多晶硅EDI设备清洗方案
多晶硅EDI设备清洗方案
多晶硅E D I设备清洗方案-CAL-FENGHAI-(2020YEAR-YICAI)_JINGBIANEDI设备清洗方案一、EDI的清洗方法：根据EDI的运行状态，EDI的清洗采用酸洗—消毒—碱洗的方法来清洗EDI模块。
1.清洗时，EDI的淡水室、浓水室和极水室都需要清洗。
即清洗液从“原水进”和”浓水进”清洗口进入EDI，从“产水”、“浓水出”、“极水出”回到清洗水箱。
(正洗)2.第一步酸洗：清洗水箱中配制% 盐酸溶液，循环30分钟。
冲洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，将水箱中水冲洗至中性，然后将清洗进和回流管清洗到回流水至中性。
第二步消毒碱洗：水箱中配制% NaOH+%NaCL 的溶液，循环50分钟。
冲洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至电导率降至100μs/cm以下。
警告：清洗过程中清洗压力最高不超过，膜块的电源禁止供电，清洗所需用水必须是RO或者EDI系统的产水。
二、清洗步骤：1.准备1)关闭EDI。
停止EDI运行，确定EDI模块的电源已被切断并把整流器转换钮转到“关闭”位置。
2)关闭下列阀门：原水进水阀、淡水产水阀、淡水冲洗排放阀、极水排放阀、浓水排放阀、浓水循环泵进出口阀。
3)将清洗水箱和相关的清洗管道清洗干净。
4)连接清洗管道。
把淡水产水、浓水排放、极水排放的清洗管线直接连接到清洗水箱上。
把原水进水、浓水进水清洗管线连接到EDI 系统的原水进水和浓水进水清洗接口上。
注意清洗管线必须牢固、紧密，以防止化学药品的喷溅。
2、浓水室酸洗1)约剂配制：在清洗水箱中注入大约1500L的反渗透产水作为溶剂，然后向其中缓缓加入大约60L (或73kg)37％的盐酸搅拌均匀配制成约%的盐酸溶液。
2)酸洗步骤(1)将清洗水泵出口软管连接到EDI系统浓水进口，EDI系统浓水出口用软管连接回流到清洗水箱，同时关闭EDI装置本身循环系统的进出阀门来避免药剂进入循环泵；(2)启动清洗泵以15m3/h（正常运行流速的一半）的流速循环清洗15分钟后停止清洗泵并关闭相应阀门让药剂在浓水室内浸泡15分钟左右，再次启动清洗泵循环清洗15分钟左右；(3)停止清洗并排净清洗箱和清洗泵；(4)浓水室冲洗：在清洗水箱中注入大约3000L反渗透水，启动清洗泵冲洗EDI浓水室，清洗流速约为15 m3/h（正常运行流速的一半），边冲洗边排放直到出水PH值接近7为止。
多晶硅生产设备安装前清洗建议书
多晶硅生产设备安装前清洗建议书多晶硅生产设备安装前清洗建议书一、概述多晶硅生产对环境及设备的清洁要求十分高。
生产工艺过程比较复杂。
尤其是塔器设备，对产品的质量影响极为重要。
为了保证一次性开车投产顺利，保证产品质量，在设备的安装过程中，对设备及管线等重要设备的清洗工作十分严谨。
在清洗过程中，使每个环节质量都达到标准。
避免开车质量事故的发生。
最大限度地降低调试费用，必须做好工艺设备和工艺管道安装前的清洗处理。
针对不同的工艺要求、不同的设备材质以及不同的设备类型，清洗处理要求和达到的基本标准（要求达到无油、无水与无尘的三无要求）也不同。
同时符合《脱脂工程施工及验收规范》和《工业设备化学清洗质量标准》并根据业主和成达公司的具体要求可分为一般清洗和洁净清洗。
多晶硅设备的清洗主要工艺为酸洗、脱脂、钝化、干燥等，其中最关键是脱脂工艺和干燥技术。
油脂和水对多晶硅的产品有巨大影响。
因此在多晶硅设备的清洗中，以脱脂工艺和干燥工艺为要点。
主要清洗还原炉、氢化炉、CDI设备、合成车间、还原氢化车间、精馏系统、中间罐、管道等主要设备。
并且为了保证脱脂和干燥的质量，多晶硅设备清洗需要对单台设备进行单台清洗并验收后，再进行安装。
二、污垢主要对多晶硅影响因素1、油脂：在多晶硅生产过程中，油分子对多晶硅的危害十分严重。
实际证明，整个工艺系统几ppm的油含量就可能造成多晶硅反应速度减慢，产量降低，甚至硅反应停止。
因此，多晶硅设备的脱脂工艺尤为重要。
2、水分：水中含有大量的氯离子，氯离子对多晶硅的反应十分敏感。
设备及系统干燥工艺很关键。
3、氯离子残留：水和其他溶液在设备表面残留的氯离子对多晶硅影响十分大。
因此，在清洗后对设备进行纯水冲洗工艺十分重要。
4、氧化物、灰尘其他杂质：其他污垢的存在，对多晶硅的生产影响也很大。
因此，在设备清洗过程中，采用酸洗工艺对其他污垢进行清洗十分必要。
三、国内大、中型化工生产装置清洗现状国外对设备、管道的清洗十分重视，有专门从事清洗的研究机构。
edi化学清洗流程
edi化学清洗流程EDI化学清洗流程一、引言化学清洗是指通过化学反应来去除或分解杂质、污染物等的过程。
EDI（Electrodeionization）即电极离子交换技术，是一种通过电场作用将水中的离子从水溶液中分离出来的技术，常用于水质处理和纯化过程中。
本文将介绍EDI化学清洗流程的具体步骤和注意事项。
二、EDI化学清洗流程1. 准备工作在进行EDI化学清洗前，需要进行一些准备工作。
首先，需要关闭EDI设备的进水和出水阀门，并将电源断开。
接着，需要排空EDI 设备中的水，并清除设备内可能存在的杂质和污染物。
此外，还需要检查EDI设备的运行状态和相关设备的连接情况，确保设备正常运行。
2. 制备清洗液制备清洗液是进行EDI化学清洗的关键步骤。
清洗液的配制需要根据具体的清洗目的和污染物种类来确定。
常用的清洗液包括酸性清洗液、碱性清洗液和氧化剂清洗液等。
在配制清洗液时，需要按照一定的比例将清洗剂和纯水混合，同时注意搅拌均匀，以确保清洗液的浓度和均匀性。
3. 清洗过程进行EDI化学清洗时，需要按照一定的步骤进行操作。
首先，将制备好的清洗液注入EDI设备中，并确保液位覆盖清洗膜。
接着，打开EDI设备的进水阀门，让清洗液均匀地流过清洗膜，进行清洗作用。
清洗时间的长短可以根据实际情况进行调整，一般建议清洗时间为1-2小时。
4. 清洗后处理清洗结束后，需要对EDI设备进行后续处理。
首先，关闭EDI设备的进水阀门，将清洗液排出。
然后，打开EDI设备的出水阀门，用纯水进行冲洗，以去除残留的清洗剂和杂质。
冲洗时间一般为30分钟左右。
最后，关闭EDI设备的出水阀门，并将电源接通，使设备恢复正常运行。
5. 检测和验证进行EDI化学清洗后，需要对清洗效果进行检测和验证。
常用的检测方法包括测量EDI设备的产水质量、测量设备的电导率和pH值等。
通过对清洗后的水质进行分析，可以评估清洗效果是否达到预期的要求。
如果清洗效果不理想，可以根据实际情况进行调整和再次清洗。
浅谈多晶硅生产中的设备清洗_朱顺云
青海科技2011年第5期5设备材料的选择由于金属氯化物的溶液显酸性，气态中有氯化氢的存在,设备材料的性质要有耐强腐蚀性。
通过氯碱工业的实际应用，钛及钛合金作为冷却器的材料是符合实际的。
在IM法制烧碱的装置中，金属纯钛主要用于制造电解槽阳极液系统的管道、分离器、循环槽、洗盐水储槽、湿氯系统和盐水脱氯系统中的部分设备，主要牌号是TA，其次是TA3。
钛是一种非常耐酸的金属，但其也有不足之处，在高温、高氯化物中，尤其是在Cl-存在下，会在设备的密闭面或缝隙处产生腐蚀，即所谓的缝隙腐蚀。
钛钯合金（Ti-0.15Pd）、Ti-0.3Mo-0.8Ni钛合金在缝隙腐蚀环境中具有良好的耐腐蚀性能，机械性能和化工性能优良，在有无氧的环境下都能够钝化，维持较正的电位而避免材料的腐蚀。
6技改前后的经济核算6.1技改前检修金属冷却器所投入的费用检修人数：10人；每月人均工资及各项保险费：3000元；每月人均防护用品费：350元；每月设备密封垫费用：600元/台，月检修30台，共计18000元；每年工业垃圾处理费：50000元。
单台设备费：106000元。
一年共需支出费用：10×3000×12+10×350×12+600×30×11+50000=650000元6.2技改后检修金属冷却器所投入的费用检修人数：5人；每月人均工资及各项保险费：3000元；每月人均防护用品费：300元；每月设备密封垫费用：100元/台，月检修30台，共计3000元；每年工业垃圾处理费：10000元。
单台设备费：360000元；单台辅助设备费：24000元。
一年共需支出费用：5×3000×12+5×300×12+100×30×11+10000=241000元6.3经济核算技改后一年节余费用：650000-241000=409000元；单台设备多投入费用：360000-106000=254000元；4台设备多投入费用：254000×4=1016000元；辅助设备费：54000元。
集成电路EDI超纯水设备清洗污垢方法
集成电路EDI超纯水设备清洗污垢的方法
集成电路EDI超纯水设备主要用用在电子制造业中的集成电路芯片生产领域上面，随着科技的发展，集成电路芯片成为电子产品中不能缺少的配件，在这种电子配件生产的过程中，必须使用超纯水作为流程中。
电子制造业对超纯水的使用量以及对用水质量的要求不低于医疗制药行业，因为电子产品生产的时候会用到超纯水，其用水质量的好坏直接关系着最终产品质量的好坏，因此电子制造企业绝大多数都会使用电路芯片EDI电除盐系统对原水进行处理，进而使得原水符合企业用水标准。
集成电路EDI超纯水设备清洗污垢方法
1、倒换电极。
可以有效地减轻膜及阴极上的水垢，一般水垢沉积在浓水室阴极表面上，倒换电极后，浓水室、淡水室相应倒换造成水垢的不稳定状态，因而可以减轻结垢。
2、酸洗。
是消除沉淀的有效方法，水垢积到一定程度，就需要进行酸洗，酸洗一般采用循环酸洗，浓水，淡水和极水室一次酸洗的方法。
3、碱洗。
酸洗不能取出有机沉淀物，对于这类污染层可以用碱性食盐水清洗，使有机物消除，碱洗可以利用酸洗系统进行，一般不另设装置。
4、定期拆洗。
采用上述方法不能回复除盐率时，应把EDI膜堆拆开清洗，重新组装一般1-1.5年电渗析需要拆洗一次。
集成电路芯片EDI电除盐系统采用的是最流行的EDI膜块制水工艺，最终出水电阻率能够达到18兆欧以上，与此同时，集成电路EDI电除盐系统的出水中还不会含有任何的细菌以及微生物，所以使用该种电路芯片EDI电除盐系统作为供水系统的企业的产品质量一定是符合标准的。
edi模块清洗保养方案
EDI模块的清洗保养方案主要包括以下步骤：●定期清洗EDI模块。
由于长期使用，水中的杂质会在EDI模块中积累，这可能会影响其正常产水。
因此，需要定期清洗，以恢复其正常产水状态。
●检查EDI模块的电极与膜片。
EDI模块中的浓水室和淡水室以及许多电极和膜片是其核心设备，需要定期检查以确保其正常状态。
●定期检查预处理装置。
预处理装置对进水水质要求较高，如果水质不合格可能会造成树脂污染，同时也会影响EDI模块的安全运行。
因此，需要定期检查预处理装置，确保其运行安全。
●定期检查EDI模块配套装置。
这些装置包括管道和闸阀等，当其出现泄漏或者堵塞时，将会严重影响纯水EDI模块的产水性能和产水水质。
因此，需要定期检查和维护这些装置。
●清洗进水电极。
每三月清洗一次进水电极，并使用去离子水冲洗干净。
●检查电极和膜片的安装情况。
检查电极和膜片的安装是否正确，是否有松动或漏装现象。
如有需要，可以重新安装或紧固。
●清洗淡水室和浓水室。
使用去离子水冲洗淡水室和浓水室，以去除其中的杂质和污染物。
●检查系统是否有泄漏。
检查整个EDI模块系统是否有泄漏，包括连接处和阀门等关键部位。
如有泄漏，需要进行修复。
●检查电源和电流是否正常。
检查电源是否稳定，电流是否在正常范围内。
如有异常，需要进行调整。
●清洗离子交换树脂。
使用去离子水清洗离子交换树脂，去除其中的杂质和污染物。
●检查系统是否正常运转。
检查整个EDI模块系统是否正常运转，包括产水、排水、清洗等环节。
如有异常，需要进行调整。
EDI模块清洗保养方案
EDI模块清洗保养方案EDI（Electronic Data Interchange，电子数据交换）是一种基于计算机网络的数据交换技术，广泛应用于企业间的信息交流和业务流程的优化。
为保证EDI模块的长期稳定运行和有效传输数据，需要进行清洗和保养。
下面是EDI模块清洗保养方案。
一、EDI模块清洗方案1.硬件清洗：(1)关闭电源，断开连接线。
(2)用软布蘸取少量酒精，轻擦EDI模块外壳，特别是插针处，清除灰尘和污渍。
(3)用专业的气压吹灰机，将灰尘吹净，注意不要吹到插槽和接口。
(4)用干净的软布擦干EDI模块外壳，确保无残留。
2.软件清洗：(1)检查EDI模块的操作系统版本，及时进行系统更新和安全补丁的安装，确保系统安全。
(2)清除无用的日志文件、临时文件和缓存文件，释放硬盘空间。
(3)定期进行磁盘碎片整理，优化磁盘性能。
(4)扫描和清除病毒、恶意软件和广告插件等，保证EDI模块的安全性。
二、EDI模块保养方案1.硬件保养：(1)定期检查EDI模块的电源插头和接口，确保连接牢固。
(2)定期检查EDI模块的散热器和风扇，清除灰尘和杂物，保证散热效果和风通畅。
(3)定期检查EDI模块的数据线和接口，确保无损坏和松动。
2.数据备份：(1)定期进行EDI模块数据的备份，保证数据安全性。
(2)存储备份数据的存储介质应具备防火、防水和防磁功能，放置在干燥通风的环境中。
3.系统监控：(1)定期检查EDI模块的运行状态，包括CPU使用率、内存使用率、磁盘空间使用率等指标，及时调整资源。
(2)定期检查EDI模块的网络连接状态，确保网络畅通。
4.定期更新技术文档：(1)定期更新EDI模块的技术文档，包括用户手册、安装指南、系统配置和应用场景等。
(2)建立技术文档的版本管理，确保文档的有效性和一致性。
5.培训和人员管理：(1)定期组织EDI模块的培训课程，提高操作人员的技术水平和应用能力。
(2)建立EDI模块操作人员的人员管理制度，包括权限管理、培训记录和绩效评估等，确保操作人员的稳定性和安全性。
EDI设备组件的清洗及维护
EDI设备组件的清洗及维护EDI设备,EDI装置,EDI系统注意事项：1. 在操作和维护坎贝尔TM EDI系统时必须始终遵守使用手册中的有关规定2. 该使用手册中文版与英文版有分歧时以英文版为准3. 必须完全理解本手册内容或经过相关技术培训才能操作坎贝尔TM EDI系统4. 对于不符合本手册要求所造成的损失，北京易蒂艾公司不承担任何责任5. 坎贝尔TM EDI模块在使用期间出现异常现象，用户不得自行拆装，应立即通知售后服务商6. 我们保留不断改进产品的权利，如有变动恕不另行通知离子交换膜和离子交换树脂的工作原理相近,可以使特定的离子迁移。
阴离子交换膜只允许阴离子透过，不允许阳离子透过;而阳膜只允许阳离子透过，不允许阴离子透过。
在一对阴阳离子交换膜之间充填混合离子交换树脂就形成了一个EDI单元。
阴阳离子交换膜之间由混合离子交换树脂占据的空间被称为淡水室。
将一定数量的EDI单元罗列在一起，使阴离子交换膜和阳离子交换膜交替排列，并使用网状物将每个EDI单元隔开，形成浓水室。
在给定的直流电压的推动下，在淡水室中，离子交换树脂中的阴阳离子分别在电场作用下向正/负极迁移，并透过阴阳离子交换膜进入浓水室，同时给水中的离子被离子交换树脂吸附而占据由于离子电迁移而留下的空位。
事实上离子的迁移和吸附是同时并连续发生的。
通过这样的过程，给水中的离子穿过离子交换膜进入到浓水室被去除而成为除盐水。
带负电荷的阴离子(例如OH-、Cl-)被正极(+)吸引而通过阴离子交换膜，进入到邻近的浓水室中。
此后这些离子在继续向正极迁移中遇到邻近的阳离子交换膜，而阳离子交换不允许其通过，这些离子即被阻隔在浓水中。
淡水流中的阳离子(例如Na+ 、H+)以类式的方式被阻隔在浓水中。
在浓水中，透过阴阳膜的离子维持电中性。
EDI组件电流量和离子迁移量成正比。
电流量由两部分组成，一部分源于被除去离子的迁移，另一部分源于水本身电离产生的H+和OH-离子的迁移。
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EDI设备清洗方案
一、EDI的清洗方法：
根据EDI的运行状态，EDI的清洗采用酸洗—消毒—碱洗的方法来清洗EDI模块。
1.清洗时，EDI的淡水室、浓水室和极水室都需要清洗。
即清洗液从“原水进”和”浓水进”清洗口进入EDI，从“产水”、“浓水出”、“极水出”回到清洗水箱。
(正洗)
2.第一步酸洗：清洗水箱中配制% 盐酸溶液，循环30分钟。
冲洗：清洗水箱中酸洗液放掉后，将水箱中水冲洗至中性，然后将清洗进和回流管清洗到回流水至中性。
第二步消毒碱洗：水箱中配制% NaOH+%NaCL 的溶液，循环50分钟。
冲洗：清洗水箱中消毒液放掉后，清洗EDI至水箱中回流水至电导率降至100μs/cm以下。
警告：清洗过程中清洗压力最高不超过，膜块的电源禁止供电，清洗所需用水必须是RO或者EDI系统的产水。
二、清洗步骤：
1.准备
1)关闭EDI。
停止EDI运行，确定EDI模块的电源已被切断并把整流器转换钮转到“关闭”位置。
2)关闭下列阀门：原水进水阀、淡水产水阀、淡水冲洗排放阀、极水排放阀、浓水排放阀、浓水循环泵进出口阀。
3)将清洗水箱和相关的清洗管道清洗干净。
4)连接清洗管道。
把淡水产水、浓水排放、极水排放的清洗管线直接连接到清洗水箱上。
把原水进水、浓水进水清洗管线连接到EDI 系统的原水进水和浓水进水清洗接口上。
注意清洗管线必须牢固、紧密，以防止化学药品的喷溅。
2、浓水室酸洗
1)约剂配制：在清洗水箱中注入大约1500L的反渗透产水作为溶剂，然后向其中缓缓加入大约60L (或73kg)37％的盐酸搅拌均匀配制成约%的盐酸溶液。
2)酸洗步骤
(1)将清洗水泵出口软管连接到EDI系统浓水进口，EDI系统浓水出口用软管连接回流到清洗水箱，同时关闭EDI装置本身循环系统的进出阀门来避免药剂进入循环泵；
(2)启动清洗泵以15m3/h（正常运行流速的一半）的流速循环清洗15分钟后停止清洗泵并关闭相应阀门让药剂在浓水室内浸泡15分钟左右，再次启动清洗泵循环清洗15分钟左右；
(3)停止清洗并排净清洗箱和清洗泵；
(4)浓水室冲洗：在清洗水箱中注入大约3000L反渗透水，启动清洗泵冲洗EDI浓水室，清洗流速约为15 m3/h（正常运行流速的一半），边冲洗边排放直到出水PH值接近7为止。
3)淡水室清洗消毒
l、药剂配制：在清洗水箱中注入大约1500L的反渗透产水作为溶剂，然后向其中缓缓加入大约75kg的氯化钠和15kg的固体氢氧化钠搅拌溶解均匀，配制成NaCl 5％／NaOH l％的混合溶液。
2、清洗消毒步骤
(1)将清洗水泵出口用软管连接到EDI系统淡水进口，EDI系统产水出口用软管连接回流到清洗水箱;
(2)启动清洗泵以大约30 m3/h（正常运行流速）的流速循环清洗15分钟后停止清洗泵并关闭相应阀门让药剂在淡水室内浸泡15分钟左右，再次启动清洗泵循环清洗15分钟左右；
(3)停止清洗并排净清洗箱和清洗泵；
(4)淡水室冲洗：在清洗水箱中注入大约3000L 反渗透水，启动清洗泵冲洗EDI淡水室，清洗流速约为30m3/h（正常运行流速），边冲洗边排放直到出水PH值接近7为止。
三、EDI系统试运行
切换所有管道，将系统调置到正常运行状态，启动EDI送水泵让整个系统正常运行30分钟左右，注意：此过程中整流器必须不供电，并且产水应排放掉。
四、安全注意事项
1.清洗前，操作人员应清醒地意识到清洗所用药品为强酸、强碱，所清洗膜块为比较娇贵的设备，对人身及设备的安全应引起高度重视。
2.在配制清洗液时，要特别注意化学药品的危险性并作好安全防护措施，避免引起人身伤害。
3.在清洗设备时，应严格按操作规程的有关规定进行操作，启动清洗泵前应认真检查系统切换正确，调整好清洗压力，在清洗过程中注意检查，避免造成设备伤害。
4.配制化学清洗液及清洗过程中，参与人员应配戴相应的化学防护用
品，如胶手套、防护眼镜、口罩等。
五、系统再生
按照启动程序再生EDI模块（此过程大约需要12－24小时)。
六、清洗药品及费用
1、盐酸（分析纯）100kg、氢氧化钠（分析纯）25kg、氯化钠（分析纯）100kg。
以上药品为危险化学品，所以由贵单位（四川永祥多晶硅有限公司）自己准备。
2、派遣清洗人员指导EDI 设备的清洗、再生、调试费用为元（贰万伍仟圆整）技术服务费用。
技术服务费用不出具任何发票，凭证以收款单位财务收据为准。
焦作道成流体化学有限公司
技术服务部
2014年10月9日。