第四章透射电子显微分析技术(一)解析
高分辨透射电子显微分析技术

(a)反映了晶体中 重原子或轻原子 列沿电子束方向 的势分布;(b) 是电子显微像上 强度的分 布,可 知 ( x, y) 具有比1小得多的 值。 由于重原子列具 有较大的势((a) 中心峰高),像 强度弱(负峰)。 可见(a)(b) 反映了由试样中 轻重原子的差异 所带来的像上衬 度的差异。
左上插图是结构原子 位置模型示意图。照 片上相应于重原子Tl 和Ba的位置出现大黑 点,而环绕它们的周 围则呈现亮的衬度。 插图中从最上一个Ba 原子到最下一个Ba原 子之间的4个Cu原子 和3个Ca原子和它们 的周围通道也呈亮衬 度。
Tl 系超导氧化物的高分辨电子显微像 TlBa2Ca3Cu4O11粉碎法制备,400kV电 子显微镜,沿[010]入射
7高分辨电子显微学
主要内容
7.1引言 7.2高分辨电子显微成像原理 7.3高分辨电子显微观察和拍摄图形的程序 7.4高分辨电子显微方法的实践和应用
7.1引言
概念:高分辨电子显微术是运用相位衬度成像 的一种直接观测晶体结构和缺陷的技术。 历史:1956年门特用分辨率为0.8nm的透射电 子显微镜直接观察到酞箐铜晶体的相位衬度像 这是高分辨电子显微学的萌芽;在20世纪70年 代,解释高分辨像成像理论和分析技术的研究 取得了重要进展;实验技术的进一步完善,以 及以J.M.Cowley的多片层计算分析方法为标志 的理论进展,宣布了高分辨电子显微学的成熟.
像模拟方法:此法先假设一种原子排列模型, 然后根据电子波成像的物理过程进行模拟计算, 以获得模拟的高分辨像。如果模拟像与实验像 相匹配,便得到了正确的原子排列结构像。
7.2高分辨电子显微成像原理
下面介绍几个基本概念 衬度传递函数T(H):是一个反映透射电子显微 像成像过程中物镜所起作用的函数,它是一个 与物镜球差、色差、离焦量和入射电子束发散 度有关的函数。一般来说,它是一个随着空间 频率的变化在+1与-1间来回震荡的函数。 相位体(phase object):电子波与物体作用后 如果只改变波的相位而波振幅不变,这种物体 成为相位体,反之称振幅体。
TEM基本原理及实例分析

透射电子显微镜基本原理及实例分析一、电镜的结构与成象透射电子显微镜是以波长极短的电子束作为照明源,用电磁透镜聚焦成像的一种高分辨率、高放大倍数的电子光学仪器。
它由电子光学系统、电源与控制系统及真空系统三部分组成。
电子光学系统通常称为镜筒,是透射电子显微镜的核心,它的光路原理与透射光学显微镜十分相似,分为三部分,即照明系统、成像系统和观察记录系统。
图1透射显微镜构造原理和光路1.1照明系统照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。
其作用是提供一束亮度高、照明孔径角小、平行度好、束流稳定的照明源。
为满足明场和暗场成像需要,照明束可在2○~3○范围内倾斜。
1.电子枪电子枪是透射电子显微镜的电子源。
常用的是热阴极三极电子枪,它由发夹形钨丝阴极、栅级帽和阳极组成,如图所示。
图2电子枪(a)自偏压回路(b)电子枪内的等电位面2.聚光镜聚光镜用来会聚电子枪射出的电子束,以最小的损失照明样品,调节照明强度、孔径角和束斑大小。
一般都采用双聚光镜系统,如图所示。
第一聚光镜是强激磁透镜,束斑缩小率为10~50倍左右,将电子枪第一交叉点束斑缩小为1~5μm;而第二聚光镜是弱激磁透镜,适焦时放大倍数为2倍左右。
结果在样品平面上可获得2~10μm的照明电子束斑。
图3成像系统光路1.2成像系统成像系统主要是由物镜、中间镜和投影镜组成。
1.物镜物镜是用来形成第一幅高分辨率电子显微图像或电子衍射花样的透镜。
透射电子显微镜分辨率的高低主要取决于物镜。
通常采用强激磁、短焦距的物镜,相差小。
物镜的分辨率主要决定于极靴的形状和加工精度。
一般来说,极靴的内孔和上下极靴之间的距离越小,物镜的分辨率就越高。
2.中间镜中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜,可在0~20倍范围调节。
当放大倍数大于1时,用来进一步放大物镜像;当放大倍数小于1时,用来缩小物镜像。
3.投影镜投影镜的作用是把经中间镜放大(或缩小)的像(或电子衍射花样)进一步放大,并投影到荧光屏上,它和物镜一样,是一个短焦距的强磁透镜。
第四章 电子显微镜分析基础

极靴小孔隙中。如图19.6(a)、(b)、(c)所示,(c)是一种强
磁透镜。由于透镜焦距与所采用的磁场相关 磁场越强 焦 距越短 放大倍数也就越大 电子显微镜的成像物镜大多采 用短焦距的强磁透镜
强磁透镜
2.3 电磁透镜的像差、分辨本领、景深和焦长
ro
2
理论上 电子显微镜的分辨率很高 但事实上 其分辨率远
2.4 电子显微镜与光学显微镜的对比 电子显微镜在分辨本领、放大倍数、景深、焦长等 许多方面有着明显的优点 它能把微区(几个微米)、
甚至超微区(10nm以下)把形貌、成分、结构三个主
要测试方面的内容密切结合起来进行研究
电子显微镜的发明及发展开拓了许多新的研究领
域 但电子显微镜也有一些局限性 需要光学显微镜和
第4章
电子显微镜分析基础
一、光学显微镜的分辨率
人眼分辨极限只有0.2mm 光学显微镜的分辨极限是
0.1μm 电子显微镜的分辨率普遍达到0.3nm 最好的电
子显微镜的分辨率已经达到0.07nm 一般原子、离子半
径大约在0.1nm左右
在电子显微镜下可以直接观察到分子 甚至原子的世界 这
个分辨能力比人眼高出了近100万倍 比最好的光学显微
2.3.2电磁透镜的分辨本领 分辨本领取决于透镜的像差和衍射效应所产生的 散焦斑(或称埃利斑)尺寸的大小 光学显微镜在最佳 情况下 分辨本领可以达到照明光波波长的二分之一 电子束波长比可见光波长小五个数量级 如果电磁透镜 像差(特别是球差)能得到较好的矫正 那么它的分辨 本领理应达到照明波的半波长0.002nm极限值(按加速
1 eV m 2 2
式中 e为电子电荷绝对值 V为加速电压(kV) ν为电子运动速 度 m为电子的质量 从上式可以得到电子运动的速率为:
电子显微技术(1)

电子显微技术(1)
总述:
• 电子显微镜有很多类型,主要有透射电子 显微镜(简称透射电镜,TEM)和扫描电子显 微镜(简称扫描电镜,SEM)两大类。扫描透 射电子显微镜(简称扫描透射电镜,STEM)则 兼有两者的性能。
电子显微技术(1)
总述:
The comparison picture of scanning electron microscope and transmission electron microscope
电子显微技术(1)
主要内容:
• TEM——透射扫描电镜 • SEM——扫描电子显微镜 • STM——扫描遂道显微镜 • AFM——原子力显微镜 • ESEM——环境扫描电镜 • STEM——扫描透射电镜 • FESEM——场发射扫描电镜 • SEAM——扫描电声显微镜
电子显微技术(1)
TEM——照明系统
• 照明系统主要由电子枪和聚光镜组成。 • 电子枪是发射电子的照明光源。 • 聚光镜是把电子枪发射出来的电子会聚而
成的交叉点进一步会聚后照射到样品上。 • 照明系统的作用就是提供一束亮度高、照
明孔径角小、平行度好、束流稳定的照明 源。
电子显微技术(1)
TEM——电子枪
电子显微技术(1)
TEM——透射电镜的结构
• 图5-11是透射电镜的 外观照片。
• 通常透射电镜由电子 光学系统、电源系统、 真空系统、循环冷却 系统和控制系统组成, 其中电子光学系统是 电镜的主要组成部分。
透射电子显微镜的原理及应用

透射电子显微镜的原理及应用一.前言人的眼睛只能分辨1/60度视角的物体,相当于在明视距离下能分辨0.1mm 的目标。
光学显微镜通过透镜将视角扩大,提高了分辨极限,可达到2000A 。
光学显微镜做为材料研究和检验的常用工具,发挥了重大作用。
但是随着材料科学的发展,人们对于显微镜分析技术的要求不断提高,观察的对象也越来越细。
如要求分表几十埃或更小尺寸的分子或原子。
一般光学显微镜,通过扩大视角可提高的放大倍数不是无止境的。
阿贝(Abbe )证明了显微镜的分辨极限取决于光源波长的大小。
在一定波长条件下,超越了这个极限度,在继续放大将是徒劳的,得到的像是模糊不清的。
图1-1(a )表示了两个点光源O 、P 经过会聚透镜L ,在平面上形成像O ,、P ,的光路。
实际上当点光源透射会聚成像时,由于衍射效应的作用在像平面并不能得到像点。
图1-1(b )所示,在像面上形成了一个中央亮斑及周围明暗相间圆环所组成的埃利斑(Airy )。
图中表示了像平面上光强度的分布。
约84%的强度集中在中央亮斑上。
其余则由内向外顺次递减,分散在第一、第二……亮环上。
一般将第一暗环半径定义为埃利斑的半径。
如果将两个光源O 、P 靠拢,相应的两个埃利斑也逐渐重叠。
当斑中心O ,、P ,间距等于案例版半径时,刚好能分辨出是两个斑,此时的光点距离d 称为分辨本领,可表示如下:αλsin 61.0d n = (1-1) 式中,λ为光的波长,n 为折射系数,α孔径半角。
上式表明分辨的最小距离与波长成正比。
在光学显微镜的可见光的波长条件下,最大限度只能分辨2000A 。
于是,人们用很长时间寻找波长短,又能聚焦成像的光波。
后来的X 射线和γ射线波长较短,但是难以会聚聚焦。
1924年德布罗(De Broglie )证明了快速粒子的辐射,并发现了一种高速运动电子,其波长为0.05A 。
,这比可见的绿光波长短十万倍!又过了两年布施(Busch )提出用轴对称的电场和磁场聚焦电子线。
电镜和光谱原理解析

测试方法原理集锦(转载)(一)、透射电子显微镜1、基本原理在光学显微镜下无法看清小于0.2 ^m勺细微结构,这些结构称为亚显微结构(submicroscopic structures )或超微结构(ultramicroscopic structures ; ultrastructures )。
要想看清这些结构,就必须选择波长更短的光源,以提高显微镜的分辨率。
1932年Ruska发明了以电子束为光源的透射电子显微镜(transmission electron microscope , TEM,电子束的波长要比可见光和紫外光短得多,并且电子束的波长与发射电子束的电压平方根成反比,也就是说电压越高波长越短。
目前TEM的分辨力可达0.2 nm。
电子显微镜(图2-12 )与光学显微镜的成像原理基本一样,所不同的是前者用电子束作光源,用电磁场作透镜。
另外,由于电子束的穿透力很弱,因此用于电镜的标本须制成厚度约50nm左右的超薄切片。
这种切片需要用超薄切片机(ultramicrotome )制作。
电子显微镜的放大倍数最高可达近百万倍、由电子照明系统、电磁透镜成像系统、真空系统、记录系统、电源系统等5部分构成。
表2-2不同光源的波长500){this.resized=true;this.style.width=500;}" border=0>图2-12 JEM-1011透射电子显微镜光学显微镜、TEM SEM成像原理比较■ h^atEKl Ijlnmpnt ¥ E 搐U 脛0吋等RwVpn 和微镜、TEM SEM 成像原理比较 (二)、扫描电子显微镜图2-17 JEOL 扫描电子显微镜全—apecknmspecimonAyopi-aca 阳FK 口阿 jtKl<H |lari*IMAGE VIEWED DIRECTLYIMA.GL 0» FLUORESCENTSCREENUGHTMICROSCOPETRANSMISSIONLLECTFtON MI-CKOSCOreSCANhttNGELECTRON MlCfiOSCOPf光学显(ftirtHlorI MAGI ON VIEWING SCREEN扫描电子显微镜(scanning electron microscope , SEM 图2-17、18、19)于20世纪60 年代问世,用来观察标本的表面结构。
材料研究方法第四章电子显微分析[可修改版ppt]
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电子显微分析
电子显微镜光学基础 透射电子显微分析 扫描电子显微分析 电子探针X射线显微分析
§1 电子显微镜光学基础
一、光学显微镜的局限性 二、电子的波性及波长 三、电磁透镜的像差和理论分辨本领 四、电磁透镜的场深和焦深
一、光学显微镜的局限性— 分辨本领有限
P—动量 m —电子质量 h—普朗克常数 —波长 v —电子运动的速度
De Broglie 波:h/mv
加速电子的动能与 电场加速电压的关系为:
—电子的速度 V —加速电压 m—电子静止质量
与V的关系式
➢ 加速电压较低时
h 12.25(埃)电子束的波
2m0eV V
长随电子枪 加速电压的
➢ 加速电压较高时
增高而减小
12.25
(埃)
V( 10.9781506V)
当加速电压为100kV时,电子束的波长约为可见光波长的 十万分之一。 因此,若用电子束作照明源,显微镜的分辨本领要高得多。
三、电磁透镜的像差和理论分辨本领
•电磁透镜在成像时会产生像差。 像差:不汇聚在一点;不按比例成像;不相似。
* 像差分为:几何像差和色差两类。
相似性:成像原理类似 不同点: (1)OM以可见光作照明束;TEM以电子束为照明 束。 (2)在OM中,将可见光聚焦成像的是玻璃透镜;
在TEM中,相应的为磁透镜。 (3)TEM的像分辨本领高,同时兼有结构分析的功
1、工作原理
透
射
电
照明源:聚焦电子束
子 显
试样:对电子束透明的薄膜
§2 透射电子显微分析
利用透射电子显微镜可以观察和分析材料的 形貌、组织和结构 透射电子显微镜是一种高分辨宰、高放大倍 数的显微镜。它用聚焦电子束作为照明源,使 用对电子束透明的薄膜试祥(几十到几百nm), 以透射电子为成象信号。
第四章 电子衍射讲解

多晶电子衍射谱的形成
X射线花样形成示意图
电子衍射花样形成示意图
电子衍射基本公式
R Rd L
Ld
通常将K=λL=Rd称为 相机常数,而L被称 为相机长度。
3、现在的电镜极靴缝都非常小,放入样品台以后很 难再放得下一个光阑;
现在电镜的选区光阑可以做到非常小,如JEOL 2010 的选区光阑孔径分别为:5μm,20μm,60μm,120μm
衍射与选区的对应
A 磁转角
一束平行于主轴的入射电子束通过电磁 透镜将被聚焦在轴线上一点,即焦点F
类比光学玻璃凸透镜
Mi M p
mmM, 误i 差
Mp 3.3%
仪器误差——电子波长的不稳定性
内标像机常数
随物镜电流变化的校正曲线
电子衍射花样的标定与分析
电子衍射谱的标定就是确定电子衍射图谱中的诸 衍射斑点(或者衍射环)所对应的晶面的指数和 对应的晶带轴(多晶不需要)。
电子衍射谱主要有多晶电子衍射谱和单晶电子衍 射谱。电子衍射谱的标定主要有以下几种情况:
简立方:N=1, 2, 3, 4, 5, 6, 8, 9, 10, …
体 心:N=2, 4, 6, 8, 10, 12,…
=1:2:3:4:5:6:7:8
面 心:N=3,4,,,,8,,,11,12,,,,16,,,19,20,,,,24,,,27,28,…
金刚石:N=3, ,,,,8,,,11, ,,,,16,,,19, ,,,,24,,,27, ,…
在 透 射 电 子 显 微 分 析 中 , 即 有 Fresnel ( 菲 涅 尔 ) 衍 射 (近场衍射)现象,同时也有Fraunhofer(夫朗和费) 衍射(远场衍射)。 Fresnel(菲涅尔)衍射(近场衍 射)现象主要在图像模式下出现,而Fraunhofer(夫朗 和费)衍射(远场衍射)主要是在衍射情况下出现。
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一次复型和二次复型优缺点比较
➢ 碳一次复型由于采用直接在试样上喷涂,且组成碳膜的碳 颗粒很细小,故有较高的分辨率,可达5nm;而且碳膜在电 子束照射下稳定性好,不易分解烧损。但其制备方法较麻 烦,需要用电解腐蚀或化学腐蚀,且制备过程中要破坏试 样表面。
➢ 塑料一次复型虽制备方法简单,可不用镀膜机。但塑料在 高能电子轰击下,高分子将产生聚合作用,会引起复型本 身结构发生变化,从而毁坏了复型面上的细微特征,故一 般只能在较低倍率下观察。
AC纸通常都由自己制备,方法是将市场购得的醋酸纤维 素溶于丙酮中,配置成质量分数为7%~10%的溶液,待醋酸 纤维素完全溶解后成粘胶状,将溶液倒入大规格的玻璃培养 皿中,盖上盖子让其慢慢地自然干燥,大约1~2天即可取出, 即如纸状,存放备用。 AC纸也有成品市售。
二次复型的制备步骤 在试样表面上滴一滴或几滴醋酸甲脂或丙酮(若试样的观察
4.3 透射电镜的样品制备技术
对试样的要求:足够的薄、电子束能够穿透试样。 透射电镜样品可分为:间接样品和直接样品。 透射电镜样品的制备技术主要有三类:一是将块状试样制成
薄片(20-50nm);二是将块状试样的表面制成复膜;三是 把粉未试样制成悬液等。 这是透射电镜试样支撑网 这是制备好的透射电镜试样
常用的投影金属为Cr、Au、Pt等,其中Cr最常用;投影角通常 为15°~45°。
未经投影的韧窝 经Cr投影后的韧窝
二、萃取复型
➢ 表面形貌复型法是样品表面形貌的复制品,其最大的缺点 是金属材料本身没有放到电子显微镜中观察分析,因此不 能研究金属材料内部的组织结构等。萃取复型是一种可以 部分弥补表面复型这方面的不足之处。它是将材料中某些 显微组成相选择性地萃取出来,且使被萃取的相保持原来 在基体中的位置。
第一中间镜 第二中间镜
电镜镜筒剖面图
消像散器 样品架
物镜上线圈 物镜下线圈 高分辨衍射室
投影镜 放大镜 荧光屏
照相室
4.2 透射电镜的图像解释
➢ 散射衬度:是由于电子束与物质相碰撞时,电子束被散射。 这种散射电子被物镜光阑遮挡,于是就产生了衬度,这种散 射程度的大小与“质量厚度“成比例。
➢ 衍射衬度 :电子束照射晶体物质时,由于衍射现象,在某 一特定的方向上将产生很强的弹性散射电子,这种散射电子 被物镜光阑遮挡,所以试样在产生衍射现象的部分就变得特 别黑,这种由于衍射现象所产生的衬度,叫做衍射衬度。
➢ 二次复型虽然要做两次复型,但制备方法较简单,最重要 的是不破坏试样表面,可重复制样,故尤其适合于断口。 由于二次复型采用AC纸作为过渡复型,可以很方便地对一 些难以切割取样的材料或大工件上直接做复型,也适合于
现场操作制样,是目前最常用的电镜复型制备方法。
(三)投影技术
“投影”的方法是把已经制成的一次复型的浮雕面朝上,镀一 层重金属,方法:放在真空镀膜机的内.与复型表面成一倾斜角, 在迎着投影源的复型局部凸面则沉积较多的金属,而背面则沉积较 少,甚至无金属沉积。由于投影金属的原于序数比塑料或碳高得多, 对电子吸收和散射能力较大,于是在图像上反映出在投影金属沉积 较多的区域则较暗,投影金属沉积少的区域则较亮。
碳一次复型
➢ 真空膜碳:将试样置于 高真空膜机中镀上一层 碳膜。
➢ 腐蚀试样取碳膜:先在 碳膜表面上用刀片划成 2mmX 2mm小块,然后用 电解腐蚀法将碳膜从试 样上分离下来,经清洗 后用铜网捞起即可观察。 碳膜的分离也可用化学 侵蚀方法。
(二) 二次复型
二次复型就是做两次复型,是目前使用最普通的一种复 型方法。第一次复型用醋酸纤维纸(简称AC纸),第二次复 型材料用碳。
➢
一次复型
➢
二次复型
➢
萃取复型(半直接样品)
(一)一次复型法
塑料一次复型 塑料一次复型的复型材料一般用:w=2%-3%火棉胶醋 酸戊酯溶液或w=1%-2% Formvar(聚醋酸甲基乙烯酯)氯 仿溶液。具体制备步骤如下:
➢ 滴膜:在试样上滴制膜 溶液、平整、干燥。
➢ 取膜:取试样上复型膜 (负复型)到铜网上。
对复型材料的主要要求: ➢ 复型材料本身必须是“无结构”或非晶态的; ➢ 有足够的强度和刚度,良好的导电、导热和耐电子束轰击性能。 ➢ 复型材料的分子尺寸应尽量小,以利于提高复型的分辨率,更深
入地揭示表面形貌的细节特征。 ➢ 常用的复型材料是非晶碳膜和各种塑料薄膜。
复型的种类
按复型的制备方法,复型主要分为:
面较大,可适当增加),贴上AC纸,由于AC纸的面向试样观 察面的一面局部溶化而紧贴在试样上。
让其自然干燥或在灯泡下干燥,将AC纸揭下。ቤተ መጻሕፍቲ ባይዱ
将揭下后的AC纸复型印面朝上贴在胶带纸上,放入真空镀膜 机中作投影和喷碳,制成第二次复型。
溶去一次复型的AC纸:将上述经喷涂后的复合复型剪成略小 于电镜试样支持铜网的小块,一般为2mmX 2mm,放入盛有丙 酮溶液的称量瓶中,溶去AC膜;约20min后碳膜会在丙酮溶 液中浮动,可用小网将其捞起放入干净的丙酮中再清洗一下, 用铜网捞起在滤纸上干燥后即可作电镜观察。
➢ 相位衬度 :是直接通过试样达到像平面的透射波和散射波 或衍射波,都不被光阑遮挡,而是通过物镜互相干涉,结果 便产生了相位衬度。
在透射电子显微镜中,厚试样中的散射衬度或衍射衬度 的比例比相位衬度大,当试样减薄到某种程度时,散射衬度 或衍射衬度的比例就同相位衬度的比例一样了,再把试样减 薄到几十个埃以下时,相位衬度的比例变得更大。
常用:铜网或镍网 直径φ3mm 规格多为100、200、300目
这是透射电镜试样架
铜网(试样)
一、 表面形貌复型及投影技术
表面形貌复型就是用一种使电子束能穿透的薄膜材料,将 金属或非金属材料的表面浮雕复制下来,然后将印有浮雕的薄膜 放到透射电镜中观察,这种薄膜叫做“复型”。这种技术称为表 面形貌复型法,是一种间接样品的制备方法。
第四章 透射电子显微分析技术(一)
透射式光学显微镜
4.1 透射电镜的结构
透射电子显微镜与透射光学显微镜的比较
➢ 透射电子显微镜 的总体结构主要 由:镜筒(电子 光学系统)、真 空系统、电源及 控制系统三大部 分组成。
光源 阳极 聚光镜 样品 物镜 光阑 中间镜 投影镜 终像
电子枪 阳极帽 电子枪偏转 线圈 第一聚光镜 第二聚光镜 聚光镜光阑 聚光镜偏转 线圈 物镜光阑 中间镜限场 光阑