第8讲 半导体存储器

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半导体存储器

半导体存储器

第7章半导体存储器内容提要半导体存储器是存储二值信息的大规模集成电路,本章主要介绍了(1)顺序存取存储器(SAM)、随机存取存储器(RAM)、只读存储器(ROM)的工作原理。

(2)各种存储器的存储单元。

(3)半导体存储器的主要技术指标和存储容量扩展方法。

(4)半导体存储器芯片的应用。

教学基本要求掌握:(1)SAM、RAM和ROM的功能和使用方法。

(2)存储器的技术指标。

(3)用ROM实现组合逻辑电路。

理解SAM、RAM和ROM的工作原理。

了解:(1)动态CMOS反相器。

(2)动态CMOS移存单元。

(3)MOS静态及动态存储单元。

重点与难点本章重点:(1)SAM、RAM和ROM的功能。

(2)半导体存储器使用方法(存储用量的扩展)。

(3)用ROM实现组合逻辑电路。

本章难点:动态CMOS反相器、动态CMOS移存单元及MOS静态、动态存储单元的工作原理。

7.1 半导体存储器及分类半导体存储器是存储二值信息的大规模集成电路,是现代数字系统的重要组成部分。

半导体存储器分类如下:按制造工艺分,有双极型和MOS型两类。

双极型存储器具有工作速度快、功耗大、价格较高的特点。

MOS型存储器具有集成度高、功耗小、工艺简单、价格低等特点。

按存取方式分,有顺序存取存储器(SAM)、随机存取存储器(RAM)和只读存储器(ROM)三类。

(1)顺序存取存储器(简称SAM):对信息的存入(写)或取出(读)是按顺序进行的,即具有“先入先出”或“先入后出”的特点。

(2)随机存取存储器(简称RAM):可在任何时刻随机地对任意一个单元直接存取信息。

根据所采用的存储单元工作原理的不同,又将随机存储器分为静态存储器SRAM和动态存储器DRAM。

DRAM存储单元结构非常简单,它所能达到的集成度远高于SRAM。

(3)只读存储器(简称ROM):信息被事先固化到存储器内,可以长期保留,断电也不丢失。

它在正常运行时,只能读出信息,而不能写入。

只读存储器有固定ROM和可编程ROM两类。

半导体存储器(课件)

半导体存储器(课件)

存储矩阵为4×4位,采用 A1 1 A1
单地址译码方式,输出缓冲器 A0
由四个三态反相器构成。
1 A0
无论W0~W3中哪根线上出现 高电平信号,存储矩阵中与高 电平字线相连的MOS管导通, 位线出现低电平,其它情况位 线均位高电平。
地 址 地址译码输出 数 据
A1 A0
00 01 10 11
W3 W2 W1 W0
CS
R /W
(b)
图8.3.5 1K×8位RAM的逻辑结构框图和逻辑符号图
(a) 逻辑结构框图
(b) 逻辑符号图
25
8.3.3动态随机存储器 DRAM利用MOS管栅极寄生电容的电荷存储效应来存储数 据,由于漏电流的存在,加上本身电容量很小,栅极寄生电容 的电荷流失会造成保存数据的丢失,因此需要有刷新电路及时 给电容补充电荷。
芯片处于不工作状态。
20
I/O
G1
D
G2
D
EN EN
G4
&
R/W
G3
G5
&
EN
CS
图8.3.2 典型的读/写控制电路
(2) CS 0 时,芯片选通;R /W 1 ,则G5输出高电平,G3
打开,G1、G2仍处于高阻状态,被选中单元的数据D经G3出现在
I/O端,存储器执行读操作;R /W 0,则G4输出高电平,G1、G2
0 00 1 0 01 0 0 10 0 1 00 0
D3’ D2’ D1’ D0’
0 11 0 0 10 1 1 00 1 0 01 0
W0
W1
VDD
EN
数据
D3 D2 D1 D0 1 00 1 1 01 0 0 11 0 1 10 1

《半导体存储器》课件

《半导体存储器》课件
04
制造设备
用于将掺杂剂引入硅片。
用于在硅片上生长单晶层 。
掺杂设备 外延生长设备
用于切割硅片。
晶圆切割机
制造设备
光刻机
用于将电路图形转移到硅片上。
刻蚀机
用于刻蚀硅片表面。
镀膜与去胶设备
用于在硅片表面形成金属层或介质层,并去 除光刻胶。
测试与封装设备
用于对芯片进行电气性能测试和封装成最终 产品。
分类
根据存储方式,半导体存储器可分为随机存取存储器(RAM)和只读存储器( ROM)。
历史与发展
1 2 3
早期阶段
20世纪50年代,半导体存储器开始出现,以晶 体管为基础。
发展阶段
随着技术的进步,20世纪70年代出现了动态随 机存取存储器(DRAM)和静态随机存取存储器 (SRAM)。
当前状况
现代半导体存储器已经广泛应用于计算机、移动 设备、数据中心等领域。
物联网和边缘计算
在物联网和边缘计算领域应用半导体存储器,实现高 效的数据存储和传输。
CHAPTER
05
案例分析:不同类型半导体存 储器的应用场景
DRAM的应用场景
01
DRAM(动态随机存取存储器)是一种常用的半导体存储器,广泛应 用于计算机和服务器等领域。
02
由于其高速读写性能和低成本,DRAM被用作主内存,为CPU提供快 速的数据存取。
外延生长
在硅片上生长一层或多 层所需材料的单晶层。
掺杂
通过扩散或离子注入等 方法,将掺杂剂引入硅 片。
制造流程
01
光刻
利用光刻胶将电路图形转移到硅片 上。
镀膜与去胶
在硅片表面形成金属层或介质层, 并去除光刻胶。

第2章 存储系统(第08讲)

第2章 存储系统(第08讲)

计算机组成与系统结构
24
2.1.2 存储系统的分层结构
分层结构 局部性原理是存储系统层次结构技术可行性的基础. 一般:CPU频繁访问的信息 CPU不频繁访问的信息 高速存储器中 低速存储器中
计算机组成与系统结构
25
例: 二级存储器系统,第一级容量为1KB,访问时间1S; 第二级容量为1MB,访问时间10S。 CPU先访问第一级,如不在,就由第二级送至第一级.
计算机组成与系统结构
18
2.1 分级存储体系的形成
2.1.2 存储系统的分层结构

1.计算机应用对存储器要求的矛盾:
SC(价), C(价) C S
计算机组成与系统结构
19
2.1.2 存储系统的分层结构

用户要求存储器的容量大,速度快.为解决容量、 速度、价格的矛盾,有效的措施是实现分级存储.
当r=100,要使e>0.9 当r=2, 要使e>0.9 H>0.998 H只需>0.889
注意:相邻两级存储器的速度差异不能太大,在 cache— 主存系统中,取r=5-7为好.
在主存—磁盘层次中, r= 104, 这很不理想,其间有 很大空档,从r不能太大的观点出发,最好应有一种S-CC介于其间的存储器作为中间层次. 29 计算机组成与系统结构
计算机组成与系统结构
22
2.1.2 存储系统的分层结构

2.存储器访问的局部性 它是存储器层次的设计思想,也是实现存储 器层次结构的先决条件。
主存
主存
空间局部性
计算机组成与系统结构
时间局部性
23
2.1.2 存储系统的分层结构

实现存储系统的层次结构的先决条件(基础): 存储器访问的局部性,即:时间局部性和空 间局部性。 时间上的局部性指的是当前正在使用的信息 很可能是后面立刻还要使用的信息。 空间上的局部性是指连续使用到的信息很可 能在存储空间上相邻或者相近。

半导体存储器.ppt

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数字电子技术
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三. 可擦除的可编程ROM
EPROM E2PROM 总体结构与掩模ROM一样,但存储单元不同 EPROM (erasable programmable ROM)
叠栅注入MOS管(stacked-gate injection metal-oxidesemiconductor,SIMOS管)
!输入/输出引脚数目有限
输入/出 控制
数字电子技术
输 入
/

I/O


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二、分类
1、从存/取功能分: 掩模ROM
①只读存储器
可 编 程ROM 可 擦 除 的 可 编 程EPROM
(Read-Only-Memory)
②随机读/写
静 态RAM 动 态RAM
(Random-Access-Memory)
漏 源 间 形 成 导 电 沟 道 ,沟 道 内 电 子 获 得 动 能 ,


到G

c








吸引


部 分 电 子 穿 过SiO2到 达Gf , 形 成 注 入 电 荷
“ 擦 除 ” : 紫 外 线 穿 过EPROM芯 片 上 的 石 英 窗 口
照 射 到 叠 栅 上 , 使Gf 周 围 的 二 氧 化 硅 绝 缘 层产 生 少 量 的 空 穴 和 电 子 对 ,形 成 导 电 通 道 , 从 而 使Gf 上 的电子回到衬底中。
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一.固定ROM(掩膜R容量为16×8的ROM

(1)存储矩阵:16个字排成矩阵 址

数字电子技术(王连英)5-9章 (4)

数字电子技术(王连英)5-9章 (4)

第8章 半导体存储器 图8.2.3 16×4位RAM
第8章 半导体存储器
8.2.2 SRAM与DRAM 1. SRAM 静态存储单元是在静态触发器的基础上附加门控管而构成
的。 它是靠触发器的自保持功能来存储数据的。 SRAM的优点是: 工作稳定、 工作速度快, 使用方便,
不需要附加再生电路; 缺点是: 功耗较大, 集成度较低, 成本较高。 SRAM一般用在小容量存储系统中。
第8章 半导体存储器 图8.2.2 双译码器RAM的结构框图
第8章 半导体存储器
图8.2.3所示的是一个16×4位的RAM。 当CS=0时, RAM芯片被选中, 处于工作状态。 设 A3A2A1A0=0011, 行地址译码线X3有效, 列地址译码器Y0有效, 即共同选中了单元[3, 0]。 若R/W=1, 执行读操作, 将 存储单元[3, 0]中的数据送到I/O数据总线上。 若R/W=0, 执行写操作, 将I/O数据总线上的数据写入存储单元[3, 0] 中。 当CS=1时, 片选无效, 不能对RAM进行读/写操作, 所 有I/O端均为高阻状态。
第8章 半导体存储器
2. DRAM 动态存储单元是利用MOS管栅极电容可以存储电荷的原理 制成的, 其结构比较简单。 DRAM的优点是: 集成度高、 成本低、 功耗低; 缺点是: 由于MOS管栅极电容上的电荷会因漏电而释放, 即使在电源正 常接通情况下, 也会发生信息丢失, 因此在使用DRAM时必须 附加再生电路, 不断地刷新电容器上的电荷, 给使用带来麻 烦。 DRAM一般用于大容量存储系统中。
第8章 半导体存储器 4. 电擦除可改写ROM(E2PROM E2PROM是一种可在线电擦除和编程的只读存储器, 其存 储单元采用了浮栅隧道氧化层MOS管。 它既有RAM在线可读可 改写的特点, 又具有非易失性存储器ROM在掉电后仍然能保持 所存数据的优点。 写入的数据在常温下至少可以保存10年, 擦除/写入次数为1万次~10万次, 而且既可整片擦除, 也可 按字节擦除。 相比EPROM, 其擦除、 写入速度更快, 操作 更加简单方便。

半导体存储器

半导体存储器

半导体存储器1.几个基本概念1.数的本质和物理现象。

我们知道,计算机可以进行数学运算,这可令我们非常的难以理解,计算机吗,我们虽不了解它的组成,但它总只是一些电子元器件,怎么可以进行数学运算呢?我们做数学题如37+45是这样做的,先在纸上写37,然后在下面写45,然后大脑运算,最后写出结果,运算的原材料:37、45和结果:82都是写在纸上的,计算机中又是放在什么地方呢?为了解决这个问题,先让我们做一个实验:这里有一盏灯,我们知道灯要么亮,要么不亮,就有两种状态,我们可以用’0’和’1’来代替这两种状态,规定亮为’1’,不亮为’0’。

现在放上两盏灯,一共有几种状态呢?我们列表来看一下:请大家自已写上3盏灯的情况000 001 010 011 100 101 110 111我们来看,这个000,001,101 不就是我们学过的的二进制数吗?本来,灯的亮和灭只是一种物理现象,可当我们把它们按一按的顺序排更好后,灯的亮和灭就代表了数字了。

让我们再抽象一步,灯为什么会亮呢?看电路1,是因为输出电路输出高电平,给灯通了电。

因此,灯亮和灭就可以用电路的输出是高电平还是低电平来替代了。

这样,数字就和电平的高、低联系上了。

(请想一下,我们还看到过什么样的类似的例子呢?(海军之)灯语、旗语,电报,甚至红、绿灯)2.位的含义:通过上面的实验我们已经知道:一盏灯亮或者说一根线的电平的高低,可以代表两种状态:0和1。

实际上这就是一个二进制位,因此我们就把一根线称之为一“位”,用BIT 表示。

3.字节的含义:一根线可以表于0和1,两根线可以表达00,01,10,11四种状态,也就是可以表于0到3,而三根可以表达0-7,计算机中通常用8根线放在一起,同时计数,就可以表过到0-255一共256种状态。

这8根线或者8位就称之为一个字节(BYTE)。

不要问我为什么是8根而不是其它数,因为我也不知道。

(计算机世界是一个人造的世界,不是自然界,很多事情你无法问为什么,只能说:它是一种规定,大家在以后的学习过程中也要注意这个问题)1.存储器的工作原理:1、存储器构造存储器就是用来存放数据的地方。

半导体储存器

半导体储存器

第5章半导体存储器存储器是计算机记忆或暂存数据的部件,计算机中的全部信息,包括原始的输入数据。

经过初步加工的中间数据以及最后处理完成的有用信息都存放在存储器中。

而且,控制计算机运行的各种程序,即规定对输入数据如何进行加工处理的一系列指令也都存放在存储器中。

通常说的存储器分为内存储器(主存)和外存储器(辅存)两种,为了解决CPU、内存、外存之间速度不一致(数量级上的差别)的问题,目前的大部分微型计算机系统中存储器系统采用多级分级结构,微型计算机系统中存储信息的场所有CPU内的寄存器、高速缓存(Cache)、内存储器和外存储器,其存储层次如图5.1所示,本章主要阐述主存储器。

5.1 概述主存储器也称内存,位于系统主机的内部,CPU可以直接对其中的单元进行读/写操作。

主存一般是采用半导体集成电路工艺制成的存储数据信息的半导体电子器件,简称半导体存储器。

这种存储器的主要优点是:①存储单元阵列和主要外围逻辑电路制作在同一个硅芯片上,输出和输入电平可以做到同片外的电路兼容和匹配。

这可使计算机的运算和控制与存储两大部分之间的接口大为简化;②数据的存入和读取速度比磁性存储器约快三个数量级或更多,可大大提高计算机运算速度;③利用大容量半导体存储器使存储体的体积和成本大大缩小和下降。

因此,在计算机高速存储方面,半导体存储器已全部替代了过去的磁性存储器。

用作大规模集成电路的半导体存储器是1970年前后开始生产的1千位动态随机存储器。

随着工艺技术的改进,到1984年这类产品就已达到每片1兆位的存储容量。

图5.1 计算机系统存储系统层次主存储器是按地址存取信息的。

一般用随机存储器作主存储器。

存取数据的时间与数据所在存储单元的地址无关。

主存储器工作时,首先由中央处理器将地址送至存储器的地址寄存器并译码,同时接收由中央处理器发出“读”或“写”命令。

于是,存储器就按照地址译码器的输出确定相应的存储单元。

如果是读命令,则将存储单元的代码读出并送往代码缓冲寄存器;如果是写命令,代码缓冲寄存器接收新代码,接着写入存储体。

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(3)工作
Z:加高电平, T5、T6 导通,选中该单元。 写入:在W、W上分别加 高、低电平,写1/0。
W T5 T3
Vcc T4 T6
W
T1
T2 Z
读出:根据W、W上有无 电流,读1/0。
(4)保持
Z:加低电平, T5、T6截止,该单元未选中,保持原状态 只要电源正常,保证向导通管提供电流,便能维持一管导 通,另一管截止的状态不变,∴称静态。
DIN
写选择 读选择
A´ 触发器非端
(1) 静态 RAM 基本电路的 读 操作
位线A
´
T5

T1 ~ T4
行地址选择
A
T6
位线A
行选 列选
T5、T6 开 T7、T8 开 T6 读放 T8 DOUT
T7
列地址选择
T8
VA
读放 写放大器 写放大器
DOUT
DIN
写选择
读选择
(2) 静态 SRAM 基本电路的 写 操作 位线A 位线A ´ A´ A T ~ T
(1)单译码方式
A1 A2 字线1 字线2
地 址 译 码 器
字线2n
存 储 体
An
位线1
2
k
读/写
读/写控制电路
片选
D1
D2
Dk
例如,地址输入线n条,经地址译码器译码,可译出2n 个状态, 分别对应2n 条字线,某一字线被选中时,同一行中的各位b1bk就都被选中,由读写电路对各位实施读出或写入操作
静态单元是非破坏性读出,读出后不需重写。
2、 静态 RAM 基本电路
位线A
´
T5
存储单元 A A´ T1 ~ T4
行地址选择
位线A
T 1 ~ T 4 触发器 T 5 、T 6 行开关
T 7 、T 8 列开关 T 7 、T 8 一列共用
T6
T7
列地址选择
T8
写放大器
写放大器
读放 D OUT
A 触发器原端
控制端:
片选CS
= 0 选中芯片 = 1 未选中芯片 电源、地
写使能 WE = 0 写 = 1 读
例.DRAM芯片2164 (64K×1位) 外特性:
GND CAS Do A6 16 1
A3 A4 A5
A7 9 8
2164(64K×1)
空闲/刷新 Di WE RAS A0 A2 A1 Vcc
分时复用,提供16位地址。 地址端: A7~A0 数据端: Di(入) Do(出) = 0 写 写使能WE 高8位地址 = 1 读 控制端: 行地址选通RAS :=0时A7~A0为行地址 片选 列地址选通CAS :=0时A7~A0为列地址 电源、地 低8位地址 1脚未用,或在新型号中用于片内自动刷新。
存储芯片
芯片的封装:存储体,地址译码器和读写线路封装成 一个芯片,芯片外部有地址引脚、数据引脚和控制信 号引脚等。 例.SRAM芯片2114 Vcc A7 A8 A9 D0 D1 D2 D3 WE (1K×4位)
外特性:
地址端: A9~A0 数据端: D3~D0
18
1
2114(1K×4)
10
9
A6 A5 A4 A3 A0 A1 A2 CS GND
第8讲
半导体存储器
一、 存储器的构成
二、 存储器与 CPU 的连接
一、存储器的构成
半导体存储器由存储体、地址寄存器、地址译码驱 动电路、读/写控制逻辑、数据寄存器、读/写驱动器 等六个部分组成,通过系统数据总线、地址总线和 控制总线与CPU相连,如图所示。
1.存储体
存储体是存储器的核心,是存储单元的集合体。每 个存储单元又由若干个基本存储电路(或称存储元、 记忆单元)组成,按记忆单元在运行中能否长时间 保存信息分为静态存储器(SRAM)和动态存储器 (DRAM)。 静态RAM是利用双稳态触发器来记忆信息的。只 要不断电,信息不会丢失,功耗较大,速度快,作Cache。 DRAM依靠电容存储电荷的原理存储信息。使用 时需要不断给电容充电。功耗较小,容量大,速度较快, 作主存。
W ( 位 线)
Z(字线) T Cs
VDD
读出后需重写,∴称动态。
DRAM的刷新
为了维持MOS型动态记忆单元存储的信 息,每隔一定时间必须对存储体中的所有记 忆单元的栅极电容补充电荷,这个过程就是 刷新。 从上一次对整个存储器刷新结束到下一 次对整个存储器全部刷新一遍为止,这一时 间间隔称为刷新周期。
集中式
3)常用的刷新方式 分散式
异步式
最大刷新间隔
2ms。
在此期间,必须对所有动态单元刷新一遍。 刷新方法 按行读。仅需要行地址,不需要列地址。 刷新对CPU是透明的 刷新一行所用的时间 刷新周期(存取周期) 刷新一块芯片所需的刷新周期数由芯片矩阵 的行数决定。
刷新方式 (1)集中刷新 2ms内集中安排所有刷新周期。

双译码结构 又称重合法,所对应的存储器是位结构的。 可以减少选择线的数目。地址译码器分成X 向和Y向两个译码器。若每一方向有n/2个输 入端,它可以译出2n/2个输出状态,那么两 个译码器交叉译码的结果,共可译出 2n/2×2n/2=2n个输出状态,其中n为地址输 入线的数目。但此时译码输出线却只有 2×2n/2根。例如n=12,双译码输出状态为 212=4096个,而译码线仅只有2×26=128根。
1 4
T5
行地址选择
T6
行选 列选
T5、T6 开 T7、T8 开
两个写放
T7
列地址选择 写放 写放
T8
DIN
读放
DOUT
写选择 读选择
DIN
(左) DIN (右) DIN
反相
T7 T8
T5 T6
A´ A
DRAM存储器
DRAM依靠电容存储电荷的原理存储信息。
单管动态存储元 (1)组成
Cs:记忆单元
T:控制门管 Z:字线 W:位线 “0”:Cs无电荷,电平低 W ( 位 线) Z(字线)
SRAM存储器
1、六管静态MOS记忆单元电路
(1)组成 T1、T3:MOS反相器 T2、T4:MOS反相器 W
T5 T3
Vcc
T4 T2 Z T6
W
触发器 T5、T6:控制门管 Z:字线,选择存储单元
T1
位线,完成读/写操作 W、 W: (2)定义 “1”:T1导通,T2截止 “0”:T1截止,T2导通
(3) 读/写线的连接 (4) 片选线的连接

连接方法
低位地址线、数据线、电源线(不要求)直接相
连 高位地址线 全译码方式--高位地址线经译码后产生片选信 号CS#; 线译码方式--除片内寻址外的高位地址线直接 分别连至各个芯片的片选端CS#。 控制总线组合形成读/写控制线WE#或WE#/OE#
存储校验线路 主存一般采用海明校验码纠正数据出错。
二、 存储器与 CPU 的连接
中央处理器对存储器进行读/写操作,首先由地 址总线给出地址信号,然后要发出有关进行读操作或 写操作的控制信号,最后在数据总线上进行信息交流。 因此,存储器同中央处理器连接时,要完成 :
(1) 地址线的连接
(2) 数据线的连接
R/W R/W
50ns
刷新 刷新 2ms 死区
用在实时要 求不高的场 合。
(2)分散刷新 各刷新周期分散安排在存取周期中。
R/W 刷新 R/W 刷新
100ns
用在低速系 统中。
(3)异步刷新 各刷新周期分散安排在2ms内。 每隔一段时间刷新一行。
例. 2ms ≈15.6 微秒 每隔15.6微秒提一次刷新请求, 128行 刷新一行;2毫秒内刷新完所有 行。 R/W R/W 刷新 R/W R/W 刷新 R/W 15.6 微秒 15.6 微秒 15.6 微秒 刷新请求 刷新请求 (DMA请求) (DMA请求)
实现片选的方法可分为三种:即全译码法、部 分译码法和线选法。所以存储单元的地址由片内地 址信号线和片选信号线的状态共同决定。 (1)全地址译码方式 除直接与存储器芯片相连的地址线外,所有剩余的 (2)部分地址译码方式 高位地址线都被连接到地址译码器,参加地址译码, (3)线选译码方式 其译码输出作为存储器芯片的片选信号。 部分地址译码方式也称为局部地址译码方式。其方 法是某些高位地址线被省略而不参加地址译码。简 优点:每一个存储单元只对应内存空间的一个地址 线选法是指用存储器芯片片内寻址以外的系统的高 化了地址译码电路,但地址空间有重叠。 即抵制无重叠。 位地址线中的某一条,作为存储器芯片的片选控制 缺点:译码电路复杂,费硬件。 优点:简化了地址译码电路,省硬件。 信号。 缺点:地址空间有重叠,浪费了地址空间。 优点:选择芯片不需要外加逻辑电路,译码线路简单 缺点:地址重叠区域多,不能充分利用系统的存储器 空间 。
字线
高,T 导通, 低,T 截止。
T
位 线
- -

++ VDD
CS
写 0 :使位线为高电平, 若CS 上有电荷,则 CS 通过 T 放电; 把 0 信号写入了电容 CS 中。 若CS 上无电荷,则 CS 无充放电动作, 保持原记忆的 0 信号不变。
字线
高,T 导通,
T
位 线
--
++


CS
VDD
T
Cs
VDD
(2)定义
“1”:Cs有电荷,电平高
(3)工作 T
位 线
字线
高,T 导通, 低,T 截止。
- -

++ VDD
CS
写 1 :使位线为低电平, 若CS 上无电荷,则 VDD 向 CS 充电;
把 1 信号写入了电容 CS 中。 若CS 上有电荷,则 CS 的电荷不变, 保持原记忆的 1 信号不变。
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