常用的镀膜材料参数
望远镜镜片镀膜工艺参数
望远镜镜片镀膜工艺参数望远镜镜片镀膜工艺参数概述望远镜的性能取决于各个部件的设计与制造，其中镜片的质量和性能尤为重要。
为了提高镜片的光传输效率，减少反射和散射，人们通常对镜片进行镀膜处理。
镜片镀膜工艺参数是影响镜片性能的关键因素之一。
本文将就望远镜镜片镀膜的工艺参数进行全面评估，并探讨其对镜片性能的影响。
工艺参数1. 膜层材料选择：在望远镜镜片镀膜过程中，选择合适的膜层材料将直接影响到反射率和抗散射性能。
一般来说，金属（如铝）和氟化物（如氟化镁）是常用于光学镜片镀膜的材料。
金属膜具有较高的反射率，适用于镀膜反射镜；而氟化物膜则具有较低的反射率和良好的耐久性。
2. 膜层厚度：膜层的厚度决定了镜片的反射率和透过率。
通常情况下，较薄的膜层具有更低的反射率，但也会导致更高的散射。
相反，较厚的膜层具有更高的反射率，但也会减少透过率。
在选择镀膜厚度时需要权衡反射率和透过率之间的平衡。
3. 反射率波段：望远镜的工作波段决定了镜片镀膜的反射率要求。
对于可见光望远镜，通常要求在可见光波段内具有较低的反射率。
而对于红外望远镜，需要在红外波段内具有较高的透过率。
在确定望远镜的工作波段后，选择合适的材料和设计反射率成为非常重要的任务。
4. 镀膜层数：望远镜镜片的镀膜层数也是影响其性能的重要参数。
膜层数的增加可以显著改善镜片的透过率和反射率，但也会导致光束的相位差增加，从而降低成像质量。
在确定镀膜层数时需要综合考虑成像质量和光传输效率。
5. 衬底材料：衬底材料对镜片镀膜的性能也有一定影响。
一般情况下，选择光学衬底材料应满足一定的折射率、热稳定性和机械强度要求。
常用的衬底材料有玻璃、硅和纳米晶硅等。
影响因素及优化1. 光学参数优化：对于望远镜的镜片镀膜，光学参数的优化是关键。
通过精确的设计和计算，可以确定合适的膜层材料、厚度和层数，以提高镜片的透过率和反射率。
还需考虑镜片的颜色和多层膜之间的相位差等因素。
2. 设备优化：镀膜设备的性能和稳定性也是影响镜片镀膜效果的重要因素。
镀膜玻璃性能参数介绍
04
镀膜玻璃的力学性能
硬度
总结词
硬度是镀膜玻璃的重要性能参数之一，它决 定了玻璃的抗划痕和抗磨损能力。
详细描述
镀膜玻璃的硬度取决于其制造工艺和表面涂 层技术。硬度较高的镀膜玻璃能够更好地抵 抗划痕和磨损，保持长期的外观效果和使用 寿命。硬度的测试方法通常采用摩氏硬度计 进行测量，其数值越高，表示玻璃的硬度越 大。
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详细描述
镀膜玻璃的透光性取决于膜层的厚度和材料性质。较薄的膜层通常具有较高的透光率，使光线 能够更好地透过玻璃。透光率越高，玻璃的清晰度就越好，视野也更加清晰。
反射性
总结词
镀膜玻璃的反射性是指光线在玻璃表面反射的能力。
详细描述
镀膜玻璃的反射性能主要取决于膜层的反射率和表面粗糙度。高反射率的膜层可 以将光线有效地反射，减少光的透过，从而减少光线的热量进入室内。这种特性 使得镀膜玻璃在炎热的夏季能够有效地阻挡阳光，降低室内温度。
详细描述
镀膜玻璃的隔热性能主要得益于其表面的镀膜层。该镀膜层能够反射大部分太阳光，减少太阳光的透 射，从而降低室内温度。此外，镀膜玻璃还可以有效阻挡室内的热量向室外传递，保持室内凉爽。
耐热性
总结词
镀膜玻璃的耐热性是指其承受高温的能 力。
VS
详细描述
优质的镀膜玻璃具有良好的耐热性，能够 在较高的温度下保持稳定。这使得镀膜玻 璃在炎热的夏季或阳光直射下仍能保持良 好的性能和外观。此外，其耐热性还使其 适用于厨房、浴室等高温环境。
吸收性
总结词
镀膜玻璃的吸收性是指光线被玻璃吸收的能力。
详细描述
镀膜玻璃的吸收性能与膜层的材料有关。某些膜层可以吸收部分光线，减少光 的透过和反射。吸收性能对于控制光的透过和反射具有重要意义，可以影响玻 璃的整体光学性能。
镀膜玻璃的隔热特性及其参数
镀膜玻璃的节能特性及其参数一、概述现代建筑，不论是商厦还是住宅，都趋向于大面积采光。
但是，普通透明玻璃对太阳能辐射和远红外热辐射没有控制，其面积越大，夏季进入室内的热量越多，冬季室内散失的热量越多。
为此，必须对玻璃表面进行处理，于是产生了有节能功能的镀膜玻璃。
早期的镀膜玻璃主要是热反射镀膜玻璃（或称阳光控制膜玻璃），其作用是限制太阳能辐射直接进入室内。
用于建筑幕墙玻璃时，除具有亮丽的外观装饰效果外，还可降低冷气设备的运行费用。
但这种玻璃与普通玻璃一样，会吸收远红外热辐射而使其自身的温度升高，最终仍有相当部分的热能透过了玻璃，其隔热性能也受到了极大的限制。
选用什么材料？采用何种工艺镀膜才能有效地阻挡远红外热辐射？研究的结果诞生了低辐射镀膜玻璃（简称Low-E玻璃）。
这种玻璃的最大特点是将远红外热辐射反射出去，使其不能透过玻璃从而起到节能隔热的作用。
因此，目前世界上公认Low-E 玻璃是最理想的窗玻璃材料。
Low-E玻璃在国外已有近二十年的使用历史，我国因受到设备和生产工艺技术方面限制，同时也因节能观念的落后而起步较晚。
可喜的是，自南玻集团于1997年推出Low-E玻璃并在全国范围内大力推介后，目前已为众多设计师和用户所认同并采用。
规模化采用Low-E玻璃时代已经到来，这必将对我国的建筑节能材料应用产生影响并作出贡献。
关于镀膜玻璃，包括LOW-E玻璃的节能特性，已有许多文章或专著论述过，在大多数文章或企业的产品介绍中都列出了完整的参数，但理解这些参数须具备一定的专业知识。
对用户来说更关心的是：哪些参数与节能性直接相关？怎样才能区别不同玻璃之间节能性的优劣？如何根据这些参数选择适用的玻璃？本文拟深入浅出地回答这些问题。
二、热能的形式及窗玻璃组件的传热1、自然环境中的热能自然环境中的热能主要是太阳辐射能，其能量的98%分布在0.3至3µm波长之间。
除了太阳直接辐射的能量外（能量分布在），还存在着大量的远红外线热辐射能，其能量分布在3至40µm 波长之间。
镀膜工艺简介AF,AG,AR 20190601
涂层硬度： 测试条件：使用7H三菱铅笔，1KG压力，摩擦速度60次/分钟，摩擦行程40mm，摩 擦次数1次 表面无划痕
人工汗液
摩擦测试仪
摩擦测试仪
AR抗（减）反射增透膜简介
• AR膜又称减反射膜又称增透膜，
• 主要功能:减少或消除透镜、棱镜、平面镜等光学表面的反射光，从而增加这些元 件的透光量。
AF镀膜产品应用领域：
手机、平板、车载、电视、LED等玻璃显示屏
AF生产工艺简介
真空蒸镀：在真空条件下，采用一定的加 热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并 使之气化，粒子飞至基材表面凝聚成膜的 工艺方法。
真空溅镀：利用辉光放电将氩气(Ar)离子 撞击靶材表面，靶材的原子被弹出而堆积 在基板表面形成薄膜。
AG防炫膜简介
AG镀膜产品特性： 1、反射红外线：降低红外线在玻璃表面的通透率来减少入室红外线光； 2、增强透光率：在反射红外线光线的同时增强其他光源的透过，不影响室内采 光效果 3、防眩光：将光源发出的光通过漫反射改变反射强光对观察者的视觉刺激
AG镀膜产品应用领域： 1、手机、车载导航、电子黑板、电视屏幕、电脑屏幕、精密仪器仪表屏幕、医 疗设备窗口、液晶显示器视窗、电子产品视窗、笔记本触板、无线鼠标触板等； 2、高级画廊和美术馆的名贵字画的镜框，使字画和图片长期保存，永不褪色； 3、博物馆、档案馆等贵重文物保护。
• 减反射膜是应用最广、产量最大的一种光学薄膜，因此，它至今仍是光学薄膜技 术中重要的研究课题.
• 在很多应用领域中，增透膜是不可缺少的，否则，无法达到应用的要求。 就拿一 个由18块透镜组成的35mm的自动变焦的照相机来说，假定每个玻璃和空气的界 面有4%的反射，没有增透的镜头光透过率为27%，镀有一层膜（剩余的反射为 1.3%）的镜头光透过率为66%，镀多层膜（剩余的反射为0.5%）的为85%。
azo靶材镀膜参数
azo靶材镀膜参数摘要：一、什么是azo 靶材镀膜二、azo 靶材镀膜的参数1.靶材种类2.镀膜厚度3.沉积速率4.镀膜质量5.应用领域正文：一、什么是azo 靶材镀膜azo 靶材镀膜是一种用于制造电子器件的特殊薄膜，其主要成分为氧化亚铁（FeO）和氧化锌（ZnO）。
这种材料具有良好的导电性和透明性，广泛应用于太阳能电池、平板显示器、触控面板等领域。
通过在基材上镀覆azo 靶材，可以提高器件的性能，如提高太阳能电池的光电转换效率、降低平板显示器的功耗等。
二、azo 靶材镀膜的参数1.靶材种类：azo 靶材的主要成分为氧化亚铁（FeO）和氧化锌（ZnO），它们的比例决定了靶材的性能。
通常情况下，FeO 和ZnO 的比例为9:1。
2.镀膜厚度：镀膜厚度是影响器件性能的关键参数。
过薄的镀膜会导致器件性能下降，而过厚的镀膜则会增加器件的成本。
因此，在生产过程中需要精确控制镀膜厚度。
3.沉积速率：沉积速率决定了镀膜的生产效率。
提高沉积速率可以缩短生产周期，降低生产成本。
但同时，过高的沉积速率可能会影响镀膜的质量。
4.镀膜质量：镀膜质量是衡量azo 靶材镀膜性能的重要指标。
高质量的镀膜可以提高器件的性能，如提高太阳能电池的光电转换效率、降低平板显示器的功耗等。
5.应用领域：azo 靶材镀膜广泛应用于太阳能电池、平板显示器、触控面板等领域。
随着科技的不断发展，azo 靶材镀膜的应用领域还将不断拓展。
总之，azo 靶材镀膜是一种重要的电子材料，其性能和质量对器件的性能和可靠性具有重要影响。
镀膜玻璃的隔热特性及其参数
镀膜玻璃的节能特性及其参数一、概述现代建筑，不论是商厦还是住宅，都趋向于大面积采光。
但是，普通透明玻璃对太阳能辐射和远红外热辐射没有控制，其面积越大，夏季进入室内的热量越多，冬季室内散失的热量越多。
为此，必须对玻璃表面进行处理，于是产生了有节能功能的镀膜玻璃。
早期的镀膜玻璃主要是热反射镀膜玻璃（或称阳光控制膜玻璃），其作用是限制太阳能辐射直接进入室内。
用于建筑幕墙玻璃时，除具有亮丽的外观装饰效果外，还可降低冷气设备的运行费用。
但这种玻璃与普通玻璃一样，会吸收远红外热辐射而使其自身的温度升高，最终仍有相当部分的热能透过了玻璃，其隔热性能也受到了极大的限制。
选用什么材料？采用何种工艺镀膜才能有效地阻挡远红外热辐射？研究的结果诞生了低辐射镀膜玻璃（简称Low-E玻璃）。
这种玻璃的最大特点是将远红外热辐射反射出去，使其不能透过玻璃从而起到节能隔热的作用。
因此，目前世界上公认Low-E 玻璃是最理想的窗玻璃材料。
Low-E玻璃在国外已有近二十年的使用历史，我国因受到设备和生产工艺技术方面限制，同时也因节能观念的落后而起步较晚。
可喜的是，自南玻集团于1997年推出Low-E玻璃并在全国范围内大力推介后，目前已为众多设计师和用户所认同并采用。
规模化采用Low-E玻璃时代已经到来，这必将对我国的建筑节能材料应用产生影响并作出贡献。
关于镀膜玻璃，包括LOW-E玻璃的节能特性，已有许多文章或专著论述过，在大多数文章或企业的产品介绍中都列出了完整的参数，但理解这些参数须具备一定的专业知识。
对用户来说更关心的是：哪些参数与节能性直接相关？怎样才能区别不同玻璃之间节能性的优劣？如何根据这些参数选择适用的玻璃？本文拟深入浅出地回答这些问题。
二、热能的形式及窗玻璃组件的传热1、自然环境中的热能自然环境中的热能主要是太阳辐射能，其能量的98%分布在0.3至3µm波长之间。
除了太阳直接辐射的能量外（能量分布在），还存在着大量的远红外线热辐射能，其能量分布在3至40µm 波长之间。
碳化硅镀膜工艺
碳化硅镀膜工艺一、引言1. 背景介绍：碳化硅在电子器件中的应用2. 碳化硅镀膜的重要性：提高器件性能、降低成本3. 论文目的：详细介绍碳化硅镀膜工艺二、碳化硅材料特性1. 物理性质：晶格结构、离子扩散、能带结构2. 化学性质：化学键、表面反应、腐蚀 resistance三、碳化硅镀膜工艺1. 化学气相沉积（CVD）：原理、设备、过程参数2. 物理气相沉积（PVD）：原理、设备、过程参数3. 激光喷涂（LSP）：原理、设备、过程参数4. 溶胶-凝胶法（SG法）：原理、设备、过程参数5. 原子层沉积（ALD）：原理、设备、过程参数6. 磁控溅射（MCV）：原理、设备、过程参数四、碳化硅镀膜性能评估1. 厚度均匀性：测量方法、评估指标2. 硬度：测量方法、评估指标3. 耐腐蚀性：测量方法、评估指标4. 电子迁移率：测量方法、评估指标5. 热稳定性：测量方法、评估指标五、碳化硅镀膜在电子器件中的应用1. 肖特基二极管2. 场效应晶体管3. 发光二极管4. 太阳能电池5. 功率放大器六、结论与展望1. 碳化硅镀膜工艺的发展趋势2. 面临的挑战与解决方案3. 碳化硅镀膜在电子器件中的未来应用前景1. 背景介绍：碳化硅在电子器件中的应用碳化硅(SiC)是一种宽禁带半导体材料,具有高电子迁移率、高热导率和高抗热冲击能力,因此在电子器件中具有广泛的应用前景。
其中,碳化硅镀膜工艺是一种重要的制备碳化硅薄膜的方法,可以提高碳化硅器件的性能。
碳化硅在电子器件中的应用主要包括高温电力电子器件、功率器件、光电子器件和微电子器件等。
高温电力电子器件需要在高温环境下工作,因此需要使用具有高热导率和耐热冲击能力的材料。
碳化硅具有这些特性,因此被广泛应用于高温电力电子器件中。
功率器件需要具有高电子迁移率和低噪声特性,碳化硅在这方面也表现优异。
光电子器件需要具有高光响应率和低损耗特性,碳化硅在这方面也是优秀的材料。
微电子器件需要具有高精度和高可靠性的特性,碳化硅也在这方面有着广泛的应用。
TCO材料重点参数及工艺控制
ITO薄膜电学性能优异，但是在近红外区透过率较低，这意味着ITO作为电极不能有效利用 太阳能，而AZO薄膜在近红外区透过率很高,但电学性能和ITO相比相差较大。
• 如果做TCO的综合比较，可以用导电率与吸收系数的比——σ/ɑ作为指标，这个比值越大越好，其中ɑ=4πK/λ， 是光的衰减系数或吸收系数，K：消光系数；λ：波长；
AZO 窗口层制备过程中过高的衬底加热温度会破坏CdS 缓冲层，影响电池性能。
这两个参数对于薄膜的导电性和透过率影响较大，需要 平衡考虑。
镀膜工艺
三. TCO溅射工艺
不同氧分压下TCO膜层的透光 率曲线： ✓AZO有效掺杂：Al3+替位 Zn2+ ✓掺杂效果依赖于膜层中的不 同相：若Al被氧化成Al2O3则 整体电阻率升高
• （2）AZO(45nm，Al含量2%)/Ag(9nm)/AZO(45nm，Al含量2%)夹层结构与AZO（100nm，Al含量2%）对 比。
五. 结论
AZO（Al掺杂：1wt%，1000nm），方阻10ohm/sq以内，光透过80%以上。 （1）ITO（Sn掺杂：10wt%） ：HIT膜厚80-110nm（偏蓝色），GSE膜厚500nm？（ITO一般不用这么厚）；
镀膜工艺
镀膜工艺 ➢载流子迁移率：
ԏ:弛豫时间（载流子两次散射之间的时间） m*：载流子有效质量 ➢提升载流子迁移率： 1，降低m*：取决于TCO材料本身 2，增加ԏ：与薄膜的微观结构有关，可通过工艺控制
镀膜工艺 载流子迁移率：
提高载流子迁移率建议： ✓降低载流子浓度 ✓增大晶粒尺寸 ✓减少晶粒边界势垒（晶粒边界钝化） ✓减少补偿度（减少杂质浓度） ✓减少高价离子数量（如氧空位）
二. 各类主要TCO材料对比
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常用的镀膜材料参数
名称折射率透光范围蒸发温度(℃)蒸发源应用
三氧化二铝1.62/550nm200~50002000-2200电子枪增透膜、多层膜
氟化铈1.63/500nm300~50001429钼，钽，电子枪增透膜、多层膜
氧化铈2.35/500nm400~160001950电子枪增透膜
透明导电膜料2.0/500nm400~8001450电子枪，Al2O3透明导电膜
氟化镁1.38/550nm130~70001300~1600钼，钽，钨增透膜、多层膜
锆钛混合物2.1/500nm400~70002300钨，电子枪增透膜
二氧化硅1.45/500nm200~20001600~2200电子枪多层膜
一氧化硅1.55/550nm600~80001200~1600钼，钽，钨增透膜、保护膜
二氧化钛2.35/500nm400~120002200电子枪增透膜、多层膜
氧化锆2.05/500nm250~70002500电子枪增透膜、多层膜
三氧化二钛2.35/500nm400~120001800~2000钽，钨电子枪增透膜、多层膜
氟化钡1.4/10600nm220~110001280钼，钽，铂紫外-远红外膜、多层膜、增透膜氟化镧1.58/500nm220~140001450钼，电子枪增透膜
氟化铝1.35/500nm200~8000800~1000电子枪，钼，钽紫外膜
氟化铅1.76/470nm220~9000700~1000铂紫外膜
氧化钆1.8/550nm320~150002200 增透膜
五氧化三钛2.35/500nm400~120001750~2000 多层膜、分光膜。