MEMS工艺(半导体工艺)
MEMS键合工艺简介课件

• 晶片制备 • 光刻 • 淀积 • 掺杂 • 键合 • 刻蚀
MEMS键合工艺简介
键合
MEMS键合工艺简介
ห้องสมุดไป่ตู้合
MEMS键合工艺简介
键合工艺
键合:静电键合、热键合、“复合”键合 键合的目的是通过外界作用将多个基片“粘接” 不同的键合方式,键合原理不同
MEMS键合工艺简介
静电键合
静电键合:Wallis和Pomerantz于1969年提出,静电键合可把金属、 合金、半导体与玻璃键合
MEMS键合工艺简介
原理:三个阶段
• 室温~200度:表面吸附的OH根在接触区产生氢键,随温 度增高,OH根得到热能增大迁移率,氢键增多,硅片产 生弹性形变,键合强度增加。在200~400度间,形成氢键 的两硅片的硅醇键聚合反应,产生水合硅氢键,键合强度 迅速增大 Si-OH+HO-Si——Si-O-Si+H2O
MEMS键合工艺简介
静电键合
工艺及工艺参数的影响 •温度: 低温:没有导电电流,键合无法进行 高温:玻璃软化,无法键合 一般:180~500度 •电压: 低压;静电力减弱,
无法键合 高压:击穿玻璃 一般:200~1000伏
MEMS键合工艺简介
静电键合
• 键合产生的应力:热膨胀系数相近、热匹配 • 电极形状:点接触、平行板电极 • 非导电绝缘层的影响;减弱静电力,460nm后,键合失效 • 表面粗糙度的影响 • 极化区中残余电荷的作用;键合完成后在极化区内残余的
• 表面平整度: • 沾污粒子:1微米粒子产生4.2mm孔洞
足够清洗、超净环境、平整表面、高温处理、
低温键合:在小于500度下完成键合
MEMS键合工艺简介
复合键合
MEMS工艺讲述

电阻
抛光削薄第二片硅,形成压力传感器芯片
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其他
电子束光刻
提供了小至纳米尺寸分辩力的聚合物抗蚀剂图形转印的一 种灵活的曝光设备,远远地超过了目前光学系统的分辨力 范围
聚焦离子束光刻
利用聚焦离子束设备修复光掩模和集成电路芯片
扫描探针加工技术(SPL)
一种无掩模的加工手段,可以作刻蚀或者淀积加工,甚至 可以用来操纵单个原子和分子
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键合机理:预键合时硅与硅表面之间产生的键合力是由于亲水表 面的OH-之间吸引力的作用形成了氢键。进一步的高温处理可以 产生脱水效应,而在硅片之间形成氧键,键合强度增大。
接触前硅片表面有OH基
预键合形成氢键
高温处理脱水形成氢键
压力传感器芯片
P型(100)硅片 外延n型硅膜 n型(100)硅片
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•
•
改进释放方法
做表面处理
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键合(bonding)技术
在微型机械的制作工艺中,键合技术十分重要。
键合技术是指不利用任何粘合剂,只是通过化学键和物理作用将硅片
与硅片、硅片与玻璃或其他材料紧密地结合起来的方法。 键合技术虽然不是微机械结构加工的直接手段,却在微机械加工中有
着重要的地位。它往往与其他手段结合使用,既可以对微结构进行支
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非硅基微机械加工技术
• LIGA加工技术
• 激光微机械加工技术 • 深等离子体刻蚀技术 • 紫外线厚胶刻蚀技术
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LIGA工艺
1. LIthograpie(制版术),Gavanoformung(电铸), Abformung(塑铸)
2. LIGA工艺于20世纪80年代初创于德国的卡尔斯鲁厄 原子核研究所,是为制造微喷嘴而开发出来的 3. LIGA技术开创者Wolfgang Ehrfeld领导的研究小 组曾提出,可以用LIGA制作厚度超高其长宽尺寸的 各种微型构件。
半导体物理与器件mems

半导体物理与器件mems1.引言1.1 概述半导体物理与MEMS(微机电系统)器件是现代科技领域中非常重要的研究方向。
半导体物理研究了半导体材料的电学、热学和光学特性,以及半导体器件的制备和性能。
而MEMS器件则是利用微纳米加工技术制造出微小的机械结构,并通过集成电路技术实现控制和传感功能。
这两个领域的交叉研究为实现微小化、集成化、高性能的微型传感器、执行器和微系统提供了重要的基础。
半导体物理的研究内容包括材料的能带结构、载流子在半导体中的输运过程、电子在半导体中的行为等。
半导体器件是基于半导体材料的电子元件,如二极管、晶体管、集成电路等。
半导体物理的研究能够帮助我们更好地理解和设计各类半导体器件,进一步推动半导体技术的发展。
MEMS器件是在微纳米尺度上制造的微小机械系统。
它们通常由微电子器件、微机械结构和传感器等组成。
MEMS器件具有体积小、质量轻、功耗低、快速响应和高集成度等特点。
MEMS器件的研究涉及到微纳加工工艺、微尺度机械结构设计、传感与控制等一系列技术和理论。
随着纳米技术和微电子技术的不断发展,MEMS器件在医疗、通信、汽车、航空航天等领域有着广泛的应用前景。
半导体物理与MEMS器件的结合为微电子技术的发展提供了新的思路和方向。
通过将半导体物理与MEMS器件相结合,我们可以实现更小型化、更高性能的器件和系统。
这不仅能够满足日益增长的微型化和集成化需求,还有助于推动人工智能、物联网、生物医学等领域的技术创新和应用。
因此,对于半导体物理与MEMS器件的研究和深入理解具有重要意义,将为科技进步和社会发展提供强有力的支撑。
1.2文章结构1.2 文章结构本文分为三个主要部分,分别是引言、正文和结论。
在引言部分,我们将提供对半导体物理与MEMS器件的简要概述,介绍其重要性和应用领域。
同时,我们将阐明本文的目的和意义。
接着,正文部分将深入探讨半导体物理和MEMS器件的相关内容。
在半导体物理部分,我们将介绍半导体材料的基本原理、能带理论和半导体器件的工作原理。
谈论MEMS技术原理及优势

谈论MEMS技术原理及优势可能大部分对MEMS还是比较陌生,但其实MEMS在生活中早已无处不在了,智能手机、手环、汽车、无人机、VR/AR头戴式设备等,都应用了MEMS器件。
既然MEMS应用这么广泛了,那么它到底是什么技术呢?稍安勿躁,听笔者慢慢道来。
1 、谈谈MEMS技术原理MEMS是微机电系统,英文全称是MicroElectromechanicalSystem,。
是指尺寸在几毫米乃至更小的传感器装置,其内部结构一般在微米甚至纳米量级,是一个独立的智能系统。
简单来说,MEMS就是将传统传感器的机械部件微型化后,通过三维堆叠技术,例如三维硅穿孔TSV 等技术把器件固定在硅晶元(wafer)上,最后根据不同的应用场合采用特殊定制的封装形式,最终切割组装而成的硅基传感器。
受益于普通传感器无法企及的IC 硅片加工批量化生产带来的成本优势,MEMS 同时又具备普通传感器无法具备的微型化和高集成度。
MEMS主要涉及微加工技术,机械学/固体声波理论,热流理论,电子学,生物学等等。
MEMS器件的特征长度从1毫米到1微米,相比之下头发的直径大约是50微米。
MEMS传感器主要优点是体积小、重量轻、功耗低、可靠性高、灵敏度高、易于集成等,是微型传感器的主力军,正在逐渐取代传统机械传感器,在各个领域几乎都有研究,不论是消费电子产品、汽车工业、甚至航空航天、机械、化工及医药等各领域。
2 、MEMS是替代传统传感器的唯一选择模拟量到数字化、大体积到小型化以及随之而来的高度集成化,是所有近现代化产业发展前进的永恒追求。
MEMS被看作是替代传感器的唯一可能选择,也可能是未来构筑物联网感知层传感器最主要的选择之一。
其有以下优势:优势一:微型化。
mems mic结构 -回复

mems mic结构-回复MEMS麦克风(Micro-Electro-Mechanical Systems Microphone)是一种微型电子器件,采用微机电系统技术制造而成,用于将声音转换为电信号。
本文将一步一步回答有关MEMS麦克风结构的问题。
第一部分:引言MEMS麦克风是当今许多电子设备中的关键组成部分,如手机、耳机、音频设备等。
它的小巧尺寸和高性能使其成为一种理想的音频传感器。
在了解MEMS麦克风的结构之前,我们首先需要了解MEMS技术的基本原理。
第二部分:MEMS技术的基本原理MEMS技术是一种将微型机械系统和电子技术相结合的技术,它使用半导体制造工艺在微米级别上制造具有机械功能的结构。
根据MEMS技术的原理,MEMS麦克风结构可以被划分为以下几个部分:1.薄膜振膜MEMS麦克风的核心部件是薄膜振膜。
薄膜振膜是由一层薄的材料制成,通常是硅或聚合物。
当声波通过振膜时,振动会引起膜片的形变,从而产生电荷或电压变化。
2.电容板电容板位于薄膜振膜的下方,与薄膜振膜之间形成一个微小的电容间隙。
电容板上会施加一定的电压,形成与薄膜振膜之间的电容。
当薄膜振膜振动时,电容的值会发生变化,从而改变电信号的大小。
第三部分:MEMS麦克风的制造过程MEMS麦克风的制造过程通常包括以下几个步骤:1.硅片制备首先,通过半导体工艺将硅片切割成适当的尺寸。
这些尺寸可以根据麦克风的设计要求来确定。
2.薄膜沉积将薄膜材料沉积在硅片上,可以使用物理气相沉积或化学气相沉积等技术。
薄膜的厚度可以根据设计要求进行控制。
3.光刻和蚀刻通过光刻和蚀刻等步骤,将硅片上的薄膜制作成薄膜振膜和电容板的形状。
这些步骤使用光罩和化学蚀刻剂等工具进行。
4.封装和连接将制作好的MEMS麦克风封装在保护壳内,以保护其免受外部环境的干扰。
然后,通过金线焊接或其他技术将麦克风连接到电路板上,以传输声音信号。
第四部分:MEMS麦克风的工作原理MEMS麦克风工作时,当声波进入麦克风时,它会使薄膜振膜发生弯曲。
MEMS工艺(9腐蚀技术)

腐蚀技术是MEMS工艺中的关键步骤之一,通过控制材料的去除过程, 可以实现微纳结构的高精度制造。
03
强调本次汇报的重点
本次汇报将重点介绍MEMS工艺中的9种腐蚀技术,包括其原理、特点、
应用及发展趋势。
汇报范围
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腐蚀技术种类
本次汇报将涵盖湿法腐蚀、干 法腐蚀、电化学腐蚀、光化学 腐蚀、等离子体腐蚀、反应离 子腐蚀、深反应离子腐蚀、激 光腐蚀和微细电火花腐蚀等9 种腐蚀技术。
mems工艺定义
MEMS工艺
MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)工艺是一种微机电 系统技术,它结合了微电子技术和机械工程技术,通过微米级甚至 纳米级的制造精度,制造出具有特定功能的微型器件和系统。
9腐蚀技术
9腐蚀技术是MEMS工艺中的一种重要技术,它利用特定的腐蚀液 对材料进行选择性腐蚀,从而实现对微型结构的精确加工和制造 。
结合纳米压印、纳米光刻等技术, 实现纳米级别的微结构加工,应用 于生物芯片、光学器件等领域。
05
9腐蚀技术优势与不足
优势分析
01
02
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高精度制造
9腐蚀技术能够实现高精 度的MEMS器件制造,满 足复杂结构和微小尺寸的 需求。
批量化生产
该技术适用于批量化生产, 能够提高生产效率,降低 成本。
兼容性强
在未来发展中,9腐蚀技术需要不断改 进和完善,提高生产效率、降低成本、 拓展应用领域,以适应MEMS市场的不 断变化和发展需求。同时,也需要与其 他MEMS制造技术相互补充和融合,形 成更加完善的MEMS制造体系。
06
9腐蚀技术改进方向及前景展望
MEMS工艺(12键合与封装)

暴露的表面能够抵抗外部杂质的污染
使封装内部避免潮湿,环境的湿度可以导 致精细的微型光机械元件的粘附
机械接口
机械接口涉及到MEMS中可动部分的设
计问题,需同它们的驱动机构连接起来; 不恰当的处理接口会造成微元器件的故障 和损坏
电机械接口
电的绝缘、接地和屏蔽是这类MEMS微系统的
典型问题。这些问题在低电压级的系统中表 现的更为明显
静电键合中,静电引力起着非常重要的作用。例 如,键合完成样品冷却到室温后,耗尽层中的电 荷不会完全消失,残存的电荷在硅中诱生出镜象 正电荷,它们之间的静电力有1M P a左右。可见 较小的残余电荷仍能产生可观的键合力。 另外,在比较高的温度下,紧密接触的硅/玻璃 界面会发生化学反应,形成牢固的化学键,如 Si-O-Si键等。如果硅接电源负极,则不能形成 键合,这就是“阳极键合”名称的由来。
Si-Si或SiO2-SiO2直接键合的关键是 在硅表面的活化处理、表面光洁度、 平整度以及在工艺过程中的清洁度。
硅硅键合表面
缺点:
Si-Si和SiO2-SiO2直接键合需在高温 (700~1100C)下才能完成,而高温处理 过程难以控制,且不便操作;
因此,能否在较低温度或常温下实现Si-Si 直接键合,就成为人们关注的一项工艺。 这项工艺的关键是,选用何种物质对被键合 的表面进行活化处理。
与主要的信号处理电路封装 ; 需要对电路进行电磁屏蔽、恰当的力和热 隔离; 系统级封装的接口问题主要是安装不同尺 寸的元件
微系统封装中的接口问题
接口问题使得为器件和信号处理电 路以及考虑密封工作介质和电磁场 问题而选择合适的封装材料成为微 系统成功设计中的一个关键问题
生物医学接口 光学接口 机械接口 电机械接口 微流体学接口
MEMS器件与结构简述10

MEMS器件与结构简述10MEMS器件与结构简述10MEMS(Micro-Electro-Mechanical Systems)是一种集成了微小电子器件和机械器件的技术,主要用于制造微尺度的机械设备和系统。
这种技术可以在微观尺度上实现机械运动、感知和控制,具有广泛的应用领域,包括汽车、航空航天、生物医学、通信、能源和消费电子等。
MEMS器件的核心组成部分是基于半导体工艺制造的微观结构,常见的结构包括悬臂梁、膜片、压电材料、微加工引擎等。
通过纳米级制造工艺和先进的材料,可以制造出微米级甚至亚微米级的结构。
这些微结构的制造通常需要先在硅片上进行光刻、腐蚀和沉积工艺,然后通过薄膜剥离或刻蚀剂释放到底部,形成独立的微结构。
MEMS器件通常具有微小尺寸、低功耗、高集成度和可靠性好的特点。
例如,加速度计是一种常见的MEMS器件,常用于检测和测量物体的加速度。
它由微小的悬臂梁结构和压电材料组成,当受到外界加速度时,悬臂梁会发生变形,从而引起电荷的积累和电压的变化。
通过测量这个变化,可以确定物体的加速度。
另一个常见的MEMS器件是微型压力传感器,它通常用于测量气体或液体的压力。
微型压力传感器由微小的膜片和微细加工引擎组成,当受到压力时,膜片会发生变形,通过测量变形的程度可以确定压力的大小。
除了加速度计和压力传感器,MEMS器件还包括陀螺仪、微型电机、微型阀门、光学器件等。
这些器件不仅可以实现触觉、力学和运动的感知和控制,还可以实现光学信息的处理和传输。
MEMS器件在汽车领域有很重要的应用。
比如,汽车的气囊系统中就使用了加速度计和压力传感器,通过检测车辆的加速度和碰撞压力来触发气囊的充气,保护乘客的安全。
此外,MEMS技术还被用于制造车载传感器、惯性导航系统和发动机控制系统等。
在生物医学领域,MEMS器件被广泛应用于生物传感器、体外诊断设备和植入式医疗器械等。
例如,微型生物传感器可以用于检测血糖、蛋白质和DNA等生物分子的浓度,实现个体化的医疗诊断和治疗。