应器，如硝化和氢化反应器。
由于其高耐腐蚀性和高温度稳定性，高纯度钨条可以承受高温、高压、强酸强碱和有害气体等恶劣条件下的使用，并且不会对反应产生污染，因此在工业上得到了广泛应用。
四、航天高纯度钨条在航天技术方面也有着重要应用，特别是在制造高温、高压、高速等特殊条件下的航空发动机。
高纯度钨条可用于制作高精度瞄准仪和火箭喷嘴等零部件，其耐高温性能可以承受燃烧室中极其高的温度。
在航空航天领域，高纯度钨条也可用于制成高温隔热材料以及火箭推进剂储存和输送器材等。
高纯度钨条在电子学、光电子学、化学反应器和航天等领域有着广泛应用。
随着科技和工业的日益发展，对高纯度钨条的需求越来越多，未来高纯度钨条将会得到更多的应用和发展。
钨粉制取主要方法
本文摘自再生资源回收-变宝网（）
钨粉制取主要方法
金属钨粉是生产硬质合金、纯钨、钨合金等钨制品的主要原料，其中70%以上的钨粉用于硬质合金生产。
目前制取金属钨粉的方法主要有：
1、钨氧化物氢还原法
即利用H2为还原剂将钨氧化物还原为钨粉的方法。
以WO₃氢还原为例，其总反应为：
WO₃+3H₂=W+3H₂O
当前作为氢还原原料的钨氧化物主要有黄色氧化钨(WO₃)、蓝色氧化钨(主要为WO2、9)和紫色氧化钨(WO2、72)等。
氧化钨氢还原法是目前生产金属钨粉的主要方法。
2、钨卤化物氢还原法
即利用H2为还原剂将钨的卤化物(如氯化钨、氟化钨)还原为金属钨的方法，例如对WCl6氢还原而言，其总反应为：
WCl6+3H₂=W+6HCI
钨卤化物的氢还原过程为气相反应，主要用于化学气相沉积制取超细钨粉或钨涂层、钨卤化物氯还原法当前只用于小规模生产。
3、钨氧化物碳还原法
将钨氧化物与碳的混合物加热至一定温度时，钨氧化物被还原为钨粉。
以WO₃碳还原为例，其总反应为：
WO₃+3C=W+3CO
WO₃+3CO=W+3CO₂
有时在炉中通入少量的氢气，对碳还原过程起促进作用。
由于此法所制得的钨粉巾碳含量偏高，不宜用于钨制品。
目前，碳还原法制取钨粉艺采用较少，但在直接生产碳化钨、特别是超细碳化钨粉和碳化钨复合粉时得到越来越多的使用。
4、其他方法
制取金属钨的方法还有熔盐电解法、Zn还原法、等离子体氢还原法等。
本文摘自变宝网-废金属_废塑料_废纸_废品回收_再生资源B2B交易平台网站；
变宝网官网：/?cj
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・国内外动态・
国外高纯钨粉和钨材制备
赵秦生
(中南大学冶金科学与工程学院,湖南长沙410083)
摘 要:简要介绍了国外高纯钨粉及钨材的某些制备工艺,并给出了某超纯钨粉及硅化钨粉(WS i x )的分析结果。
关键词:钨;高纯度;粉末;靶材 中图分类号:TF 123124 文献标识码:A 文章编号:1004-0536(2003)04-0056-02
Preparation of Ultra -pure Tungsten P owder and Tungsten Material Abroad
ZH AO Qing -sheng
(C ollege of Metallurgical Science and Engineering ,Central S outh University ,Changsha 410083,China )
Abstract :Brief description is made of the preparation of ultra -pure W powder and W materials abroad.In the paper is reported assaying results of the ultra -pure W powdet and WSi x .K eyw ords :tungsten ;high purity ;powder ;target materials
随着工业技术和科学技术的发展,许多行业对钨粉的纯度要求越来越高,如高纯钨或超纯钨(5N 或6N )具有对电子迁移的高电阻、高温稳定性以及能形成稳定的硅化物,在电子工业中以薄膜形式用作栅极、连接和障碍金属。
日本山口悟等人报道[1],东芝公司钨精炼厂横滨金属和化合物分厂在1990年前后,为了提高产品质量,试图降低金属钨和钼中的杂质含量。
特别是对用作半导体的配线用材,要求将钨粉和钼粉的纯度从通常的3N 提高到5N 以上。
该厂采用了用酸分解通常的钨粉和钼粉,然后通过离子交换法精制,得到高纯度的氧化物。
将高纯氧化物进氢还原,即可得到超高纯度的钨粉和钼粉。
其生产流程如附图所示,超高纯钨粉和钼粉的化学成分与普通钨粉和钼粉的比较见表1。
文献[1]著者未对酸分解和离子交换的情况作具体介绍。
估计他们在酸分解钨粉和钼粉时,采用了双氧水、H NO 3+HF 或HF +H 2S O 4+H NO 3之类能溶解钨粉和钼粉的酸类,使钨和钼以阴离子形态进入溶液中,然后再用阴离子交换树脂进行净化。
从1988年以来,用作溅射靶材的钨纯度在不断
附图 高纯钨粉和钼粉生产原则工艺流程提高。
用物理气相沉积法(PVD )生产的钨薄膜和溅射靶材,纯度为6N ,已用于工业生产[2]。
为制备高纯和超纯钨,最好选用含U 和Th 低的仲钨酸铵作原料。
因为在所有的杂质元素中,要求U 和Th 的含量应特别低。
这些天然放射性元素
收稿日期:2003-05-09
作者简介:赵秦生(1934-),男,教授,博导。
第31卷第4期2003年12月 稀有金属与硬质合金Rare Metals and Cemented Carbides
V ol.31 №.4
Dec. 2003
表1 W粉末和M O粉末的化学成分
粉末名称纯度
%
杂质含量/10-6
Na K Fe Ni Cr
3N-W>9919<20<20<20<20<20 5N-W>991999<0105<0105<015<015<015 3N-M O>9919<20<20<20<20—5N-M O>991999<0105<0105<014<014<014
因具有a射线,在记忆回路中可引起“软误差”。
含U和Th低的仲钨酸铵,可通过多次再结晶的办法除去其他杂质,得到超纯仲钨酸铵。
后者经煅烧得到W O3,经氢还原得到超高纯度的钨粉。
文献[3]给出了超纯W和WSi x粉末的分析数据(见表2)。
这种W粉可用来生产W、WSi x或T iW的溅射靶材。
通过压形、烧结和电子束悬浮区域熔炼,可以进一步将U和Th以外的杂质含量进一步降低。
显然,在高纯的生产过程中,厂房内应保持高度清洁,以减少产品中的杂质。
表2 超纯级W粉末和WSi x粉末的分析结果
名称
杂质含量/<μg・g-1
Al B Na K Ca M g Fe C o Cr Ni Cu U Th W粉01200105010501100110011001250102012501150102010003010003 WS i x粉015001500110015001500110110010511001300120010003010003
参考文献:
[1]山口 悟,等1横滨金属部品工场にぉけゐ ƒ 精
练[J]1资源と素材,1993,109(12):11461
[2]Lassner E,et al.Tungsten Properties Chemistry T echnology of
the E lement Alloys and Chemical C ompounds[M]1New Y ork:
K luwer Academic/Plenum,19991247.
[3]Pink E,et al.Refractory metals and their alloys[A].Cahn R
W,et al.Materials Science and T echnology(V ol8)[C].
Weinheim:VCH,1991.589.
(上接第55页)
柳州IT O产业高科技开发区,和国内有关科研、院校单位合作,使IT O产品完全国产化,以保证我国IT O 产品在国际、国内市场上的主导地位。
参考文献:
[1]江阴市华顺特种玻璃有限公司[DB/O L].http://w w w.hs
-tb.con/index.htm,2003-07-08.
[2]深圳豪威真空光电子股份有限公司[DB/O L].http://
w w /webc/introduction.htm,2003-07-
08.
[3]深圳市北庆薄膜技术有限公司[DB/O L]1http://w w w.bq2
/docc/gsjj.html,2003-07-08.
[4]旋宝好企业有限公司[DB/O L].http://jn fchien,ebigchina.
com/cdpge/site/91919/gb/x1.html,2003-07-08.
[5]刘朗明,等.超细氧化铟粉的研制[J]1有色冶炼,1999,
(6):32.
[6]段学臣,等.超细氧化铟、氧化锡(IT O)复合粉末的研制
与结构特性[J]1稀有金属,1998,(5):3961
[7]李风光,等1化学液相共沉淀制备纳米级In2O3(SnO2)粉
末[J]1粉末冶金工业,1999,(5):221
[8]李锦桥1IT O靶材的发展现状[J]1产业论坛,2000,(12):
351
[9]钟 毅,等1铟锡氧化物(IT O)靶材的应用和制备技术
[J],昆明理工大学学报,1997,(1):661
[10]李玉增1薄膜产业化进程概述[J]1世界有色金属,
1998,(11):111
[11]段学臣,等1新材料膜薄的应用和发展[J]1稀有金属
与硬质合金,1999,(3):581
[12]侬健桃1我国铟产业现状及发展[J].有色冶炼,2002,
31(4):12.
[13]王顺昌,等1铟的资源,应用和市场[J]1世界有色金
属,2000,(12):221
[14]李万青1大厂矿田铟资源保护和利用[J]1世界有色金
属,2001,(10):331
75
第4期 赵秦生;国外高纯钨粉和钨材制备。