镀膜工艺介绍
字4
字5
字6
数 基片 数字 反射 数字 透过 字
字 颜色
色
率母
1 白玻 1
中性 色
2 F绿 2
银色
3 灰玻 3 4 茶玻 4
蓝色 8-85 8%- S
灰色
85%
字7
含字 义母
TS
TB
字8
特殊
新结 构
可钢 化
南 玻
Y 耀皮
5 蓝玻
V Varicon
注意
1、字8缺省表示老结构Low-e，但现在有时后新结构 后也不加“TS”。新老结构颜色只是近似。
影响装载率的因素:玻璃规格、上片效率、均匀性 设备限制
8点开始调试CEF16-50，走片速度为4m/min，调片3 次，装载率为60%,生产完4000平米要到几点?
生产用时为: 任务单量/每小时产能 =4000/(4×2.44×0.6×60) =11 hours
调试时间为: 单次调片时间×调片次数+试镀时间+出片时间 =(12×3+12+17)/60=1.1 hours
镀膜工艺介绍
内容
1、溅射原理 2、镀膜工艺过程 3、产量和产能 4、镀膜生产组织 5、膜系标号
1、溅射原理
2、镀膜工艺过程
进口室 缓冲室 输送室
溅射室
输送室 缓冲室 进口室
溅射室内部结构
平面靶
旋转靶
3、产量和产能
前提:以S=4m/min走速计算
一次单银调片时间约为12分钟 试镀时间约为12分钟 产品从上片到出片时间约为17分钟 连续生产时的产能=S×2.44×装载率×60
总生产时间:生产用时+调试时间=11+1.1=12.1 hours
答案: 晚上8点可以生产完毕
单次产量与设备利用率的关系
设备利用率
100.00% 90.00% 80.00% 70.00% 60.00% 50.00% 40.00% 30.00% 20.00% 10.00% 0.00% 50
100
200
1、钢化前和钢化后的颜色不一样 2、SuperⅠ和SuperⅠ+钢化颜色变化规律不一样
2、同一编号的TS系列仅是对应钢化后的TB系列，和 钢化前的TB系列颜色会相差很多。即使是钢化后TB系列 与TS相比也只是近似，原则上不能混用。
TB系列与Super系列对应关系
Super系列 TB系列
SuperⅠ
SuperⅢ
SuperⅣ
SuperⅤ
Ces11-80/TB Ceb14-60/TB Ceb14-50/TB Cef16-50/TB
400
800
1600
3200
6400
12000
单次产量(m2)
调片1次
调片3次
双银
4、镀膜生产组织Leabharlann 1、集中生产2、领补单优先
3、均匀性类似集中生产
4、装载率
5、膜系标号
C E S 11 — 80 S / TS
字1
字含 母义
C南 玻
字2
字母 含义 字 母
S
B
F
E
Low
-E
D
字3
特殊
高透
中低透 光 多数高 反 双银
pcb镀膜工艺技术
pcb镀膜工艺技术
PCB镀膜工艺技术是指将一层薄膜涂覆在PCB（Printed
Circuit Board，印刷电路板）的表面，用于保护电路板免受环
境污染和氧化腐蚀。
常见的PCB镀膜工艺技术包括喷涂、浸涂、浸镀、喷镀等。
1. 喷涂：直接用喷枪将防腐膜涂覆在PCB表面。
该工艺简单，但效果较差，易产生浮白和脱落现象。
2. 浸涂：将PCB放入含有防腐膜的槽中，通过液力将膜涂覆
在PCB表面。
该工艺需要控制液体的温度和浓度，以保证膜
的均匀性和质量。
3. 浸镀：将PCB放入含有金属材料（如锡、银）的浸涂槽中，通过电化学反应使金属材料镀到PCB表面。
该工艺可以提高PCB的导电性和抗氧化能力。
4. 喷镀：类似于喷涂工艺，将金属材料（如锡、银）以液态喷射到PCB表面。
喷镀工艺可以在不使用电流的情况下进行，
适用于一些对电流敏感的电路板。
通过PCB镀膜工艺技术，可以增加PCB的抗氧化能力，减少PCB与环境因素的接触，延长电路板的使用寿命。
不同的镀
膜工艺技术适用于不同的应用场景，制造商需要根据自身需求和要求选择适合的工艺技术。
镀膜工艺流程
镀膜工艺流程镀膜工艺流程是指将一层特殊材料加在被镀物表面的工艺过程。
该工艺可以提高被镀物的硬度、耐磨性和防腐蚀性能，常用于光学镜片、汽车零部件、电子器件等领域。
一般而言，镀膜工艺流程可以分为以下几个步骤：1. 表面处理：被镀物的表面必须进行充分的清洁和处理，以确保镀层具有良好的附着力。
常用的表面处理方法包括化学清洗、机械打磨、酸洗等。
2. 蒸发或溅射：选择合适的镀膜材料，将其以蒸发或溅射的方式在被镀物表面沉积。
蒸发镀膜通过将镀膜材料加热至其沸点，使其蒸发并沉积在被镀物表面；溅射镀膜则是通过将镀膜材料靶材以高速撞击的方式喷射到被镀物表面。
3. 衬底材料：为提高镀膜的质量和性能，常常在被镀物表面先涂覆一层衬底材料。
衬底材料可以增加镀层与被镀物的结合力，同时也能减少镀层的孔洞和缺陷。
4. 温度和气氛控制：在镀膜过程中，要控制镀膜的温度和气氛条件。
温度的控制可以影响镀层的致密性和结晶度，而气氛的控制可以影响镀层的成分和结构。
5. 制备复合镀膜：根据不同的工艺要求，有时需要制备复合镀膜。
复合镀膜可以通过多次镀膜、多种镀膜材料的组合或多层衬底材料的涂覆来实现。
6. 后处理：完成镀膜过程后，可以进行一些后处理工艺以改善镀层的性能。
例如，通过热处理可以提高镀层的硬度和致密性；通过机械抛光可以提高镀层的光洁度。
在整个镀膜工艺流程中，质量控制是非常重要的一环。
通过对每个步骤的参数和指标进行严格的监控和调节，可以确保最终的镀膜质量符合要求。
同时，对于复杂的镀膜工艺流程，也需要关注工艺的稳定性和可重复性，以确保批量生产时的一致性。
总之，镀膜工艺流程是一项复杂而关键的工艺，它涉及到材料、设备、工艺参数等多个方面。
只有通过科学合理的流程设计和精确的质量控制，才能保证最终的镀膜质量和性能达到预期目标。
《镀膜工艺》课件
电子束蒸发镀膜：利用电子束加热靶材， 使其在真空环境下蒸发，在基材表面形 成薄膜
化学镀膜工艺
化学镀膜工艺简介 化学镀膜工艺的分类 化学镀膜工艺的应用领域 化学镀膜工艺的发展趋势
复合镀膜工艺
原理：通过在基材表面沉积多层不同性质的薄膜，形成复合膜层 特点：具有多种功能，如耐磨、耐腐蚀、抗反射等 应用：广泛应用于光学、电子、机械等领域 工艺流程：包括预处理、沉积、后处理等步骤
固化阶段：通过加热、光 照等方法使镀膜材料固化
检测阶段：检查镀膜层的 厚度、均匀性等性能指标
后处理阶段：对镀膜后的 工件进行清洗、抛光等处 理，提高其表面质量
后处理
清洗：去除残留 的化学物质和杂 质
干燥：去除水分， 防止腐蚀和氧化
抛光：提高表面 光洁度，改善外 观
检验：检查镀膜 质量，确保符合 标准要求
研发方向：环保、 节能、高效、多功 能
应用领域：电子、 光学、生物、医疗、 航空航天等
研发成果：新型纳 米材料、有机无机 复合材料、生物材 料等
未来展望：新材料 的研发和应用将推 动镀膜工艺的发展 ，提高产品质量和 性能，拓展应用领 域。
镀膜工艺的绿色化与可持续发展
绿色镀膜：采用 环保材料，减少 对环境的污染
镀膜工艺流程
前处理
目的：去除工件表面的油污、锈迹等杂质 步骤：清洗、除油、除锈、除氧化皮等 设备：清洗机、除油机、除锈机等 材料：清洗剂、除油剂、除锈剂等 注意事项：确保工件表面清洁，避免污染后续镀膜过程
镀膜
准备阶段：选择合适的镀 膜材料和设备
清洗阶段：去除工件表面 的油污、锈迹等
镀膜阶段：将镀膜材料均 匀地涂覆在工件表面
PVD镀膜工艺简介
PVD镀膜工艺简介PVD镀膜（Physical Vapor Deposition）是一种利用物理气相沉积的技术，在高真空环境下，通过蒸发、溅射等方式将金属、合金、化合物等材料以薄膜的形式沉积到基材表面的一种工艺。
PVD镀膜工艺被广泛应用于各个领域，如光学、电子、机械、汽车、建筑等。
蒸发是PVD镀膜中最早应用的一种工艺。
通过加热源将材料加热至蒸发温度，使其转变为气态，然后在真空室内的基板上形成薄膜。
蒸发工艺可以通过电阻加热、电子束加热等方式来进行。
这种工艺的特点是操作简单，成本较低，但适用于蒸发温度较低的材料。
溅射是PVD镀膜中应用较广泛的一种工艺。
通过高能粒子的轰击使靶材表面的原子或离子脱落，然后被沉积在基板表面上形成薄膜。
溅射工艺一般可分为直流溅射、射频溅射、磁控溅射等不同方式。
这种工艺具有较高的沉积速率和较好的膜层均匀性，适用于多种材料的沉积。
离子镀是一种利用离子轰击作用在基材表面上形成薄膜的工艺。
通过向沉积膜层的材料供应高能离子，使其在基板表面发生化学反应并沉积形成薄膜。
离子镀工艺能够提高薄膜的致密性和附着力，适用于复杂形状的基板和高精密要求的镀膜。
在PVD镀膜过程中，需要注意以下几个关键环节。
首先，要确保真空室内的气压稳定，并保持高真空状态，以避免杂质对薄膜质量的影响。
其次，镀膜前需对基材进行表面处理，如清洗、抛光等，以提高薄膜的附着力。
再次，镀膜材料的纯度和均匀性对薄膜性能起着重要影响，因此需要对材料进行精细的处理和选择。
最后，要通过适当的加热、冷却以及离子轰击等方式，使沉积的薄膜具有良好的致密性和均匀性。
PVD镀膜工艺具有许多优点。
首先，它可以在室温下进行，避免了高温对基材产生的热应力和变形。
其次，沉积的薄膜具有较高的质量和均匀性，具有良好的机械性能和化学稳定性。
再次，PVD镀膜可用于多种材料的沉积，如金属、合金、化合物等，具有较大的灵活性和可扩展性。
此外，PVD镀膜还具有低污染性、无溶剂使用、高效节能等环保优势。
镀膜工艺简介AF,AG,AR 20190601
涂层硬度： 测试条件：使用7H三菱铅笔，1KG压力，摩擦速度60次/分钟，摩擦行程40mm，摩 擦次数1次 表面无划痕
人工汗液
摩擦测试仪
摩擦测试仪
AR抗（减）反射增透膜简介
• AR膜又称减反射膜又称增透膜，
• 主要功能:减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元 件的透光量。
AF镀膜产品应用领域：
手机、平板、车载、电视、LED等玻璃显示屏
AF生产工艺简介
真空蒸镀：在真空条件下，采用一定的加 热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并 使之气化，粒子飞至基材表面凝聚成膜的 工艺方法。
真空溅镀：利用辉光放电将氩气(Ar)离子 撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积 在基板表面形成薄膜。
AG防炫膜简介
AG镀膜产品特性： 1、反射红外线：降低红外线在玻璃表面的通透率来减少入室红外线光； 2、增强透光率：在反射红外线光线的同时增强其他光源的透过，不影响室内采 光效果 3、防眩光：将光源发出的光通过漫反射改变反射强光对观察者的视觉刺激
AG镀膜产品应用领域： 1、手机、车载导航、电子黑板、电视屏幕、电脑屏幕、精密仪器仪表屏幕、医 疗设备窗口、液晶显示器视窗、电子产品视窗、笔记本触板、无线鼠标触板等； 2、高级画廊和美术馆的名贵字画的镜框，使字画和图片长期保存，永不褪色； 3、博物馆、档案馆等贵重文物保护。
• 减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技 术中重要的研究课题.
• 在很多应用领域中，增透膜是不可缺少的，否则，无法达到应用的要求。 就拿一 个由18块透镜组成的35mm的自动变焦的照相机来说，假定每个玻璃和空气的界 面有4%的反射，没有增透的镜头光透过率为27%，镀有一层膜（剩余的反射为 1.3%）的镜头光透过率为66%，镀多层膜（剩余的反射为0.5%）的为85%。
镀膜工艺流程
镀膜工艺流程
《镀膜工艺流程》
镀膜工艺是一种常用的表面处理技术，旨在为材料表面增加一层膜，从而改善其性能和外观。
镀膜工艺可以应用于金属、塑料、陶瓷等各种材料上，用途广泛。
下面将介绍镀膜工艺的主要流程。
1. 表面处理：在进行镀膜之前，首先需要将材料的表面进行处理，以确保膜层能够牢固地附着在其上。
通常，表面处理包括去油、除锈、打磨、清洗等步骤。
2. 镀前处理：将经过表面处理的材料放入镀前处理液中进行处理，以增强膜的附着性。
镀前处理一般包括清洗、酸洗、活化等步骤。
3. 镀膜：将经过镀前处理的材料放入镀膜槽中进行镀膜。
镀液中通常含有金属离子，通过电化学方法将金属离子还原成金属层，从而在材料表面形成一层金属膜。
4. 后处理：对镀膜后的材料进行清洗、干燥、抛光等后处理工艺，以确保膜层光滑、均匀、无缺陷。
以上就是镀膜工艺的主要流程。
通过上述步骤，可以为材料表面增加一层薄膜，提升其耐腐蚀性、硬度、光泽度等性能。
镀膜工艺不仅可以用于美化产品外观，还可以增强材料的使用寿命和耐用性，因此在工业生产中具有重要的应用价值。
镀膜工艺技术
镀膜工艺技术镀膜工艺技术是一种将膜物质涂覆在工件表面的方法，使工件具有特定的性能或外观效果的技术。
镀膜工艺技术广泛应用于电子、航空航天、光学、汽车等领域。
一、镀膜工艺技术的分类根据涂覆物的不同，镀膜工艺技术可以分为化学镀膜、物理镀膜和电化学镀膜三种。
1. 化学镀膜技术化学镀膜是利用化学反应将膜物质溶解在化学溶液中，通过反应物分子在工件表面形成一层薄膜，从而改善工件表面的性能。
常用的化学镀膜技术有镀金、镀铬、镀镍等。
2. 物理镀膜技术物理镀膜是利用物理方法将膜物质蒸发或溅射到工件表面，形成一层薄膜。
常见的物理镀膜技术有真空蒸发、物理气相沉积等。
3. 电化学镀膜技术电化学镀膜是利用电解溶液中的阳离子在阳极处发生离子化，经过电场作用，将离子在阴极处还原，形成一层薄膜。
常见的电化学镀膜技术有镀锌、镀铜、镀锡等。
二、镀膜工艺技术的应用1. 保护性镀膜镀膜可以在工件表面形成一层保护性膜，防止工件与外界环境接触，延长其使用寿命。
例如，汽车零部件镀锌可以防止钢铁零件锈蚀，延长其使用寿命。
2. 装饰性镀膜镀膜可以使工件表面具有金属质感或其他特殊效果，提高其装饰性。
例如，首饰镀金可以使首饰更加闪亮、美观。
3. 功能性镀膜镀膜可以赋予工件特定的功能，如增加工件的导电性、耐磨性或降低摩擦系数等。
例如，光学镀膜可以使镜片具有优良的透光性和抗反射性能。
三、镀膜工艺技术的发展趋势1. 绿色环保化随着环保意识的提高，镀膜工艺技术向着绿色环保化的方向发展。
例如，采用无铬镀膜工艺替代传统的六价铬镀膜，可以减少对环境的污染。
2. 高效节能化工艺技术的不断创新，使得镀膜过程中的能源消耗大大减少，提高了工艺的效率和节能性。
3. 自动化智能化镀膜工艺技术在自动化和智能化方面的应用越来越广泛，大大提高了生产效率和产品质量。
例如，采用机器人来进行膜物质的涂覆，可以保证涂覆的均匀性和一致性。
总之，镀膜工艺技术是一项重要的表面处理技术，具有广泛的应用前景。
PVD镀膜工艺简介
生物医疗
用于制造具有生物相容性和耐 腐蚀性能的医疗器械和人工关
节等。
02
PVD镀膜工艺流程
前处理
清洗
去除工件表面的污垢、油脂和杂 质，确保工件清洁，以便进行后 续镀膜。
干燥
将清洗后的工件进行干燥处理， 以去除残留的水分，避免对镀膜 效果产生影响。
真空镀膜
蒸发源选择
根据需要镀制的膜层材料，选择相应 的蒸发源，如电子束蒸发、激光脉冲 蒸发等。
PVD镀膜工艺简介
目 录
• PVD镀膜技术概述 • PVD镀膜工艺流程 • PVD镀膜材料 • PVD镀膜工艺的特点与优势 • PVD镀膜工艺的应用实例
Байду номын сангаас1
PVD镀膜技术概述
PVD镀膜技术的定义
物理气相沉积（Physical Vapor Deposition，简称PVD）是一 种表面处理技术，利用物理方法将固体材料转化为气态原子或 分子，并将其沉积在基材表面形成薄膜。
类金刚石镀膜
具有极高的硬度和优良的 耐磨性，常用于机械零件、 光学元件、医疗器械等领 域的表面处理。
碳化物镀膜
具有高硬度、高耐磨性等 特点，常用于切削工具、 模具等领域的表面处理。
复合镀膜材料
氧化铝/氮化钛镀膜
氧化锆/类金刚石镀膜
具有高硬度、优良的耐磨性和耐腐蚀 性等特点，广泛用于切削工具、刀具 等领域的表面处理。
适用范围广
PVD镀膜工艺适用于各种金属材料， 如不锈钢、钛、铝、钴等，也可应用 于陶瓷、玻璃等非金属材料。
优良的结合力
PVD镀膜层与基材之间具有优良的结 合力，不易剥落，提高了产品的可靠 性和安全性。
长寿命
PVD镀膜层具有较长的使用寿命，可 大幅减少维修和更换的频率，降低生 产成本。
塑料镀膜工艺技术
塑料镀膜工艺技术
塑料镀膜工艺技术是一种在塑料表面形成一层保护膜的工艺。
通过镀膜，可以提高塑料表面的耐磨性、抗化学腐蚀性和外观质量，延长其使用寿命。
以下是塑料镀膜工艺技术的简要介绍。
首先，塑料镀膜的前处理非常重要。
在进行镀膜之前，需要对塑料表面进行清洁、去污、除油等处理，以确保膜层与塑料表面的粘结力。
这可以通过物理或化学方法实现，如用溶剂擦拭或光束等。
其次，选择合适的镀膜材料。
常用的塑料镀膜材料包括金属、陶瓷和聚合物等。
选择合适的镀膜材料需要考虑到塑料表面的性质和应用环境等因素。
例如，如果需要提高塑料的导电性，可以选择金属镀膜材料。
然后，进行镀膜过程。
塑料镀膜的方法有很多种，例如真空蒸发镀膜、电镀、喷涂等。
选择合适的镀膜方法需要考虑到塑料材料的特性和要求。
例如，真空蒸发镀膜适用于高温塑料和对温度敏感的塑料；电镀适用于要求膜层均匀、厚度可控的塑料。
最后，进行后处理。
镀膜完成后，需要对塑料进行后处理以提高镀膜层的表面质量和性能。
常用的后处理方法包括烘干、热固化、抛光等。
这些后处理方法可以提高镀膜层与塑料表面的结合力和耐磨性。
总结起来，塑料镀膜工艺技术是一种重要的表面处理技术，可以提高塑料的表面性能和外观质量。
在实际应用中，我们需要
根据具体情况选择合适的镀膜材料和方法，并进行前处理和后处理以确保镀膜层的质量和效果。
随着科技的发展，塑料镀膜技术将不断进步和改进，为塑料制品的应用提供更多的可能性。
镀膜工艺简介ppt课件
8
9
4.热蒸发原理及特点
������ 热蒸发是在真空状况下，将所要蒸镀的材料利用电阻加热达到熔化温 度，使原子蒸发，到达并附着在基板表面上的一种镀膜技术。
特点：装置便宜、操作简单广泛用于Au、Ag、Cu、Ni、In、Cr等导体 材料。
10
5.E-Beam蒸发原理 热电子由灯丝发射后，被加速阳极加速，获得动能轰击到 处于阳极的蒸发材料上，使蒸发材料加热气化，而实现蒸发镀 膜。 特点：多用于要求纯度极高的膜、绝缘物的蒸镀和高熔点 物质的蒸镀
3
2.PVD的基本过程
从原料中发射粒子（经过蒸发、升华、溅射和分解等过程）； 粒子输运到基片（粒子之间发生碰撞，产生离化、复合、反应， 能量的交换和运动方向的变化）； 粒子在基片上凝结、成核、长大和成膜。
4
3.PVD的分类
真空蒸发镀膜 真空溅射镀膜 真空离子镀膜
5
二、真空蒸发镀膜
6
17
3.辉光放电的定义 辉光放电是指在稀薄气体中，两个电极之间加上电压时产 生的一种气体放电现象。
18
直流溅射：适用于金属材料
射频溅射：是适用于各种 金属和非金属材料的一种 溅射沉积方法
19
4.真空溅射镀膜的优缺点
20
三、真空离子镀膜
21
1.真空离子镀膜的定义
在真空条件下，利用气体放电使气体或蒸发物质离化，在气体离 子或被蒸发物质离子轰击作用的同时，把蒸发物或其反应物蒸镀在 基片上。
1.真空的定义
泛指低于一个大气压的气体状态。与普通大气压状态相比，分子密度较为稀薄， 从而气体分子和气体分子、气体分子和器壁之间的碰撞几率要低一些。
2.真空蒸发镀膜的定义
真空蒸发镀膜是在真空条件下，用蒸发器加热蒸发物质使之汽化，蒸发粒子流 直接射向基片并在基片上沉积形成固态薄膜的技术。