第十一章 透射显微术电子像衬度原理

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电子显微图像衬度的原理

电子显微图像衬度的原理

电子显微图像衬度的原理
电子显微图像的衬度(pronounced Chang-du)是指影像中各个部分的对比程度。

影像中的对比度影响了我们对物体细节的观察和分析。

电子显微镜图像的衬度是通过调整电子束的衬度来实现的。

电子束是在显微镜中形成影像的关键部分。

电子束在其传播过程中会受到物质的散射和吸收。

由于样品的特性不同,电子束在物质中的传播路径和散射不同,这些差异会影响电子束的“亮度”。

衬度控制器的作用是调整电子束的出入角度,以便通过样品的散射和吸收获得所需亮度的电子束照明样品表面。

具有高衬度的样品区域看起来会比较亮,而具有低衬度的区域看起来就比较暗,从而形成明暗对比度。

因此,电子显微图像的衬度和样品对电子束的散射和吸收有关。

衬度的调整是通过控制电子束的出入角度来实现的,不同区域的亮度差异可以形成图像中的明暗对比度。

透射电子显微镜原理及结构课件

透射电子显微镜原理及结构课件

观察与记录系统
荧光屏
将投影镜输出的像投影在荧光屏 上,便于观察。
摄像机
将荧光屏上的图像拍摄下来,记录 并传输至计算机进行后续处理。
图像处理软件
对摄像机拍摄的图像进行数字化处 理,如调整亮度、对比度、色彩平 衡等,以便更好地观察和分析样品 结构。
04
透射电子显微镜的操作 与维护
透射电镜的操作步骤
衍射是指波遇到障碍物或孔洞时,会沿着障碍物边缘弯曲传播的现象。 在透射电子显微镜中,电子波的衍射使得电子能够散射并形成明暗相间 的斑点或条纹。
电子的干涉与衍射
当电子通过透镜系统时,会受到电场和磁场的作用,从而改 变它们的波函数。透镜系统的设计使得电子在到达样品时具 有相同的相位,从而形成干涉现象。干涉使得电子在样品上 散射并重新聚焦,形成明暗相间的图像。
放置样品
将需要观察的样品放置在电镜 的样品台上,确保样品稳定不 动。
调节亮度与对比度
根据观察的需要,适当调节电 镜的亮度与对比度旋钮,使图 像更加清晰。
打开电源
首先打开透射电镜的电源开关, 确保电源正常。
调整焦距
通过调节焦距旋钮,使电镜的 物镜逐渐接近样品,直到清晰 看到样品的图像。
观察与记录
观察并记录样品的图像,可以 通过电镜的摄像系统或记录仪 进行记录。
衍射是指电子在遇到样品时,会沿着样品的晶格结构散射。 散射的角度取决于样品的晶格常数和电子的波长。通过测量 衍射斑点的位置和强度,可以获得样品的晶体结构和相信息 。
透射电镜成像原理
透射电镜的成像原理是将电子束通过 样品,然后使用透镜系统将散射的电 子聚焦并成像在荧光屏幕上。由于电 子的波长比可见光的波长要短得多, 因此透射电镜能够获得比光学显微镜 更高的分辨率。

透射电子显微镜成像原理

透射电子显微镜成像原理
衍射衬度理论简称为衍衬理论
运动学理论:不考虑入射波与衍射波 的相互作用
衍衬理论
动力学理论:考虑入射波与衍射波的 相互作用
三、完整晶体中衍衬像运动学理论
对于晶体,衍衬像来源于相干散射,即来源于衍射波
1、有一个晶面严格满足布 拉格条件:双束条件
双束动力学近似
2、入射波与任何晶面都不 满足布拉格条件,假设:
(s=常数,t变化)
等厚条纹
(s=常数,t变化)
试样斜面和锥形孔产生等厚条纹示意图
等厚条纹
(s=常数,t变化)
等厚条纹
(s=常数,t变化)
等倾干涉
( t =常数, s 变化)
四、不完整晶体中衍衬像运动学理论
1、不完整晶体衍射强度公式
所谓不完成晶体是指在完整晶体中引入诸如位 错、层错、空位集聚引起的点阵崩塌、第二相和 晶粒边界等缺陷。
明场像
暗场像
晶体中的取向:多晶、析出物、缺欠
多晶
析出物
共格
位错
半共格
非共格
二、衍衬像:明场像与暗场像
明场像的成像
明场像:采用物镜光栏挡 住所有的衍射线,只让透 射光束通过的成像。
2d sin
透过取向位置满足布拉格 关系的晶粒的电子束强度 弱
透过取向位置不满足布拉 格关系的晶粒的电子束强 度强
衍射衬度理论
厚度均匀的单相多晶金属薄膜样品:
内有若干个晶粒,它们没有厚度差,同时又 足够的薄,以致可不考虑吸收效应,两者的 平均原子序数相同,唯一差别在于它们的晶 体位向不同。
晶体的衍衬像:由于晶体的取向不同,
000
导致各个晶粒对电子的衍射能力不同
所产生的衬度变化。
如何解释衬度的变化?

透射电子显微镜的工作原理

透射电子显微镜的工作原理

透射电子显微镜的工作原理
透射电子显微镜是一种利用电子束来观察样品内部结构的仪器。

它的工作原理基于电子的波粒二象性和探测电子与样品的相互作用。

1. 电子源:透射电子显微镜的关键部件是电子源,通常使用热阴极电子枪作为电子源。

热阴极通过加热产生的电子被电场加速形成电子束。

2. 电子加速:电子束通过一系列电场透镜和加速电场,以加速电子的速度。

通常,加速电压可达到数十至数百千伏,使电子的动能足够高,以达到穿透样品的要求。

3. 样品制备:为了观察样品的内部结构,需要将样品制备成非晶质薄片,通常使用切片机或离心切片法将样品切割成纳米至微米厚度的薄片。

然后,将薄片置于透射电子显微镜的样品台上。

4. 电子束透射:加速的电子束通过样品时,会与样品内的原子发生相互作用。

其中,部分电子会被散射,部分会被吸收。

透射电子会穿过样品并保持其原有的信息。

5. 透射电子检测:透射电子进入具有电磁透镜功能的物镜透镜,物镜透镜根据透射电子的波动性将其聚焦。

透射电子经过物镜透镜后进入投影平面,通过透射电子探测器的探测,最终形成透射电子显微图像。

6. 图像处理与观察:通过对透射电子显微图像进行图像增强,噪声滤波等处理,可以进一步恢复样品的细节信息。

最后,通过观察透射电子显微图像,可以获得关于样品内部结构和原子排列的信息。

总之,透射电子显微镜利用电子的波粒二象性以及电子与样品的相互作用,通过探测透射电子形成样品内部结构的显微图像。

这种显微镜技术在材料科学、纳米科学等领域有着重要的应用价值。

11-透射电镜图象原理与解释

11-透射电镜图象原理与解释
School of Material Science and Engneering
Teacher:Ji-bing Sun
21
3)采用双束近似处理方法,即所谓的“双光束条件”
① 除透射束外,只有一束较强的衍射束参与成象,忽略其它衍射束,故 称双光成象。 ② 强衍射束相对于入射束而言仍然是很弱的。 这在入射电子束波长较弱以及晶体试样较薄的情况下是合适的。 因为波长短,球面半径1/λ大,垂直于入射束方向的反射球面可看作 平面。加上薄晶的“倒易杆”效应,因此,试样虽然处于任意方位,仍 然可以在不严格满足布拉格反射条件下与反射球相交而形成衍射斑点。 由于强衍射束比入射束弱得多,因此认为这一衍射束不是完全处于准 确的布拉格反射位置,而存在一个偏离矢量s,s表示倒易点偏离反射 球的程度,或反映偏离布拉格角2θ的程度。这就可以保证衍射束和 透射束之间没有能量交换 。 ③只有一束衍射束,则可以认为衍射束的强度 Ig和透射束的强度 IT之间 有互补关系,即 I0= Ig+ IT
School of Material Science and Engneering
Teacher:Ji-bing Sun
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消光距离的值
“消光”指的是尽管满足衍射条件,但由于动力学互相作用而 在晶体内一定深度处衍射波(或透射波)的强度实际为零。 根据费(菲)涅尔衍射理论推导得到:
式中 d —晶面间距; n —原子面上单位面积内所含晶胞数。 1/n就是一个晶胞所占有的面积, Fg—结构因子
Teacher:Ji-bing Sun
6
第二节
衍射衬度形成机理
衍射衬度是来源于晶体试样各部分满足布 拉格反射条件不同和结构振幅的差异。 薄晶体样品受到电子束照射时,如果晶 体中所有晶面都和布拉格条件有很大的偏 差,那么入射电子束就可以全部透过样 品,而无衍射束产生。此时透射束的强度 可认为和入射电子束的强度相等,若用IT 代表透射电子束的强度,I0代表入射电子 束的强度,则IT=I0。这时,透射束通过 电磁透镜组在荧光屏上成像,被放大的物 象亮度很高。 或不加物镜光阑也有同样的效果。只有衍 射指数较大的衍射束被镜筒挡镜而成像。

透射电镜 衬度原理及应用 pdf.

透射电镜 衬度原理及应用 pdf.
πe Z n πrn 2 2 rn U
2 2 2
图4.17 原子对入射电子散射示意图
同济大学《材料研究方法》精品课程 4/28
卢瑟福(Rutherford)模型
同样,当一个电子与一个孤立的核外电子作用时,也发生类似 的偏转,散射角为:
e e reU
相应的一个核外电子的散射截面为:
2d hkl sin n
同济大学《材料研究方法》精品课程
10 /28 10/
在TEM中,常用的电子枪加速电压为80~100kV,λ 2d,
sin 2d 1。这表明,电子衍射的衍射角非常小,这与x射线衍射
的情况不同。
图4.22 普通电子衍射装置示意图
同济大学《材料研究方法》精品课程 11 /28 11/
e πre
单个原子的散射截面为:
0 n Z e
2
2e 2
e U 2
πe 2 Z
2
2
πe 2 Z 2
n U
2
2
e U 2
同济大学《材料研究方法》精品课程
5/28
透射电镜小孔径角成像
为了确保透射电镜的分辨本领,物 镜的孔径半角必须很小,即采用小 孔径角成像。一般是在物镜的背焦 平面上放一称为物镜光阑的小孔径 光阑来达到这个目的。由于物镜放 大倍数较大,其物平面接近焦点, 若物镜光阑的直径为D,则物镜孔 径半角
D 2f
图4.18 小孔径角成像
同济大学《材料研究方法》精品课程 6/28
质厚衬度原理
N A 0 dn dt n M
积分得
N A 0 t N N 0 exp M
式中N0为入射电子总数,N为最后参与成像的电子数。 当其它条件相同时,像的质量决定于衬度,即像中各部分的亮度 差异。

透射电子显微镜 原理

透射电子显微镜 原理

透射电子显微镜原理透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope, 简称TEM)是一种利用电子束传递样品来获得细微结构的高分辨率显微镜。

它的原理是通过在真空中加速电子,将电子束通过光学透镜系统聚焦到样品上,并通过样品的透射情况来形成图像。

TEM的关键组件包括电子源、电子透镜系统、样品台、探测器和成像系统。

电子源产生的电子束经过一系列透镜系统(包括准直透镜、磁场透镜、投影透镜等),被聚焦到样品上。

样品位于一个特殊的样品台上,可以微调样品的位置和角度。

透射电子束通过样品后,部分电子被散射、散射和吸收。

散射电子和透射电子被探测器捕捉,并转化为电信号。

TEM的成像原理基于透射电子束与样品交互作用的差异。

样品内不同的区域对电子束有不同的散射、吸收和透射能力,导致不同的强度对比。

探测器会测量透射电子的能量和强度变化,并将其转换为光学图像。

最终,通过调节透射电子束的聚焦和探测参数,可以得到具有高分辨率的样品图像。

TEM具有极高的分辨率和能够观察样品内部结构的能力。

与光学显微镜相比,TEM利用电子束的波长远小于光的波长,可以克服光学显微镜的衍射极限。

因此,TEM可以观察更小的结构和更高的放大倍数。

此外,TEM还可以通过选定区域电子衍射(Selected Area Electron Diffraction, SAED)技术来研究晶体的晶格结构和材料的晶体学性质。

综上所述,透射电子显微镜通过控制电子束的聚焦和探测参数,利用透射电子与样品相互作用的差异,获得高分辨率的样品图像。

它是研究材料科学和纳米技术的重要工具。

透射电镜基本成像操作及像衬度

透射电镜基本成像操作及像衬度

(d) 准晶
衍射衬度
定义:对晶体样品,电子将发生相干散射即衍射。所以,在晶体样品的成像 过程中,起决定作用的是晶体对电子的衍射。由样品各处衍射束强度的差异 形成的衬度称为衍射衬度。
衍射强度影响因素:晶体取向和结构振幅。对没有成分差异的单相材料,衍 射衬度是由样品各处满足布拉格条件程度的差异造成的。
1
明场成像
成像操作
2
暗场成像
3
中心暗场成像
5
1.明场成像和暗场成像
利用投射到荧光屏上的选区衍射谱可以进行透射电镜的两种最基本的成像操作。
晶体样品或非晶体样品,其选区衍射谱上必存在一个由直射电子束形成的 中心亮斑以及一些散射电子。
我们可以选直射电子也可以选部分散射电子来成像。这种成像电子的选择 是通过在物镜背焦面上插入物镜光栏来实现的。
图1 透射电镜像衬度分类
8
2.像衬度
图1 透射电镜像衬度分类
1.相位衬度 当透射束和至少一束衍射束同时通过物镜光栏参与成像时,由于透射束与衍 射束的相互干涉,形成一种反映晶体点阵周期性的条纹像和结构像,这种 像衬的形成是透射束和衍射束相位相干的结果,故称相位衬度。
2. 振幅衬度 振幅衬度是由于入射电子通过试样时,与试样内原子发生相互作用而发 生振幅的变化,引起反差。振幅衬度主要有质厚衬度和衍射衬度两种。
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11透射电镜总是采用小孔径角成像在图918所示的明场成像即在垂直入射并使光栏孔置于光轴位置的成像条件下偏离光轴一定程度的散射电子将被物镜光栏挡掉使落在像平面上相应区域的电子数目减少强度较小原子序数较高或样品较厚的区域在荧光屏上显示为较暗区域
透射电镜基本成像操作及像衬度
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成像操作
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=
1 = 0.245 2d 200
Å-1,由图查出
f(e)=5.41Å,则Fg=4f(e)=21.64Å。
(4)求
ξ g : 当V=100kV时,λ=0.037 Å
πVC 3.14 × 68.36 = = 268 Å λFg 0.037 × 21.64
ξ g = ξ 200 =
以上算出的消光距离 ξ g 仅适用于s=0的情况,原 则上 ξ g 是动力学理论中的一个物理量,对有限 的s,需要用有效消光距离 ξ geff (小于 替 ξg。
1.等厚消光条纹(衍射强度随样品厚度的变化)
晶体保持确定取向,s保持不变
sin 2 ( πst ) Ig = ( sξ g ) 2
a 当t=1/s;2/s;3/s……n/s Ig=0 b 当t=1/2s;3/2s;5/2s……2n+1/2s
1
Ig
Ig=1/(sζg
)2
( sξ g ) 2
楔形试样边缘
振幅衬度
钢的衍射衬度像
相位衬度: 当试样很薄(10纳米以下),试样相邻晶柱出射的透射振 幅的差异不足以区分相邻的两个像点的程度。这时得不到振幅衬度。 但我们可以利用电子束在试样出口表面上相位不一致,使相位差转换 成强度差而形成的衬度,这种程度称为相位衬度
A:高分辨像,B:原子序数衬度(Z contrast)像
11.2 衍射衬度
由于晶体试样满足布拉格反射条件程度不同及结构振幅 不同而形成衍射强度差异而导致的衬度。 设两取相不同晶粒 A 和 B , A 不满足布拉格衍射条件,强 度为I0的入射束穿过试样,A不产生衍射,透射束与衍射束 强度相同,即IA=I0 B 满足布拉格衍射条件,产生衍射,衍射束强度为 Ihkl , 透射束强度IB=I0-Ihkl, 让透射束通过物镜光阑,将衍射束挡掉,则在荧光屏上 ,A晶粒比B晶粒亮,明场(Bright Field)像。 用物镜光阑孔套某hkl衍射斑,让对应与衍射点hkl的电子 束Ihkl 通过,挡掉透射束,B比A亮,暗场(Dark Field)像。 明场像的衬度特征是跟暗场像互补的,即某个部分在明 场像中是亮的,则它在暗场像中是暗的, 反之亦然。
动力学
理论推导繁琐,物 理模型抽象
11.3 电子衍衬像的运动学理论
基本假设:
采用双束近似处理方法(一束是透射束,一束是衍射 束)。假定当电子通过晶体时,只存在一束衍射束且 其反射平面接近但不完全处于准确的布拉格位置,即 偏离矢量S≠0。
目的:
a. 存在一个偏移矢量S保证衍射束的强度远比透射束弱 b. 保证衍射束与透射束之间没有能量交换 c. 衍射束的强度ID与透射束的强度IT之间有互补关系 I0=ID+IT
(2) 求Fg:在面心立方中,每一单胞有4个原子,在000,1/2 1/2 0,1/2 0 1/2, 0 1/2 1/2位置,
πVc ξg = λFg
Fg = ∑ f j (e)e
j =1
n
2πig ⋅r j
= ∑ f j (e) exp 2πi (hk j + ky j + lz j )
j =1
ξg
等倾条纹形成原因(弯曲效应)
向下弯曲时,消光条纹与衍射斑点异侧; 向上弯曲时,消光条纹与衍射斑点同侧; 衍射阶数增加,消光条纹变窄
等倾消光条纹
等厚、等倾消光条纹的区别
1. 原理不同:
2. 形貌不同:
3. 作用不同:
11.3.3 完整晶体的明场像
明场像由透射波决定,根据能量守恒原理,透射波强度IT为: IT=I0-ID 即明场像与暗场像是互补的,这是双束近似的结果。
φg = ∫ iπ = ξg
t
0 t
iπ exp[−2πisz ]dz ξg
k’
iπ sin( πst ) ∫0 exp[−2πisz]dz = ξ g ⋅ πs exp(− πist )
理想晶体衍射衬度强度表达形式的运动学基本方程:
2 2 π sin (πst ) ∗ = 1− I0 I g = φg ⋅ φg = 2 ⋅ 2 ξg (πs )
ξg )代
对于确定的入射电子波(或加速电压),消光距离是样品晶体的 一种物理属性,对于同一种晶体,当不同晶面的衍射波被激发时,也 有不同的消光距离。
晶体 Al Ag Au Fe Z 13 47 79 26 点阵 fcc fcc fcc bcc 28 hkil 1010 150 60 1120 140 50 2020 335 115 hkl 110 111 56 24 18 200 68 27 20 40 50 211
2.等倾消光条纹(衍射强度随晶体位向的变化)
π 2 sin 2 ( πst ) π 2 t 2 sin 2 ( πst ) Ig = 2 ⋅ = 2 ⋅ 2 2 ( πs ) ( πts) ξg ξg
当t=常数时,Ig随s变化,随s绝对值的增大,Ig会发生 周期的强度振荡
1 2 n ① 当s = ± ;± ; ± I g = 0 t t t 2n + 1 5 3 ② 当s = 0;± ;± ; ± 2t 2t 2t π 2t 2 I g max = 2
质厚衬度的形成
即衬度与质量、厚度有关,故这种衬度称为质量-厚 度衬度(Mass-thickness contrast,简称质厚衬度)。
质厚衬度公式
C
π N 0 e Z ρ 2 t 2 Z ρ1 t t ( − ) 2 2 V θ A2 A1
2 2 2 2 1
衬度与加速电压V、散射角θ、 原子序数Z、密度 ρ 和厚度t有关。 降低电压(对应小的V),能提高衬度。 用大的光阑(对应大的θ),则衬度小;用小的光阑(对应小的θ) ,则衬度大;实际工作时我们常常用改变光阑的大小来调节衬度。 原子序数、密度和厚度相差越大,衬度越明显。
Si,g(220), BF 与DF
孔洞边缘楔形形态
MgO 不锈钢
倾斜晶界、畴界
晶界
微孪晶
复杂等厚条纹
薄晶体厚度测量
可用等厚消光轮廓像来测薄晶体试 样的厚度: ①从衍衬像中测出条纹数目n;
πVC λFg
②从衍射谱中求得相应操作反射g , 求出消光距离 ξ g 厚度t。
等厚条纹
=

③由公式 t = nξ g ,算出薄晶体试样
n
= f (e)e 2πi 0 + f (e)e
2πi (
k +k ) 2
+ f (e)e
2πi (
k +l ) 2
+ f (e)e2πi (来自h +l ) 2
对g=200反射,h=2,k=l=0,F200=f(e)(1+1+1+1)=4f(e)。f(e)为电子的原子散射因子。
sin θ (3)求f(e):根据sinθ/λ可查出f(e),对本例, λ
11.3.1 理想晶体衍射强度的运动学解析
理想晶体指无点、线、面缺陷(如位错、层错、晶界和第二相物质等微 观晶体缺陷)的晶体。求完整晶体暗场像衬度,就是计算衍射束强度ID。 柱体内离开表面r处平行于上表面的一层原子 面,在此处产生的散射波振幅:
inλF g ϕ = exp( −2πiK ' ⋅ rn ) ⋅ exp(2πik g ⋅ r) cosθ
衬度分类
质量-厚度衬度(简称质厚衬度)是由于材料的质量厚度差异 造成的透射束强度的差异而形成衬度的
振幅衬度
Cr-Mo钢中一些小析出物的萃取复型样品的质量-厚度衬度像
衍射衬度(又称衍衬)是由于试样各部分满足布拉格条件的程度不同以 及结构振幅不同而产生的,衍射衬度主要用于晶体材料, 它在透射电子 显微镜中用得最多
K ′ = k′ − k = g + s
exp[ −2πiK ⋅ rn ] = exp[ −2πi( g + s ) ⋅ rn ] = exp[ −2πi(g ⋅ rn + s ⋅ rn )] = exp[ −2πi ( s ⋅ rn )]
'
= exp[ −2πi (s ⋅ z )]
基本假设:
假定衍射束强度比入射束小很多(这假定在入射束波长 较短和试样较薄时成立); 假定透射束与衍射束无相互作用(s越大,厚度t越小, 这假定就越成立); 假定电子束在晶体内部多次反射及吸收可忽略不记(当 试样很薄,电子速度很快时,该假定成立); 采用柱体近似方法计算衍射强度。
柱体近似 把成象单元缩小到和一个晶胞相当的尺度,可以假定透 射束和衍射束都能在一个和晶胞尺寸相当的晶柱内通过: a. 相邻晶柱内的衍射波不相干扰 b. 晶柱底面上的衍射强度只代表一个晶柱内晶体的结 构情况,记录各个晶柱底面的衍射强度,可以推测整个表面 的衍射强度(衬度)
透射波与衍射波强弱交替周期变化
πVC cosθ ξg = λFg
πVC ξg = λFg
11.4 非理想晶体的衍射衬度
由于点、线、面缺陷存在, 时的缺陷附近点阵畸变,晶柱会 发生畸变,产生一个位移矢量R 理想晶体晶柱中位移矢量为 r 非理想晶体晶柱中位移矢量为 r ′
第十一章 透射显微术电子像衬度原理
电子像的衬度(contrast)是指样品的两个相临部分的 电子束强度差,设样品的一个部分的电子束强度为I1,另一 个部分的电子束强度为I2,则电子像的衬度C可表示为:
I1 − I 2 ∆I C= = I2 I2
通常,人眼不能观察到衬度小于5%的差别,甚至对区 分 10 %的衬度差别也有困难。如果能把像用数字化的方法 记录下来,则可以用电子学方法把衬度增加到人眼能分辨 的程度。
πVc cosθ ξg = λFg
πVc ξg = λFg
透射波及衍射波在晶体中周期性变化
消光距离ξg计算
面心立方金属银在100V加速电压下获得衍衬象,为由孔洞形成的等厚干涉 条纹。从选区电子衍射花样上得知操作反射为200,试求消光距离ξg 。 解:(1)求VC:VC=a3=(4.089Å)3=68.36Å3,其中a=4.089Å 是银的点阵常数
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