抛光粉
稀土抛光粉成份
稀土抛光粉成份1. 引言稀土抛光粉是一种常用的磨料材料，广泛应用于金属、陶瓷、玻璃等材料的表面抛光和修整。
本文将对稀土抛光粉的成份进行详细介绍，包括其主要成分、制备方法以及应用领域等方面。
2. 主要成分稀土抛光粉的主要成分是稀土氧化物，主要包括氧化铈、氧化镨、氧化钕等。
这些稀土元素具有良好的化学活性和物理性质，能够有效地与被抛光材料发生反应，实现表面的修整和抛光效果。
稀土抛光粉还可能添加少量的助剂和填料，以改善其物理性能和加工性能。
常见的助剂包括硅酸盐、硅胶等，填料则可以选择氧化铁、氧化锆等材料。
3. 制备方法稀土抛光粉的制备方法多种多样，下面介绍其中两种常见的制备方法：3.1 水热法水热法是一种常用的制备稀土抛光粉的方法。
具体步骤如下：1.将适量的稀土氧化物和助剂按照一定比例混合均匀；2.加入适量的水溶液，形成混合物；3.将混合物置于高温高压容器中，进行水热反应；4.反应结束后，将得到的沉淀物进行过滤、洗涤和干燥处理，最终得到稀土抛光粉。
3.2 共沉淀法共沉淀法是另一种常见的制备稀土抛光粉的方法。
具体步骤如下：1.将适量的稀土氧化物和助剂按照一定比例溶解在酸性溶液中；2.加入适量的沉淀剂，使稀土元素与沉淀剂发生反应生成沉淀物；3.进行搅拌、静置等处理，促使沉淀物充分析出；4.将得到的沉淀物进行过滤、洗涤和干燥处理，最终得到稀土抛光粉。
4. 应用领域稀土抛光粉具有广泛的应用领域，主要包括以下几个方面：4.1 金属材料抛光稀土抛光粉可以用于金属材料的抛光和修整，如不锈钢、铝合金等。
它能够有效去除金属表面的划痕和氧化层，提高金属材料的表面光洁度和美观度。
4.2 陶瓷材料抛光稀土抛光粉也可以用于陶瓷材料的抛光和修整，如陶瓷砖、陶瓷器皿等。
它能够使陶瓷表面更加平滑细腻，增加其装饰效果。
4.3 玻璃材料抛光稀土抛光粉在玻璃制造工艺中也有广泛应用。
它能够去除玻璃表面的毛刺和气泡，提高玻璃的透明度和质感。
4.4 其他领域应用除了上述应用领域外，稀土抛光粉还可以在电子、光学、化工等领域得到应用。
抛光粉的种类及抛光效果分析
抛光粉的种类及抛光效果分析一．抛光粉的总类：抛光粉通常由氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化铈等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。
氧化铝和氧化锆的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化硅为7，氧化铁更低。
氧化铈与硅酸盐玻璃的化学活性较高，硬度也相当，因此广泛用于玻璃的抛光。
二．对抛光粉的基本要求：（1）微粉粒度均匀一致，在允许的范围之内；（2）有较高的纯度，不含机械杂质；（3）有良好的分散性，以保证加工过程的均匀和高效，可适量添加分散剂提高悬浮率；（4）粉末颗粒有一定的晶格形态，破碎时形成锐利的棱角，以提高抛光效率；（5）有合适的硬度和密度，和水有很好的浸润性和悬浮性，因为抛光粉需要与水混合粒度越大的抛光粉，磨削力越大，越适合于较硬的材料，要注意的是，所有的抛光粉的颗粒度都有一个分布问题，平均粒径或中位径D50的大小只决定了抛光速度的快慢，而最大粒径Dmax决定了抛光精度的高低。
因此，要得到高精度要求，必须控制抛光粉的最大颗粒。
普通抛光粉之所以存在划伤，就是有大颗粒的原因。
所以一般选择粒径分布范围窄的纳米抛光粉（VK-L300F）。
抛光过程中浆料的浓度决定了抛光速度,浓度越大抛光速度越高。
使用小颗粒抛光粉时，浆料浓度因适当调低以得到合适的流动性，一般建议在7-10%三．抛光模的选择抛光模应该用软一点的。
应该指出的是，很多聚氨酯抛光片中添加了氧化铈抛光粉。
这些抛光粉的最大颗粒度同样决定了最终的抛光精度。
一般最好使用不加抛光粉的抛光模。
四．影响抛光粉性能的指标1、粉体的粒度大小：颗粒的大小及均匀度决定了抛光速度和精度，过筛的筛网目数能掌握粉体相对的粒度的值，平均粒度决定了抛光粉颗粒大小的整体水平。
2、粉体莫氏硬度：硬度相对大的粉体具有较快的切削效果，同时添加一些助磨剂等等也同样能提高切削效果；不同的应用领域会有很大出入，包括自身加工工艺。
3、粉体悬浮性：好的抛光粉要有较好的悬浮性，粉体的形状和粒度大小对悬浮性能具有一定的影响，纳米粒径的抛光粉的悬浮性相对的要好一些，所以精抛一般选择纳米抛光粉。
FO抛光粉是什么
现在由于一些行业的需要，一种专业的抛光粉被应用于研磨和精密加工行业，这种独特性质的“FO”专用微粉，目前已经占领大部分的市场，而且其种类有很多，但是基本上都是由氧化铈、氧化铝、氧化硅等成分组成，下面来做进一步的了解。
“FO”抛光粉其实就是我们磨料行业里既能冶炼碳化硅、棕刚玉、白刚玉、单晶刚玉、高铝刚玉、磨料加工、微粉生产的一种磨料，其中白刚玉就是一种比较好的抛光粉。
其中白刚玉由优质氧化铝粉末制成，熔炼温度超过2000度。
它具有高纯度，良好的自锐性，耐酸碱腐蚀性，耐高温性和稳定的热性能。
硬度略高于棕刚玉，韧性略低于棕刚玉。
硬度高，颗粒密度高，单颗粒圆度好，白色白色，无杂质，保证耐磨层或耐磨纸的颜色和透明度，粒度分布均匀分布，单颗粒形状均匀，具有可以实现最小量的最大耐磨性。
“FO”产品的生产工艺、技术条件要求特殊、实属一项高新技术产品。
产品附加值很高，同时，也是其他产品不可替代的一种绝妙产品。
该产品投产后，凡国内使用进口“FO”产品的企业，完全可以使用国产的。
国产的“FO”产品质量更加稳定，使用效果更佳。
并可大幅度降低生产成本，这无疑是使用“FO”产品的企业的一个最大福音。
关于FO抛光粉的相关介绍就这么多了，感谢大家的关注，如果还有疑问的话可以找到相关的厂家来进一步询问。
玻璃抛光粉使用方法
玻璃抛光粉使用方法
嘿，其实超简单！先把玻璃表面清洁干净，可不能有灰尘啥的，这就好比你要化妆总得先把脸洗干净吧！然后把抛光粉倒在柔软的布上，轻轻擦拭玻璃。
注意哦，可别太用力，不然玻璃会被刮花，那可就悲催啦！力度就像抚摸小猫咪一样温柔。
这过程安全不？那当然啦！只要你按照正确方法来，一点问题都没有。
就像走在平坦的大路上，稳稳当当。
稳定性也杠杠的，不会突然出啥幺蛾子。
那它都啥应用场景呢？家里的玻璃家具、窗户玻璃，还有汽车玻璃都能用。
优势可多啦！能让玻璃变得亮晶晶，就像新的一样。
哇塞，这效果谁能不爱呢？
我给你说个实际案例哈。
我朋友家的旧窗户玻璃，用了玻璃抛光粉之后，简直焕然一新。
之前那玻璃灰蒙蒙的，看着就闹心。
用了抛光粉之后，哇，那叫一个透亮，阳光都能更好地照进来啦！
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抛光粉的种类
日前抛光粉的种类繁多，但运用最广、工艺最成熟、综合使用权效果较好的抛光粉为铈—稀土氧化物抛光粉，按其氧化铈含量的不同，铈—稀土抛光粉一般分为三类：
1.高铈抛光粉，含氧化铈95%以上，浅黄色，比重在7.3左右，主要用于古典法抛光和高精度加工。
也有很多厂家用于高速抛光。
2.富铈抛光粉，含氧化铈70%~85%之间，黄色或褐色，比重在6.5左右，适于高速抛光。
3.混合稀土抛光粉，含氧化铈40%~60%之间，通常呈红色或褐红色，大量用于显像管玻璃的抛光、眼镜片抛光和平板玻璃的抛光中，质量优异者也用于光学玻璃的加工。
随着抛光方式的不同，所选用的抛光粉也有区别，古典抛光时，宜选用二氧化铈含量较高的抛光粉，通常富铈抛光粉都含用一定的添加剂，如果应用于古典抛光，往往会起到相反的作用。
同时，部分抛光粉为了追求抛光效率，可能会混入较高含量的氧化物进行生产，使用这一类抛光粉时有可能对操作者的皮肤和骨骼造成伤害。
每一种抛光粉都有合适的抛光浓度，尝试过大或过小，都会使抛光质量受到影响，一般常用的抛光深度为3%~5%，浓度过高，往往抛光表面容易产生路子。
抛光粉的国标
抛光粉的国家标准如下：
1. 颜色：抛光粉的颜色应符合规定，并均匀一致。
2. 杂质：抛光粉中不允许混有与产品颜色不同或不相容的杂质。
3. 颗粒度：抛光粉的颗粒大小应均匀，符合规定要求。
4. 酸不稳定性：抛光粉应具有在酸性条件下不产生变化的特点。
5. 耐热性：抛光粉应能经受住一般工艺过程中所涉及到的温度。
6. 粘着力：抛光粉应能使制品表面达到一定光泽而又不粘绸，其粘着力必须适当。
7. 无毒、无害：抛光粉应无有害物质，对人体无毒、无害。
在生产过程中，抛光粉的质量也需要符合相关规定，如色差、颗粒度、含泥量、杂质等指标。
同时，生产过程应符合环保要求，无有毒有害物质产生或排放。
具体到包装标识要求，抛光粉应有生产厂家的名称和生产日期或批号，并标明产品名称、用途、使用方法、执行标准、净重、保质期、无毒无害标志等。
对于进口抛光粉，还需要有中文的标签说明。
总的来说，抛光粉的国家标准是综合考虑了颜色、颗粒度、酸不稳定性、耐热性、粘着力、无毒无害等多方面的要求，以确保其质量和安全性。
稀土抛光粉生产工艺
稀土抛光粉生产工艺
稀土抛光粉是一种用于金属材料表面抛光的粉末材料，具有较好的磨削和抛光效果。
下面将介绍稀土抛光粉的生产工艺。
稀土抛光粉的生产工艺主要包括原料准备、研磨、筛分和包装等环节。
首先是原料的准备。
稀土抛光粉的主要原料是稀土元素和其他辅助材料。
稀土元素是指镧系元素，包括镧、铈、镨、钕等。
这些稀土元素可以通过矿石分离提取得到。
辅助材料主要包括粘结剂、助剂和填充剂等，用于增加稀土抛光粉的附着力和稳定性。
接下来是研磨。
将精细的稀土矿石与辅助材料按一定比例混合，然后通过研磨设备进行研磨。
研磨过程中，稀土矿石和辅助材料会互相碰撞和摩擦，使得颗粒逐渐变得更加细小。
研磨时间需要根据具体情况来调整，以保证得到的稀土抛光粉粒径均匀一致。
研磨后，需要进行筛分。
筛分是将研磨后的材料进行粒径分级和分离。
通过不同规格的筛网，将粉末分为不同粒径的级别，确保稀土抛光粉的颗粒大小符合要求。
这能提高稀土抛光粉的使用效果。
最后是包装。
将筛分后的稀土抛光粉进行包装。
包装主要是为了保护稀土抛光粉，并便于储存和使用。
一般可以选择密封包装，以防止潮气和杂质的进入。
需要注意的是，稀土抛光粉的生产过程需要控制好每个环节的参数，如研磨时间、筛分规格等，以保证产品的质量和效果。
同时，生产过程中要注意安全和环保，减少对环境的污染。
总之，稀土抛光粉的生产工艺包括原料准备、研磨、筛分和包装等环节。
通过合理控制每个环节的参数和过程，可以制备出质量稳定且具有良好抛光效果的稀土抛光粉。
抛光粉知识讲义
抛光粉知识讲义抛光粉是抛光工序使用的主要材料之一，它的性能以及与其它工艺条件的合理匹配对抛光零件的加工效率和表面质量都有重要影响。
一、抛光粉的作用和种类：在抛光过程中抛光粉有两种作用，即机械作用和胶体化学作用。
这两种作用是同时存在的，在抛光开始阶段，抛光粉首先去除玻璃表面凸凹层。
这时机械作用占主要地位。
但玻璃呈现抛光面后大量抛光粉颗粒开始与玻璃表面进行分子接触，由于抛光粉具有一定的化学活性即具有强烈晶格缺陷各质量的联系能量较大，通过化学吸附作用把玻璃表面分子吸附出来使玻璃材料被出除，抛光粉的作用与其种类和性能相关。
其一是抛光粉颗粒的坚硬特性。
在模具与机床的作用下，对玻璃表面的硅胶层进行微小的切削使玻璃露出新表面进而得以水解。
其二是抛光粉颗粒表面的吸附特性使硅胶层分子级程度被抛光粉吸附而剥落。
两种作用在抛光粉使用寿命中自始至终存在。
都是以尖硬的磨料颗粒对玻璃表面进行微小切削作用的结果，但由于抛光是用较细颗粒抛光粉。
所以微小切削作用可以在分子大小范围内进行，由于模具与工件表面相当吻合因此抛光时切向力特别大，从而使玻璃表面的微痕结构被切削掉逐渐形成光滑的表面。
二、抛光粉的构成：抛光粉的基本成分是一些金属氧化物，如铁、铈、铝、锆、钛、铬等金属氧化物（常用氧化铈）它们经高温焙烧冷却分选而成。
抛光粉的晶格结构有斜方晶体系、立方晶体系、单斜晶体系，颗粒形状有形成球形、边缘有絮状物，有形成多边形，棱角明显还有粉末状。
三、抛光粉的特性：a)抛光粉直接作用于玻璃表面，其粒度和硬度对机械磨削作用都有重要影响，抛光粉粒度在一定范围内，粒度愈大研磨速度越高，抛光粉的硬度越大抛光效率越高，大颗粒的抛光粉虽然有利于机械磨削作用但有效面积小效率并不高，反之抛光粉颗粒太小虽有效表面大但不利于微小切削作用抛光效率也不高。
b)水与玻璃表面的硅酸盐起水解反应，使玻璃表面的碱金属或碱土金属溶解出来生成氢氧化物使用权抛光液变成碱性，玻璃是否容易抛光取决于表面水解后生成的腐蚀层，抛光速度则决于破坏层腐蚀层的难易程度，一般来讲大多数光学玻璃是不耐碱，至于耐酸的程度则视光学玻璃的牌号而异，酸度较大时对玻璃的侵蚀严重。
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稀土抛光粉的发展现状及应用一项目的背景情况抛光粉通常由氧化铈、氧化铝、氧化硅、氧化铁、氧化锆、氧化铬等组份组成，不同的材料的硬度不同，在水中的化学性质也不同，因此使用场合各不相同。
氧化铝和氧化铬的莫氏硬度为9，氧化铈和氧化锆为7，氧化铁更低。
铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一。
因其具有切削能力强，抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，故比其他抛光粉（如Fe2O3红粉）的使用效果佳，而被人们称为“抛光粉之王”。
目前该产品在我国发展较快，应用日广，产量猛增，发展前景看好。
1.1 稀土抛光粉的发展过程红粉（氧化铁）是历史上最早使用的抛光材料，但它的抛光速度慢，而且铁锈色的污染也无法消除。
随着稀土工业的发展，于二十世纪30年代，首先在欧洲出现了用稀土氧化物作抛光粉来抛光玻璃。
在第二次世界大战中，一个在伊利诺斯州罗克福德的WF和BarnesJ公司工作的雇员，于1943年提出了一种叫做巴林士粉（Barnesite）的稀土氧化物抛光粉，这种抛光粉很快在抛光精密光学仪器方面获得成功。
由于稀土抛光粉具有抛光效率高、质量好、污染小等优点，激起了美国等国家的群起研究。
这样，稀土抛光粉就以取代传统抛光粉的趋势迅速发展起来。
国外于60年前开始生产稀土抛光粉，二十世纪90年代已形成各种标准化、系列化的产品达30多种规格牌号。
目前，国外的稀土抛光粉生产厂家主要有15家（年生产能力为200吨以上者）。
其中，法国罗地亚公司年生产能力为2200多吨。
是目前世界上最大的稀土抛光粉生产厂家。
美国的抛光粉年产量能力达1500吨以上。
日本生产稀土抛光粉的原料采用氟碳铈矿、粗氯化铈和氯化稀土三种，工艺上各不相同。
日本稀土抛光粉的生产在烧结设备和技术上均具特色。
1968年，我国在上海跃龙化工厂首次研制成功稀土抛光粉。
随后西北光学仪器厂、云南光学仪器厂相继采用独居石为原料，研制成功不同类型稀土抛光粉。
北京有色金属研究总院、北京工业学院等单位于1976年研制并推广了739型稀土抛光粉，1977年又研制成功了771型稀土抛光粉。
1979年甘肃稀土公司研制成功了797型稀土抛光粉。
目前国内已有14个稀土抛光粉生产厂家（年生产能力达30吨以上者），最大的一家年生产能力为2220吨（包头天骄清美稀土抛光粉有限公司）。
但与国外相比仍有较大差距，主要是稀土抛光粉的产品质量不稳定，未能达到标准化、系列化，还不能完全满足各种工业领域的抛光要求，因此必须迎头赶上。
1.2 稀土抛光粉的组成及分类1.2.1 以稀土抛光粉中CeO2量来划分：稀土抛光粉的主要成分是CeO2，据其CeO2量的高低可将铈抛光粉分为两大类:一类是CeO2含量高的价高质优的高铈抛光粉，一般CeO2/TREO≥80%，另一类是CeO2含量低的廉价的低铈抛光粉，其铈含量在50%左右，或者低于50%，其余由La2O3，Nd2O3，Pr6O11组成。
对于高铈抛光粉来讲，氧化铈的品位越高，抛光能力越大，使用寿命也增加，特别是硬质玻璃长时间循环抛光时(石英、光学镜头等)，以使用高品位的铈抛光粉为宜。
低铈抛光粉一般含有50%左右的CeO2，其余50%为La2O3?SO3，Nd2O3?SO3，Pr6O11?SO3等碱性无水硫酸盐或LaOF、NdOF、PrOF等碱性氟化物，此类抛光粉特点是成本低及初始抛光能力与高铈抛光粉比几乎没有两样，因而广泛用于平板玻璃、显像管玻璃、眼镜片等的玻璃抛光，但使用寿命难免要比高铈抛光粉低。
1.2.2以稀土抛光粉的大小及粒度分布来划分：稀土抛光粉的粒度及粒度分布对抛光粉性能有重要影响。
对于一定组分和加工工艺的抛光粉，平均颗粒尺寸越大，则玻璃磨削速度和表面粗糙度越大。
在大多数情况下，颗粒尺寸约为4μm的抛光粉磨削速度最大。
相反地，如果抛光粉颗粒平均粒度较小，则磨削量减少，磨削速度降低，玻璃表面平整度提高，标准抛光粉一般有较窄的粒度分布，太细和太粗的颗粒很少，无大颗粒的抛光粉能抛光出高质量的表面，而细颗粒少的抛光粉能提高磨削速度。
此外，稀土抛光粉也可以根据其添加剂的不同种类来划分，稀土抛光粉生产技术属于微粉工程技术，稀土抛光粉属于超细粉体，国际上一般将超细粉体分3种：纳米级(1nm～100nm);亚微米级(100nm～1μm);微米级(1μm～100μm)，据此分类方法，稀土抛光粉可以分为：纳米级稀土抛光粉、亚微米级稀土抛光粉及微米级稀土抛光粉3类，通常我们使用的稀土抛光粉一般为微米级，其粒度分布在1μm～10μm之间，稀土抛光粉根据其物理化学性质一般使用在玻璃抛光的最后工序，进行精磨，因此其粒度分布一般不大于10μm，粒度大于10μm的抛光粉(包括稀土抛光粉)大多用在玻璃加工初期的粗磨。
小于1μm的亚微米级稀土抛光粉，由于在液晶显示器与电脑光盘领域的应用逐渐受到重视，产量逐年提高。
纳米级稀土抛光粉目前也已经问世，随着现代科学技术的发展，其应用前景不可预测，但目前其市场份额还很小，属于研发阶段。
1.3 抛光粉的生产原料目前，我国生产铈系稀土抛光粉的原料有下列几种：(1)氧化铈(CeO2)，由混合稀土盐类经分离后所得(w(CeO2)=99%)；(2)混合稀土氢氧化物(RE(OH)3)，为稀土精矿(w(REO)≥50%)化学处理后的中间原料(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)；(3)混合氯化稀土(RECl3)，从混合氯化稀土中萃取分离得到的少铕氯化稀土(主要含La，Ce，Pr和Nd，w(REO)≥45%，w(CeO2)≥50%)；(4)高品位稀土精矿(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)，有内蒙古包头混合型稀土精矿，山东微山和四川冕宁的氟碳铈矿精矿。
以上原料中除第1种外，第2，3，4种均含轻稀土(w(REO)≈98%)，且以CeO2为主，w(CeO2)为48%～50%。
我国具有丰富的铈资源，据测算，其工业储量约为1800万吨（以CeO2计），这为今后我国持续发展稀土抛光粉奠定了坚实的基础，也是我国独有的一大优势，并可促进我国稀土工业继续高速发展。
1.4 主要生产工艺及设备1.4.1 高铈系稀土抛光粉的生产以稀土混合物分离后的氧化铈为原料，以物理化学方法加工成硬度大，粒度均匀、细小，呈面心立方晶体的粉末产品。
其主要工艺过程为：原料→高温→煅烧→水淬→水力分级→过滤→烘干→高级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备有：煅烧炉，水淬槽，分级器，过滤机，烘干箱。
主要指标：产品中w(REO)=99%，w(CeO2)=99%；稀土回收率约95%；平均粒经1μm～6μm(或粒度为200目～300目)，晶形完好。
该产品适用于高速抛光。
这种高铈抛光粉最早代替了古典抛光的氧化铁粉（红粉）。
1.4.2中铈系稀土抛光粉的制备用混合稀土氢氧化物(w(REO)=65%，w(CeO2)≥48%)为原料，以化学方法预处理得稀土盐溶液，加入中间体(沉淀剂)使转化成w(CeO2)=80%～85%的中级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为：原料→氧化→优溶→过滤→酸溶→沉淀→洗涤过滤→高温煅烧→细磨筛分→中级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备：氧化槽，优溶槽，酸溶槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，细磨筛分机及包装机。
主要指标：产品中w(REO)=90%，w(CeO2)=80%～85%；稀土回收率约95%;平均粒度0.4μm～1.3μm。
该产品适用于高速抛光，比高级铈稀土抛光粉进行高速抛光的性能更为优良。
1.4.3 低铈系稀土抛光粉的制备以少铕氯化稀土(w(REO)≥45%，w(CeO2)≥48%)为原料，以合成中间体(沉淀剂)进行复盐沉淀等处理，可制备低级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为：原料→溶解→复盐沉淀→过滤洗涤→高温煅烧→粉碎→细磨筛分→低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备：溶解槽，沉淀槽，过滤机，煅烧炉，粉碎机，细磨筛分机。
主要指标：产品中w(REO)=85%～90%，w(CeO2)=48%～50%；稀土回收率约95%；平均粒径0.5μm～1.5μm(或粒度320目～400目)。
该产品适合于光学玻璃等的高速抛光之用。
用混合型的氟碳铈矿高品位稀土精矿(w(REO)≥60%，w(CeO2)≥48%)为原料，直接用化学和物理的方法加工处理，如磨细、煅烧及筛分等可直接生产低级铈系稀土抛光粉产品。
其主要工艺过程为：原料→干法细磨→配料→混粉→焙烧→磨细筛分→低级铈系稀土抛光粉产品。
主要设备：球磨机，混料机，焙烧炉，筛分机等。
主要指标:产品中w(REO)≥95%，w(CeO2)≥50%；稀土回收率≥95%;产品粒度为1.5μm～2.5μm。
该产品适合于眼镜片、电视机显象管的高速抛光之用。
目前，国内生产的低级铈系稀土抛光粉的量最多，约占总产量的90%以上。
1.5 稀土抛光粉的应用由于铈系稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，所以在工业制品抛光中获得了广泛的应用，如已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光。
高铈系稀土抛光粉，主要适用于精密光学镜头的高速抛光。
实践表明，该抛光粉的性能优良，抛光效果较好，由于价格较高，国内的使用量较少。
中铈系稀土抛光粉，主要适用于光学仪器的中等精度中小球面镜头的高速抛光。
该抛光粉与高铈粉比较，可使抛光粉的液体浓度降低11%，抛光速率提高35%，制品的光洁度可提高一级，抛光粉的使用寿命可提高30%。
目前国内使用这种抛光粉的用量尚少，有待于今后继续开发新用途。
低铈系稀土抛光粉，如771型适用于光学眼镜片及金属制品的高速抛光;797型和C－1型适用于电视机显象管、眼镜片和平板玻璃等的抛光；H－500型和877型适用于电视机显象管的抛光。
此外，其它抛光粉用于对光学仪器，摄像机和照像机镜头等的抛光，这类抛光粉国内用量最多，约占国内总用量85%以上。
1.5 稀土抛光粉的市场在稀土抛光粉的消费中，日本是最大的消费者，每年约生产3550吨～4000吨抛光粉，产值35亿～40亿日元，还从法国、美国和中国进口部分抛光粉。
其中最大的抛光粉消费市场是彩电阴极射线管。
二十世纪90年代中期，日本阴极射线管的生产转向海外，而平面显示产品产量迅速增加，对铈基抛光粉的需求量也迅速增加。
估计日本在液晶显示用平面显示器生产上消费的抛光粉约占其市场的50%。
90年代以来，日本将其阴极射线管用抛光粉的生产技术和设备向海外转移，如:日本清美化学从1989年开始在海外生产阴极射线管用铈基抛光粉。
1989年在台湾建立了一家独资企业，1990年投入生产，目前的生产能力为每年1000吨。
1997年又与我国包头钢铁公司合资在包头建立了一家专门生产彩电阴极射线管、电子管和平板玻璃抛光用抛光粉的企业。
设计能力为每年1200吨，所用原料为高品位氟碳铈矿和富铈碳酸稀土。