超声波的清洗作用原理
超声波清洗原理
一、超声波清洗原理超声波清洗是基于空化作用，即在清洗液中无数气泡快速形成并迅速内爆。
由此产生的冲击将浸没在清洗液中的工件内外表面的污物剥落下来。
随着超声频率的提高，气泡数量增加而爆破冲击力减弱，因此，高频超声特别适用于小颗粒污垢的清洗而不破环其工件表面。
空化泡的扩大以及爆裂（内爆）气泡是在液体中施加高频（超声频率）、高强度的声波而产生的。
因此，任何超声清洗系统都必须具备三个基本组件：盛放清洗液的槽、将电能转化为机械能的换能器以及产生高频电信号的超声波发生器。
二、换能器和发生器超声清洗系统最重要的部分是换能器。
现存两种换能器，一种是磁力换能器，由镍或镍合金制成；一种压电换能器，由锆钛酸铅或其它陶瓷制成。
将压电材料放入电压变化的电场中时，它会发生变形，这就是所谓的 '压电效应'。
相对来说，磁力换能器是用会在变化的磁场中发生变形的材料制成的。
无论使用何种换能器，通常最基本的因素为其产生的空化效应的强度。
超声波和其它声波一样，是一系列的压力点，即一种压缩和膨胀交替的波（如下图示）。
如果声能足够强，液体在波的膨胀阶段被推开，由此产生气泡；而在波的压缩阶段，这些气泡就在液体中瞬间爆裂或内爆，产生一种非常有效的冲击力，特别适用于清洗。
这个过程被称做空化作用。
声波的压缩和膨胀＃从理论上分析，爆裂的空化泡会产生超过 10,000 psi的压力和20,000 °F (11,000 °C) 的高温，并在其爆裂的瞬间冲击波会迅速向外辐射。
单个空化泡所释放的能量很小，但每秒钟内有几百万的空化泡同时爆裂，累计起来的效果将是非常强烈的，产生的强大的冲击力将工件表面的污物剥落，这就是所有超声清洗的特点。
如果超声能量足够大，空化现象会在清洗液各处产生，所以超声波能够有效清洗微小的裂缝和孔。
空化作用也促进了化学反应并加速了表面膜的溶解。
然而只有在某区域的液体压力低于该气泡内气体压力时才会在该区域产生空化现象，故由换能器产生的超声波振幅足够大时才能满足这一条件。
超声波清洗工作原理
超声波清洗工作原理
超声波清洗是一种新型的清洗方式，它的工作原理是超声波
发生器发出的高频振荡信号，通过换能器转变成高频机械振荡而
传播到介质中，使液体产生高频震动，使液体中的污物如污垢从
物体表面剥离下来，这种方法对清除工件上的油污、尘埃及其它
污物非常有效。
超声波清洗是一种物理清洗方法，它利用超声波在液体中传
播时产生的空化作用、机械振动和流体冲击等作用对液体及污物
进行清洗。
当超声波在液体中传播时，由于声波在液体中传播时
发生复杂的物理和化学变化，从而使液体分子产生高速振荡，在
清洗液中的污物层被高速振荡的水和污物剥离而达到清洗目的。
超声波清洗在国外已经得到了广泛应用。
超声波清洗工作原理是：当超声波频率等于或大于20KHz时，水分子被压缩成一束超微裂（纳米），每秒几十亿次以上的频率
振动使水分子产生共振和涡流而产生很强的空化作用，当超声波
传到物体表面时，污物层被快速振动而剥落，达到清洗目的。
同
时由于超声波的作用时间短，作用效果明显。
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超声波清洗器原理
超声波清洗器原理
超声波清洗器是一种利用超声波的高频振动来实现清洗的装置。
它的工作原理是利用超声波在液体中产生的高频振动，通过液体中的惯性、压缩和膨胀的作用力，有效地将污垢和污染物从物体表面分离。
具体来说，超声波清洗器的工作原理包括以下几个方面：
1. 超声波传导：超声波是一种高频振动的机械波，它可以通过液体中的传导方式传递到物体表面。
超声波清洗器通常会将超声波发生器产生的高频电能转化为超声波能量，然后通过传导方式传递到液体中。
2. 液体振动：一旦超声波能量传递到液体中，它会引起液体中的震动和振荡。
这种液体振动是由超声波的压缩和膨胀作用力引起的，这些力量会在液体中形成稀疏和密集的区域。
3. 液体微流动：液体振动会引起液体中微小的流动，从而形成微小的液体流动。
这种微流动会在物体表面产生一种微观的局部振动，从而有效地剥离和分离污垢和污染物。
4. 污垢分离：液体中微流动的作用下，超声波清洗器会产生一种剥离和分离污垢的力量。
这种力量会将污垢从物体表面分离，并使其悬浮在液体中。
5. 污染物分散：剥离和分离的污垢在液体中被分散成微小颗粒。
这些微小颗粒会在液体中被扩散，从而进一步加速清洗过程。
6. 清洗效果：最终，通过超声波的持续作用，污垢和污染物会被彻底清洗和去除。
清洗后，物体表面会变得干净且无残留。
总体来说，超声波清洗器利用超声波的高频振动和液体中的微流动效应，实现了对污垢和污染物的高效清洗。
其工作原理简单而有效，适用于各种材料和物体的清洗需求。
超声波 清洗原理
超声波清洗原理
《超声波清洗原理》
超声波清洗，是利用物体表面受到超声波的冲击力而产生化学和物理反应，从而产生物体的清洗作用。
超声波清洗原理：
1. 弹性冲击原理：超声波的高频声波形成在清洗物体表面上的弹性冲击，从而使污垢、污渍和灰尘等剥离物体表面，同时具有表面粗糙，改善物体表面光滑度。
2. 声液化原理：当超声波穿透清洗液时，它会将液体中的微小气泡（称为超声波泡沫）激活和膨胀，产生巨大的压力，从而使污垢和污渍被吸收、溶解和分解，将污垢物化学分解，从而提高清洗效率。
3. 冲力下沉原理：超声波传递的冲击力，会使清洗物体向下沉移，而物体上的污垢和污渍会随着物体的下沉而被捕捉和清洗。
4. 物理冲洗原理：超声波的高频声波，可以形成一个可调整的液体射流，具有更强的冲力，可以根据需要调整清洗强度，以便用于清洗工业和家用产品上的污垢和污渍。
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超声波清洗机漂洗原理
超声波清洗机漂洗的原理
超声波清洗机漂洗的原理是基于超声波的振动作用。
当超声波清洗机工作时，超声波
发生器产生高频振动，通过换能器传递给清洗液。
这种振动使得清洗液中的微小气泡
受到周期性的压缩和扩张，形成“空化效应”，进一步增强了对被清洗物品表面的冲
击和刷洗作用，促使污渍从物体表面脱离。
在超声波的作用下，清洗液中的微小气泡会迅速扩张和收缩，形成一个局部的极高温
高压环境。
这种高温高压环境可以使得被清洗物品表面的污渍更容易被软化和剥离，
从而达到清洗的目的。
超声波清洗机中的清洗液可以与被清洗物品表面的污渍发生化学反应，从而将其分解
或溶解。
这种化学反应可以是酸碱反应、氧化还原反应或络合反应等，根据不同的污
渍类型和清洗液配方，可以选择适当的化学反应进行清洗。
超声波在清洗液中产生的高频振动会使得清洗液局部产生热量，提高清洗液的温度。
这种热能作用可以加速污渍的溶解和分解，同时也可以增强清洗液的渗透和扩散能力，进一步提高清洗效果。
超声波清洗机中的清洗液在振动作用下会产生流动冲刷作用。
这种流动冲刷可以带走
被清洗物品表面的污渍和杂质，并将其带离物体表面，从而达到清洗的目的。
同时，
流动冲刷还可以促进清洗液与被清洗物品表面的充分接触，提高清洗效果。
超声波清洗机漂洗的原理主要包括超声波振动、空化作用、化学反应、热能作用和流
动冲刷等方面。
这些原理相互作用，共同完成超声波清洗机的漂洗工作。
超声波清洗的原理
超声波清洗的原理
超声波清洗是一种利用超声波在液体中产生的高频振动来清洗物体表面的技术。
它主要通过超声波的作用产生的“空化”现象和“微流”效应来实现清洁作用。
超声波清洗技术已经在多个领域得到广泛应用，包括电子、医疗、汽车、航空航天等行业。
超声波清洗的原理可以简单地理解为，当超声波传播到液体中时，会产生高频
振动，这种振动会在液体中形成微小的气泡，这些气泡在不断地形成和破裂过程中，产生了高温、高压和强大的冲击力，从而将附着在物体表面的污垢和杂质去除。
在超声波清洗过程中，超声波的频率和功率是影响清洗效果的重要参数。
一般
来说，超声波的频率越高，清洗效果越好，因为高频率的超声波能够产生更小的气泡，从而更容易进入到微小的孔隙中进行清洗。
而超声波的功率则决定了清洗的强度，功率越大，清洗效果也越好。
另外，超声波清洗还可以通过添加适当的清洗剂来提高清洗效果。
清洗剂可以
降低液体的表面张力，使得气泡更容易形成和破裂，同时也可以改变液体的化学性质，加速清洗过程。
除了上述原理外，超声波清洗还可以利用“微流”效应来实现清洗。
当超声波
传播到液体中时，会产生复杂的微小涡流和湍流，这些微流可以将附着在物体表面的污垢和杂质冲刷掉，从而实现清洗的目的。
总的来说，超声波清洗的原理是利用超声波在液体中产生的高频振动和“微流”效应来清洗物体表面。
通过合理调节超声波的频率、功率和添加适当的清洗剂，可以实现高效、快速、无损的清洗效果。
这种清洗技术已经成为现代工业生产中不可或缺的重要技术手段，为提高生产效率和保障产品质量发挥着重要作用。
超声波清洗的基本原理
超声波清洗的基本原理
超声波清洗技术是一种新型的清洗技术，它是利用超声波在
液体中的空化作用、瞬间能量释放和化学作用等多种物理作用和
化学作用，来达到清洗目的的。
超声波清洗技术是目前最先进的
清洗技术，在欧美、日本等发达国家已得到广泛应用。
超声波清洗技术是通过超声振动来完成的。
由于超声波频率
高达几千赫兹，其传播时所产生的声压达到惊人的地步。
一般液体的声压级可达到几千伏，所以当声波传到液体中时，液体中的微泡产生了振荡，这种微泡也就是人们常说的空化。
在
空化作用下，液体中产生无数个大小不等、方向不同的气泡，在
这些气泡中有许多微小气泡迅速生长而破裂，从而使污垢脱离清
洗对象。
超声波在液体中传播时会产生大量的空化气泡，这些气泡破
裂时产生巨大声压，可使污垢从基材件表面剥离下来。
所以这种
清洗方法就叫超声波清洗技术。
超声波清洗技术已经成为现代工业清洗最有效、最广泛、最
经济、最彻底的方法之一。
超声波清洗机是一种利用超声波来达
到清洁目的设备。
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超声波清洗原理
超声波清洗原理超声波清洗是一种利用超声波在清洗液中产生的微小气泡和液流对清洗物表面进行清洗的技术。
它利用超声波的高频振动作用于清洗液中，产生的超声波振动通过清洗液传导到清洗物表面，使其表面附着的污垢和杂质迅速脱落，从而达到清洗的目的。
超声波清洗具有高效、节能、环保等优点，在工业生产和实验室研究中得到了广泛应用。
超声波清洗的原理主要包括超声波振动原理、气泡振荡原理和微流动原理。
首先，超声波振动原理是指超声波在传播过程中，其高频振动能够使清洗液中的分子产生剧烈的振动，从而产生高温和高压的局部条件，使液体瞬间汽化形成微小气泡。
这些微小气泡在超声波的作用下不断增大和破裂，产生强烈的冲击力和吸附力，将清洗物表面的污垢和杂质迅速清除。
其次，气泡振荡原理是指清洗液中的微小气泡在超声波振动的作用下，会在液体中产生周期性的膨胀和收缩，这种振荡运动会产生局部的高温和高压，形成微小的爆炸，从而将污垢和杂质冲击脱落。
同时，气泡的振荡运动也会产生微小的液流，使清洗液在清洗物表面形成微小的液流层，加速清洗效果。
最后，微流动原理是指超声波在清洗液中产生的高频振动会引起液体分子的剧烈运动，形成微小的液流。
这种微小的液流在清洗物表面产生剥离和冲击作用，能够将污垢和杂质有效地清除。
同时，微小液流的形成也能够使清洗液更加均匀地分布在清洗物表面，提高清洗效果。
总之，超声波清洗利用超声波振动原理、气泡振荡原理和微流动原理对清洗物表面进行清洗，具有高效、节能、环保等优点。
它在电子、仪器、机械、医疗、化工等领域得到了广泛应用，成为现代清洗技术中的重要手段。
随着科技的不断发展，超声波清洗技术也将不断完善和创新，为各行各业提供更加高效、便捷的清洗解决方案。
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镀膜工艺与镀膜系统配置镀膜工艺与镀膜系统配置作者：弗兰克泽蒙（Frank Zimone，CEO of Denton ）等译者：美国丹顿设备有限公司北京代表处冯学丽我们认为：既然镀膜设备是为镀膜生产服务的，那么我们设计制造的镀膜系统就必须适应用户的生产工艺，而不是让用户改变生产工艺来适应我们的镀膜机。
------弗兰克泽蒙概要在过去的15-20年中, 光学薄膜镀制设备出现了令人瞩目的变化。
以前，一般的镀膜机都是纯人工操作，最先进的也只是半自动控制, 都必须依*高水平的操作人员来保证镀膜产品的一致性。
而现在，高质量的光学镀膜机已经是一个集成了系列智能化模块（子系统）的全自动系统。
这些智能模块（子系统）通常在多个微处理器的指令下结成局域网（LAN）, 而局域网又可并入整个工厂的自控系统。
用户经验的不断增加使他们对设备性能的要求也越来越苛刻，以至于我们现在不难发现用户在购买镀膜机的同时，还要求厂家提供相关工艺技术。
本文探讨的是当今光学镀膜系统中可采用的子系统及部件，以及镀膜工艺在部件选择和真空室配置等方面所起的决定性作用。
尽管其他技术日渐流行, 但鉴于物理蒸镀依然是目前适用性最强、应用最广泛的手段，因此本文中的讨论只涉及物理蒸镀技术。
I. 概述长期以来, 人们主要依*蒸镀法来镀制用于精密光学和眼视光学的电介质薄膜。
为加快基片的预清洁和薄膜生长过程中的改性，全世界数以千计的镀膜系统都采用电阻式热蒸发源和电子束蒸发源。
一些系统还同时采用颇具动能的离子源，与前两者搭配使用。
虽然用磁控溅射法镀制电介质薄膜在某些专业领域非常成功, 但由于生产成本居高不下，而且只能满足相对简单的工艺要求（溅射薄膜中的压力控制是过程限制参数），使得它的应用范围较窄，仅限于像建筑玻璃镀膜那样的高产量行业。
同样，二次离子束溅射法的应用也仅限于那些要求沉积率越低越好的工艺如：环形激光回转仪，波长多路分配（WDM）滤波器。
众所周知，多数的光器件的表面都是弯曲不平的，而蒸发所需的长距离同时有利于曲面镀膜的均匀。
结合高沉积率，现代控制与自动化技术（尤其是石英晶体沉积速率控制器和实时光学监控），蒸发系统为多种光学薄膜的镀制提供了切实可行的解决方案。
无论是规格尺寸还是工作性能，制造现代化蒸发镀膜系统所需部件和模块（子系统）的可选性都是有限的。
基本上我们可以将自动化、机械和控制三大部分地制造成本视为整个系统的固定成本，这是因为：1）这三部分的成本为系统成本的主要构成来源；2）而且不管系统大小，这三部分的成本基本不变。
以上两个因素导致了系统制造成本与系统产能的反比关系。
一般来讲，现代化蒸发系统的产能与制造成本呈几何量级的比例关系。
尽管镀膜系统制造厂家对此观点倍感欣慰，但如果从另一面来思考一下，我们就会发现一个同样显著的经济问题：即当价格降低时，系统产能发生大幅度下降，以至于系统的规格明显地小于最低标准尺寸（图1）。
目前，一台内容积175L以上,大抽速（空气抽速>1500升/秒），具有离子束辅助沉积功能（IBAD）的现代化镀膜设备的价值约为25万美金。
估计近期很难出现重大技术突破来大幅度降低现有成本。
在过去几年中，越来越多的用户要求镀膜系统制造厂家提供高性能的小规格、简便型光学镀膜系统，同时，用户对性能的要求不仅没有降低，反而有所提高，特别是在薄膜密度和保证吸水后光谱变化最小化等方面。
现在，系统的平均尺寸规格已经在降低，而应用小规格设备进行光学镀膜的生产也已经转变成为纯技术问题。
因此，选用现代化光学镀膜系统的关键取决于对以下因素的认真考虑：即，对镀膜产品的预期性能，基片的尺寸大小和物理特性以及保证高度一致性工艺所必需的所有技术因素。
II．光学性能－公差三角形要想保证镀膜产品的一致性，我们在开发镀膜系统时一定要确保系统的各个方面相互匹配，这不仅包括设计、工艺和机械、预期的性能指标，还要考虑制造过程中出现的可预见误差。
我们认为：既然镀膜设备是为镀膜生产服务的，那么我们设计制造的镀膜系统就必须适应用户的生产工艺，而不是让用户改变生产工艺来适应我们的镀膜机。
但遗憾的是，现在使用的许多镀膜系统都是后一种情况，例如，有些生产线上正在使用的是为其它应用而设计的镀膜机，甚至有些时候是厂家先制造出镀膜机然后再去寻找应用客户。
不管是何种情况，这样制造出的镀膜机都可能无法完全达到预期的功效，因而很难取得满意的结果。
涉及到真空室的选择和确定，我们认为有以下三个方面需要考虑，而这些问题又都是与系统的制造公差有关。
输入- 设计镀膜机的设计如同一道菜谱，它规定出了膜层结构、厚度和折射率等指标。
如果将以上设计指标严格复制到工艺/设备中，那么标准的输出结果就会达到预期的性能要求。
工艺- 设备在我们看来，工艺和设备也可以统称为按照设计输入实施标准输出功能的一个黑匣子。
实际上，工艺包括设备硬件，控制软件和一组使机器实现设计要求的指令。
在工艺/设备中存在着许多变量，而其中有些不可能被完全控制。
这些不可完全控制的变量提高了系统的制造公差，降低了控制膜层厚度的能力，造成标准输出相对于设计的偏差。
输出- 标准性能归根到底标准性能输出才是真正最重要的。
为了保证工艺的持久力，标准输出应在大多数时间内达到预期效果，即满足用户对薄膜光学性能和耐久性的具体要求。
我们必须认识到以上三个因素是相互依存的，孤立地看待其中任何一个方面都是不对的，这一点非常重要。
如果一个系统的设计和工艺/设备配合良好，那么不管制造公差如何，它都应该总是达到预期性能。
然而，如果三个因素中的任何一方发生变化，就必须同时考虑调整其他另两个因素来保证整个系统的协调。
例如，对系统工艺的升级会产生制造公差，而且系统越大产生的制造公差也就越大，这就需要改进设计或降低预期性能指标。
又比如，用户想提高预期产品性能而只是简单地改进了设计，从表面上看用户的目的好像已经达到了，但如果新的设计对膜的厚度很敏感，除非改变工艺来降低制造公差，否则产品不太可能长期达到新设的产品性能要求。
我们在评估工艺公差时必须考虑如下一些因素：厚度监控：设计中每一层膜厚的精度都受到控制仪器本身精度的限制，一般我们讲的控制仪器是石英晶体微量天平（QCM）或光学监控仪，或两者同时使用。
石英晶体微量天平的精确度大约是2%，而一个设计良好的光学监控仪，精度能达到千分量级。
膜厚的不均匀性：无论监控仪精度怎样，它也只能控制真空室里单点位置的膜厚，一般来讲是工件架的中间位置。
如果此位置的膜厚不是绝对均匀的，那么远离中心位置的基片就无法得到均匀的厚度。
虽然屏蔽罩能消除表现为长期的不均匀性，但有些膜厚度的变化是由蒸发源的不稳定或膜材的不同表现而引起的，所以几乎是不可能消除的，但对真空室的结构和蒸发源的恰当选择可以使这些影响最小化。
时间变量：真空室里的沉积条件随着时间发生改变是常见的现象。
在一轮运行过中，蒸发源的特性会随着膜材的消耗而改变，尤其是设计中涉及多层镀膜时，如果工艺过程需持续数个小时，真空室的热梯度也会上升。
同时，当真空室内壁发生沉积变脏时，不同轮次的工效逐渐产生差异。
这些因素虽然是渐进的并可以进行补偿，但依然应该将其视为系统公差的一部分。
湿度转换：薄膜一般多孔，使得它们的属性在诸多方面低于块状材料。
其中一点就是在潮湿条件下，薄膜的微观空间充满水蒸汽，而在相对湿度降低时变干。
水分的存在与否改变了薄膜的有效折射指标，产生了众所周知的湿度转换现象，即薄膜的光谱改性。
沉积条件对镀膜的多孔性具有很大的影响：人们早就通过基片的高温（～300℃）来增加薄膜的密度。
而近年来，离子束辅助沉积（IBAD）法也被用来在环境温度下提高基片的密度。
显然，对设备/工艺因素的考虑不应仅仅停留在部件基本功能的水平。
在考虑基材的基本成分之外，还应考虑工艺设计上的元素。
对每一部件的选择都应首先仔细评估其对制造误差和工艺控制的影响。
III. 系统考虑因素要设计一套能满足特定性能指标的现代镀膜系统，需要考虑的问题如此繁多而复杂，以至于不知从何入手。
我们建议最好首先考虑膜层的预期性能要求和被镀基片的本质特性，然后根据以上两个问题的结论展开设计工作。
首先，镀膜设计包括预期薄膜应具有的光学和机械特性，这些特性是选择膜材、蒸发源的类型以及镀膜条件的基础；其次，要保证生产的一致性，程度控制(对光学膜厚的控制)是关键，它往往决定膜厚监控仪、基片转速以及蒸发源布局的选择。
同时，基片本身对选择过程的影响是不可忽视的，因为有些材料无法加热，且基片的尺寸和形状又往往决定旋转系统的类型和均匀屏蔽保护。
抽气系统真空机组的组成部件必须认真选择，以便在要求时间内达到预期的真空度。
有效抽速可以根据真空泵的规格和真空室的流导计算出来，但由于被抽气体中大部分都是水蒸汽，真空泵的停机就会受到系统对水汽抽速的限制。
所以在预见到被抽气体中含大量水汽时，一般会采用迈斯纳挡板来作为辅助的低温装置，用以提高系统对水汽的抽速。
低温泵具有高效，快速和清洁无油的特点，因而成为中小系统中高真空泵的理想选择。
大型真空室一般会有较大的热负载，这些热量来源于过程气体和热辐射，这会造成低温泵在冷却方面的困难。
低温冷却挡板与扩散泵的传统组合目前依然是最灵活的真空抽气机组，在大型系统中经常使用，特别是涉及到热处理工艺的时候。
对于粗真空泵的考虑也不能仅限于简单的抽速方面。
对于扩散泵机组来说，扩散泵的排气压强与机械泵的有效抽气压强之间存在空档，需要另外的抽气设备进行弥补。
而低温泵可以承受更高的压差，因此其前级采用机械泵就足够了，只是在水汽较重时应选用双级机械泵。
蒸发源蒸发材料最简单的方法就是将其放在筐状或舟状电阻式蒸发源内进行加热。
这些低压蒸发源简单、经济、可*，可以做成各种各样的大小、形状并具有不同的电特性，例如用来沉积金属薄膜的小线圈也许只需要50安培的电流，而沉积红外线滤波膜时，其膜层的厚度远大于可见光膜层，就需要用到高达1000安培的大容量蒸发舟。
很多材料不能用加热的形式蒸发，包括大多数常用于可见光和近红外（NIR）镀膜的绝缘材料，这种情况下，必须采用电子束枪。
电子枪有多种尺寸和类型可供选择，多坩埚电子枪可采用一个源对多种材料进行蒸发，这种枪在镀制多层膜且膜层较薄的工艺中应用效果很好。
当复杂的设计需要每种材料用量较大，或每个源都需要占用不同的位置时，可以选用单坩埚电子枪。
电源的大小更多地取决于蒸发材料的导热性，而不是其蒸发温度。
电源功率一般在4KW到10KW之间，对于大多数的绝缘材料，4KW就足够了；而如果想达到很高的沉积率，或在一个很大的真空室内对导热材料进行蒸发时，也许需要10K W甚至更大功率的电源。
要保持电子枪蒸发绝缘材料的稳定性，最重要的是要拥有一个高品质的束流扫射控制器。
传统的束流扫射控制器基本采用模拟波形，它可以从横纵双向驱动电磁束，还可以调节振幅和频率。