光学下摆抛光技术培训教材1

COSA 0.1 0.15 0.2 0.25 0.3 0.35 0.4 0.45 0.5 0.55 0.6 0.65 0.7
下摆机床起始角及摆幅调整参照表 COSA=Ｄ/2R
起始角至最大角
摆幅
2.50—60
4
40—8.50
5
60—120
6
7.50--150
8
8.50--17.50
9
10.50--210
1、需要低光圈，
调整
些
摆角小些
B、如此时摆角已很小光圈仍是很低， 2、需要要高光
可将对改模旋在主轴上，手持精磨模在 圈，摆角大些
上修改
四正确使用样板 用工作样板检查抛光后的光学零件是看你所加工的零件是否达到了所规定的光圈数 要求和是否超过局部误差的规定，这种检查的方法是利用了光干涉原理，其精度是非常 高的，因此在检光圈时，一定要将做样板和被检零件檫拭干净，不留任何污迹和灰尘， 织物纤维，否则就会看不到正确的结果，就会损伤样板和零件的表面，方法是： 将檫干净的样板轻轻的放在檫净的零件 3/5 处，轻轻地压下，手感润滑无异物可轻 轻推至全部接触，垂直方向上去数红色光带便得到了该零件的光圈数，检查零件误差时 可将样板轻轻移至 1/2 数，看光带是否规则。许多员工方法不当，檫得不干净，用力过 大样板推来推去，损坏了样板和零件表面，新的样板用不了几天，表面就路子纵横交错， 用这样的样板检零件，零件的表面肯定会受到影响，即使你零件重新再抛一下，有些路 子深，根本磨不掉，所以我们一定要熟练掌握正确的样板使用方法，这个问题希望引起 大家的重视 影响抛光工序光圈稳定的因素 1 上道工序的光圈配合是否合适是十分重要的 ，上道工序要按工艺图纸上要求去做，
11
120—240
12
140—27.50
14150—310来自16170—340
17
18.50—360
18
200—400
20
22.50--440
22
6
0.75 0.8 0.85
编制 日期
250—47.50 270-500
29.50—540
审核 日期
23 24 25
批准 日期
7
抛光液循环使用，更增加了解 不同粒度的氧化铈，硬材料可
决的难度
用粗颗粒的，软材料哟暖和细
颗粒的
2．对抛光粉要求均匀性要好
3．对所用的聚氨酯也要有所选
择，加工软材料时选用较软的
聚氨酯
4．抛光液要保证清洁
5．根据比例材料的不同，选择
恰当的抛光液浓度
6．抛光液温度过低，尤其是加
工软材料零件时，液温偏低就
会产生亮路，开机时可适量加
2008
高抛四、五车间 下摆机培训教材
编制；吴广建、钱亚琴
1
高抛四、五车间下摆抛光技术培训教材
一 高速抛光所需的机器、量具、辅料 机器：10 轴上摆机 时代 50 机 时代 80 机 量具：样板、球心仪 辅料：抛光粉、抛光卷、阻力布 准备工作 1 工作前先搞好车间和机器的清洁卫生。根据生产计划领好当天需生产的坯料，对 照好图纸，领好坯料要清点准确。 2 检查机器有无故障，传动部位是否正常，发现有不正常，自己不能排除的，应找 电工或维修工排除故障，方能使用。 3 冲洗机床，过滤好抛光液，抛光液的水一律用纯净水。将水泵放在专用过滤盆中， 切记要顺放，以放水倒流在水泵线圈中，同时使水箱中水位得当，让开启水泵时保持通 水正常。 4 抛光溶液（氧化铈）一般的浓度根据材料而决定，要测好浓度，做好记录，并保 持抛光液的清洁。 开始抛光 1 检查抛光卷是否完好，再抛毛料检查抛光模光圈是否符合图纸要求，如果光圈不 好先将模子修整一下。进行试抛，待光圈修正符合要求进行生产。 2 抛光过程中经常检查光圈，自己有把握的也要每隔 30-50 片就要检查，如果光圈 不好立即修模，切不可将不好的镜片放入其中送检。 3 看光圈时要将样板和零件檫干净，不得用力下压和推动。 4 抛光的时间根据工艺图纸要求而定，先小批量送验合格，后再大批量生产。每天 要送质检检验 3-4 次。 5 抛光模做了一段时间上了抛光粉要用干净的指定的刷子将沉淀粉除掉。 6 抛光夹具内要平滑，不可有杂质。垫一层阻力片，要经常清洗，不用时将其泡在 水中，保持清洁与温度，切记不可用有字的报纸或有油性的脏布等容易影响光洁度的添 层。 7 抛光好的镜片直接放入纯净水盆中清洗，防止氧化铈痕迹，在一片片檫干净后再 用酒精乙醚混合液檫镜片，注意手持镜片的侧面，以防手指印碰在镜片表面，所以好的 镜片没有手指印和氧化铈痕迹，有吸塑盘的用吸塑盘，一般的产品用白纸垫上，只放一 层间隔摆放，装入木盘中，过凸的镜片要加隔海绵。 8 清洗镜片的纯净水，不清洁就要换，保证镜片没有斑痕。 9 檫干净的镜片要远离抛光槽，以防抛光粉喷在上面，影响下道工序。 10．返工的镜片如需返一面，但另一面也要再抛 10 秒。以防霉斑。 11．对所做好的产品写好跟踪卡，保证数据准确。当天生产的镜片当天送往质检科， 以防时间长而上霉。 二 光学抛光生产中的注意点 一模具高度的调试： 光学零件的精磨和抛光，要提高效率光圈是否能相对保持稳定是关键因素只一，而 影响光圈变化诸多因素中，在摆动磨削过程中，压力在各个角度中是否一样又是因素之 一而准球心机床便解决了压力在各角度一致的问题，因为不论是主轴摆动或是摆臂摆动 都是绕心摆动的，因此压力在各个角度都是一样的，摆臂摆动的准球心机床想比，下摆 机床有着更高的精度，因为该机床随机还有一台调整球心的仪器，其球心精度可达 0.01 的精度，并可调整模具轴向跳动至 0.01MM。 二如何压模 在压制新模具时不可马虎，基模不可加温太热，只要能溶解热溶胶就可以，将抛光
序号 1
2
疵病名称
光圈不稳 定
光圈局部 误差
抛光工序中常见疵病解决方法
产生疵病原因
解决方法
1、上道工序光圈配合不好
1、精磨工序严格按工艺要求生产
*一般配合是精磨后的光圈较 2、模具口径的设计应耕具机床种
抛光的光圈低 2-3 圈，如过高 类给顶的参数设计
或过低，抛光模很快就变高或 3、（1）摆角的调整：（零件在上
工序表面质量差那么抛光在常 时间和压力
规的操作加工下便无法 上道 2、要提高抛光工序的质量产量
工序的凹凸层去除，这便留下 精磨必须按要求加工
了麻点）
3、上道工序光圈配合不好，
上道工序光圈配合和抛光光卷
差得大意不仅会影响抛光光圈
的稳定而且直接影响抛光后的
表面质量
A、光圈太低中间有麻点
B、光圈太高边缘有麻点
修改方法
凸抛光模
凹抛光模
修改模具时，
1、需要低光圈时，将凸精磨模旋在
为了便于休整，
上、下模要贴合 主轴上：
一般都是将凸对改
在一起，倾斜一
A、手持对改模在上，则需角度大些 模旋在主轴上，手
定角度，并做摆
B、摆动越大，光圈越低
持精磨模在上修改：
动；偏斜角度的
2、需要高光圈时
大小根据需要做
A、需要光圈高些，则需摆动角度小
3
否则抛光就无法稳定光圈，上道光圈低，抛光随之变低，反之上道工序光圈高，抛光也 变高。
2 摆角、摆幅要按规定的方法调整。摆幅调整的方法。COSA=Ｄ/2R，得出系数，根 据系数找出相应的摆幅。
3 加大压力光圈会变低，减少压力光圈会变高。 影响抛光表面质量的因素 1 精磨料的表面不均匀，粗 2 上道精磨光圈的配合对光圈的影响 3 抛光液浓度对抛光表面质量的影响 斑 抛光生产中还常会出现斑的现象，常见的有两种，一种是在反射光下才能发现的不 规则状斑，如淡紫色的膜，这种斑大都产生在材料化学稳定性差的零件上，这都是由于 大气中酸、碱、言侵蚀所造成的，碰到零件，加工者一定要细心，抛光完毕后用清水洗 净，迅速用干纱布醮酒精、乙醚混合液檫干净，然后放在灯下烘干，送检，不要长期暴 露在自然环境中，检验对这种零件也要随送随检，合格件放在干燥箱内。 另一种斑，如雾状，透光看不清爽，这大都是由于阻尼片没有清洗干净和没有及时 更换所造成的，还有在 R 和零件压合面配合的不好，直径配合不好的问题解决的办法是： 使用夹具时检查一下，压合面配合是否好的，零件在夹具内是否松动，间隙是否太大， 如若不好，则要更换。这种情况都发生在加工第二面，加工好的第一面出问题了，也总 时第一面的光圈也变了，因此时时保证阻尼片的清洁不可忽视，而阻尼片也要经常更换。
圈表现为踏边）
便会使光圈变低，可将修改模 R
略大些
3、发现光圈塌边时首先要检查抛
4
光模是否脱落
序号 3 4 5
疵病名称
产生疵病原因
解决方法
麻点 硬路子 亮路子
1、抛光时间过短，压力偏小 1、根据零件的大小，材料的硬
2、上道工序的表面质量差， 度，及上道工序的表面光洁度
（因抛光的磨削量较小如上道 通过试验便可得出抛光需要的
2
纸粘上标准压实连标准模同时冷却，模子做得好，修改的余量小，反之模子压制的不好， 修模十分困难，同时也影响模子的使用寿命。
三如何修磨具 修模是一种技术性较强的手工技艺，需要勤联系，勤思考。修改模具的道理很简单， 就是利用旋转的模具的中心与边缘线速度的不同，操作时根据需要选择不同的摆角，规 律是摆角大被修模具光圈变低，此时是磨模凹模，抛光凹模在下，修模在上或者精磨凸 模，抛光凸模在下，修模在上，同样的放置位置摆角小则会变高。 修模时首先，要保证修模 R 是正确的如果修模 R 不对、不规则，那么无论如何是修 不好光圈的，尤其修抛光模。修模的难度在于要将模具 R 修至一定的光圈数而且面形要 规则，对抛光的模来说更是不容易，抛光模上的聚氨脂软，非得上机床试磨后才能知道， 比较麻烦，如一次修不好，反反复复，很浪费时间，影响产量，因此我们必须尽快掌握 这一手工技术，方法是勤练习，勤思考，善于分析总结，这样逐步积累经验，修模就不 那么难了。为了要使修好的模具能加工出规则的光圈，修模时一定要偏斜的角度和摆动。