集成电路封装工艺

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集成电路电子芯片封装工艺

集成电路电子芯片封装工艺

集成电路电子芯片封装工艺摘要:集成电路电子芯片封装,不同的处理设备就有不同的处理芯片,芯片是电子设备的核心,其设计、制造、封装、测试等过程对芯片有很大影响。

本文从芯片的封装工艺,以及这些封装技术的特点入手,对集成电路电子芯片的发展形势和封装工艺作相关探讨。

关键词:集成电路芯片封装CSP工艺集成电路是电子产品的主要构件,对电子产品质量和性能有很大影响,集成电路的产业包括集成电路设计、晶圆制造、晶圆测试、封装制造及成品测试,产品应用、开发及信息服务等。

集成电路封装主要体现在计算机领域。

集成电路的封装是指安装半导体集成电路芯片时用的外壳,不仅可以固定、安放、密封、保护芯片,还可以链接外部电路沟通芯片。

芯片封装技术的发展,从DIP、QFP和PFP、PGA、BGA、CSP到MCM等,越来越先进,适用频率也越来越高,耐温性能更是越来越好。

引脚数量越来越多,引脚间距也越来越小,质量也是越来越轻,可靠性更是越来越高。

1.芯片封装技术概况自从1948年晶体管的发明以及1958年半导体集成电路的出现,半导体封装在结构上经历了TO-DlP-LCC-QFP-BGA的发展历程。

到了20世纪90年代,随着半导体工业的飞速发展,芯片的功能越来越强,需要的外引脚数也不断增加,封装体积也不断增大,在这种背景下,日本富士通公司提出了一种超薄型封装形式,其封装外壳的尺寸不超过裸芯片尺寸的1.2倍,它主要由IC裸芯片和布线垫片所组成,取名叫芯片级封装(CSP:Chip Scale Package)。

随着民用便携式电子装备以及军用整机系统在小型化和轻量化方面的要求越来越高,像CSP这样的小型封装的需求显得十分迫切。

芯片级封装(Chip Scale Package)或者叫芯片尺寸封装(Chip Size Package)实现了封装面积接近于芯片面积的程度。

它的概念是基于1992年日本富士通公司所提出的,即封装的尺寸不超过裸芯片尺寸的1.2倍的封装。

集成电路封装工艺.doc

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集成电路封装工艺摘要集成电路封装的目的,在于保护芯片不受或少受外界环境的影响,并为之提供一个发挥集成电路芯片功能的良好环境,以使之稳定,可靠,正常的完成电路功能.但是集成电路芯片封装只能限制而不能提高芯片的功能.关键词:电子封装封装类型封装技术器件失效Integrated Circuit Packaging ProcessAbstractThe purpose of IC package, is to protect the chip from the outside or less environmental impa ct, and provide a functional integrated circuit chip to play a good environment to make it stable an d reliable, the completion of the normal circuit functions. However, IC chip package and not only restricted to enhance the function of the chip.引言电子封装是一个富于挑战、引人入胜的领域。

它是集成电路芯片生产完成后不可缺少的一道工序,是器件到系统的桥梁。

封装这一生产环节对微电子产品的质量和竞争力都有极大的影响。

按目前国际上流行的看法认为,在微电子器件的总体成本中,设计占了三分之一,芯片生产占了三分之一,而封装和测试也占了三分之一,真可谓三分天下有其一。

封装研究在全球范围的发展是如此迅猛,而它所面临的挑战和机遇也是自电子产品问世以来所从未遇到过的;封装所涉及的问题之多之广,也是其它许多领域中少见的,它需要从材料到工艺、从无机到聚合物、从大型生产设备到计算力学等等许许多多似乎毫不关连的专家的协同努力,是一门综合性非常强的新型高科技学科。

1.电子封装什么是电子封装(electronic packaging)? 封装最初的定义是:保护电路芯片免受周围环境的影响(包括物理、化学的影响)。

集成电路封装工艺

集成电路封装工艺

根据材料性能,膜材料分四类 根据材料性能,膜材料分四类:
1.导体膜:主要用于形成电路图形,为电阻电容, 半导体元件和半导体芯片等部件提供电极电学连接 2.电阻膜:形成电路中的电阻, 电阻率:100-2000µΩ.cm 方块阻值:10-1000Ω/□ 3.介质膜:形成电容膜和实现绝缘和表面钝化 4.功能膜:特殊功能膜
打线键合技术
超声波键合: - 振幅20- 超声波键合:20-60kHz,振幅 -200µm超声波 振幅 超声波
铝线和金线是常见材料 优点:温度低,键合尺寸小, 优点:温度低,键合尺寸小,适合键合点间 距小,密度高的芯片连接 距小, 缺点: 缺点:必须沿金属线回绕方向排列
热压键合:预热300- 度 电子点火, 热压键合:预热 -400度,电子点火,
去飞边毛刺
塑料封装中,塑料树脂溢出、贴带毛边,引 线毛刺等统称为飞边毛刺 毛刺的厚度薄于10µm,对后面工序有影响
去飞边毛刺的工艺:介质去飞边毛刺
溶剂去飞边毛刺 水去飞边毛刺
上锡焊
该工序是在框架外引脚上做保护性镀层,以 加可焊性
方法:电镀
浸锡 电镀:清洗-电镀槽电镀-冲洗-吹干-烘干 浸锡:清洗-浸助焊剂-热浸焊-清洗-烘干
丝网印刷 基板清洗 丝网印刷:丝网孔板制备 干燥 烧成
刮板
浆料
玻璃胶贴装法:玻璃胶是低成本芯片粘贴材料 玻璃胶贴装法:
冷却降温注意速度 优点:无空隙,热稳定好, 优点:无空隙,热稳定好,低结合应力 缺点: 缺点:胶中有机成分和溶剂要去除 多用于陶瓷封装, 多用于陶瓷封装,玻璃胶在特殊处理的铜合金 引脚架上才能键合
芯片互连
芯片互连:将芯片焊区与电子封装外壳的 芯片互连:将芯片焊区与电子封装外壳的I/O 引线或基板上的金属布线区相连 常见的方法:打线键合WB(Wire Bonding) 常见的方法:打线键合 载带自动键合TAB(Tape Automated Bonding) 载带自动键合 倒装芯片键合FCB(Flip Chip Bonding) C4 倒装芯片键合 WB:4<n<257 n为I/O数 TAB:10<n<600 FCB:5<n<16000

集成电路的封装工艺与技术.pptx

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这样在相同体积下,内存条可以 装入C更SP多封的装芯更片薄,,从大而大增提大高单了条内容存量芯。 片在长时间运行后的可靠性,芯片速 度也随之得到大幅度的提高。CSP的存 取时间比BGA改善15%-20%。
THANKS
For your time and attention
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感谢您的观看。
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注塑、激光打字
EOL工艺流程
注塑 激光打字 高温固化 电镀、退火 成型、光检
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Байду номын сангаас
高温固化
固化的作用为在注塑后保护IC内部结构,消除内部应力。
固化温度:175+/-5°C;固化时间:8小时
EOL工艺流程
注塑 激光打字 高温固化 电镀、退火 成型、光检
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• 缺点:热膨胀系数和介电常数比硅高,且 热导率较低,限制其在高频、高功率封装 领域的应用
• SiC
• 优点:热导率很高,热膨胀系数较低,电 绝缘性能好,强度高。
• 缺点:介电常数太高,只能用于低频封装
• AlN
• 优点:电性能和热性能优良,可用于高功 率、大尺寸封装
• 缺点:制备工艺复杂,成本高昂
电镀、退火
EOL工艺流程
注塑 激光打字 高温固化 电镀、退火 成型、光检
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成型、光检
将一条片的引脚框架切割成单独的单元。
封装技术
• TSOP • BGA • CSP
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TSOP 封装技术
衡量芯片封装技术先进与否的重 要指标是芯片面积与封装面积之比, 这个比值越接近1越好。
光检
电镀退火
注塑

集成电路封装工艺(毕业学术论文设计)

集成电路封装工艺(毕业学术论文设计)

集成电路封装工艺(毕业学术论文设计)摘要本文对集成电路封装工艺进行了研究和设计,旨在提出一种能够满足高性能、小尺寸和低功耗要求的封装工艺方案。

首先,对集成电路封装的发展历程进行了简要回顾,并分析了目前常见的几种封装工艺类型。

然后,针对目标封装工艺的要求,提出了一种新型封装工艺方案,并详细介绍了该方案的工艺流程和关键步骤。

最后,通过实验和性能评估,验证了该封装工艺方案的可行性和效果。

1. 引言集成电路是现代电子技术的核心,随着技术的进步,集成电路的封装工艺也在不断发展和改进。

封装工艺的优劣直接影响到集成电路的性能、尺寸和功耗等方面,因此,设计一种高性能、小尺寸和低功耗的封装工艺方案成为当前的研究热点。

本文旨在提出一种新型封装工艺方案,以满足目标集成电路的需求。

具体来说,本文的研究目标包括以下几个方面: - 提高集成电路的性能指标,如工作频率、时序特性等; - 减小集成电路的尺寸,提高空间利用率; - 降低集成电路的功耗,延长电池寿命。

2. 集成电路封装工艺的发展历程封装工艺是将集成电路芯片与引线、封装材料等相结合,形成成品电路的过程。

在集成电路的发展过程中,封装工艺经历了多个阶段的演进。

在早期,集成电路的封装工艺主要采用插针式DIP(Dual In-line Package)封装,这种封装形式简单、容易实现,但存在尺寸大、布线难、散热困难等问题。

随着技术的进步,表面贴装封装(Surface Mount Technology,SMT)逐渐成为主流。

SMT封装工艺避免了插针式封装的缺点,大大提高了集成电路的密度和性能。

近年来,随着集成电路的尺寸不断缩小,新型封装工艺如无封装封装(Wafer Level Package,WLP)、芯片级封装(Chip Scale Package,CSP)、三维封装等逐渐崭露头角。

这些封装工艺以其小尺寸、高性能和低功耗的特点,成为了当前研究的热点。

3. 目标封装工艺方案设计根据上述研究目标,本文提出了一种基于芯片级封装和三维封装技术的新型封装工艺方案。

常见的集成电路工艺

常见的集成电路工艺

常见的集成电路工艺常见的集成电路工艺集成电路技术是现代电子技术和信息技术的重要支柱,是电子信息产业的基础和核心。

作为集成电路技术中的一个重要领域,集成电路工艺直接决定了集成电路的质量和性能。

在当前的电子行业中,常见的集成电路工艺主要有以下几种。

一、晶体管工艺晶体管工艺是最常见的一种集成电路工艺,用于生产流行的数字电路、微控制器和存储器等各种芯片。

这种工艺的主要特点是生产成本相对较低,性能稳定,被广泛应用于工业、民用和军事领域。

二、互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺是现代集成电路工艺的主流技术之一。

相比较于传统的晶体管工艺,CMOS工艺在功耗、集成度、速度和可靠性上都有显著提高。

此外,CMOS工艺也是大规模集成电路(VLSI)制造的主要工艺之一。

三、硅片上封装(SOP)工艺硅片上封装(SOP)工艺是一种先进的微电子封装技术。

它通过使用多种先进的制程技术将芯片直接封装在硅片内部,实现更高的可靠性和更小的尺寸。

此外,SOP工艺还可以降低封装成本,提高生产效率和产品质量。

四、多晶硅薄膜晶体管(TFT)工艺多晶硅薄膜晶体管(TFT)工艺是一种针对液晶显示器(LCD)和有机光电显示器(OLED)等特殊领域的集成电路工艺。

TFT工艺以其高分辨率、高色彩准确度和低功耗的特点,是目前最为成熟的LCD面板制造技术之一。

五、混合集成电路工艺混合集成电路工艺依托各种传统的集成电路工艺,将各种芯片组合在一起,形成新的功能强大的混合集成电路。

这种工艺是制造各种复杂芯片的主要方式之一,被广泛应用于通信、无线、声音、视频、网络处理、雷达等领域。

总而言之,现在各种集成电路工艺层出不穷,每一种工艺都有其特殊的优势和应用场景。

对于电子产品制造企业来说,选择正确的集成电路工艺将直接影响到产品的性能和质量,因此,必须在选型时考虑到产品的实际需要和预算等因素。

集成电路封装技术封装工艺流程介绍

集成电路封装技术封装工艺流程介绍

集成电路封装技术封装工艺流程介绍集成电路封装技术是指将芯片封装在塑料或陶瓷封装体内,以保护芯片不受外界环境的影响,并且方便与外部电路连接的一种技术。

封装工艺流程是集成电路封装技术的核心内容之一,其质量和工艺水平直接影响着集成电路产品的性能和可靠性。

下面将对集成电路封装技术封装工艺流程进行介绍。

1. 芯片测试首先,芯片在封装之前需要进行测试,以确保其性能符合要求。

常见的测试包括电性能测试、温度测试、湿度测试等。

只有通过测试的芯片才能进行封装。

2. 芯片准备在封装之前,需要对芯片进行准备工作,包括将芯片固定在封装底座上,并进行金线连接。

金线连接是将芯片的引脚与封装底座上的引脚连接起来,以实现与外部电路的连接。

3. 封装材料准备封装材料通常为塑料或陶瓷,其选择取决于芯片的性能要求和封装的环境条件。

在封装之前,需要将封装材料进行预处理,以确保其表面光滑、清洁,并且具有良好的粘附性。

4. 封装封装是整个封装工艺流程的核心环节。

在封装过程中,首先将芯片放置在封装底座上,然后将封装材料覆盖在芯片上,并通过加热和压力的方式将封装材料与封装底座紧密结合。

在封装过程中,需要控制封装温度、压力和时间,以确保封装材料与芯片、封装底座之间的结合质量。

5. 封装测试封装完成后,需要对封装产品进行测试,以确保其性能和可靠性符合要求。

常见的封装测试包括外观检查、尺寸测量、焊接质量检查、封装材料密封性测试等。

6. 封装成品通过封装测试合格的产品即为封装成品,可以进行包装、贴标签、入库等后续工作。

封装成品可以直接用于电子产品的生产和应用。

总的来说,集成电路封装技术封装工艺流程是一个复杂的过程,需要精密的设备和严格的工艺控制。

只有通过合理的工艺流程和严格的质量控制,才能生产出性能优良、可靠性高的集成电路产品。

随着科技的不断进步,集成电路封装技术也在不断创新和发展,以满足不断变化的市场需求。

相信随着技术的不断进步,集成电路封装技术将会迎来更加美好的发展前景。

集成电路封装工艺介绍

集成电路封装工艺介绍

为什么要对芯片进行封装?任何事物都有其存在的道理,芯片封装的意义又体现在哪里呢?从业内普遍认识来看,芯片封装主要具备以下四个方面的作用:固定引脚系统、物理性保护、环境性保护和增强散热。

下面我们就这四方面做一个简单描述。

1.固定引脚系统要让芯片正常工作,就必须与外部设备进行数据交换,而封装最重要的意义便体现在这里。

当然,我们不可能将芯片内的引脚直接与电路板等连接,因为这部分金属线相当细,通常情况下小于1.5微米(μm),而且多数情况下只有1.0微米。

但通过封装以后,将外部引脚用金属铜与内部引脚焊接起来,芯片便可以通过外部引脚间接地与电路板连接以起到数据交换的作用。

外部引脚系统通常使用两种不同的合金——铁镍合金及铜合金,前者可用于高强度以及高稳定性的场合,而后者具有导电性和导热性较好的优势。

具体选用何种引脚系统可根据实际情况来定。

2.物理性保护芯片通过封装以后可以免受微粒等物质的污染和外界对它的损害。

实现物理性保护的主要方法是将芯片固定于一个特定的芯片安装区域,并用适当的封装外壳将芯片、芯片连线以及相关引脚封闭起来,从而达到保护的目的。

应用领域的不同,对于芯片封装的等级要求也不尽相同,当然,消费类产品要求最低。

3.环境性保护封装的另一个作用便是对芯片的环境性保护,可以让芯片免受湿气等其他可能干扰芯片正常功能的气体对它正常工作产生不良影响。

4.增强散热众所周知,所有半导体产品在工作的时候都会产生热量,而当热量达到一定限度的时候便会影响芯片正常工作。

而封装体的各种材料本身就可以带走一部分热量。

当然,对于大多数发热量大的芯片,除了通过封装材料进行降温以外,还需要考虑在芯片上额外安装一个金属散热片或风扇以达到更好的散热效果。

集成电路封装工艺介绍(上)电子封装是一个富于挑战、引人入胜的领域。

它是集成电路芯片生产完成后不可缺少的一道工序,是器件到系统的桥梁。

封装这一生产环节对微电子产品的质量和竞争力都有极大的影响。

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集成电路封装工艺摘要集成电路封装的目的,在于保护芯片不受或少受外界环境的影响,并为之提供一个发挥集成电路芯片功能的良好环境,以使之稳定,可靠,正常的完成电路功能.但是集成电路芯片封装只能限制而不能提高芯片的功能.关键词:电子封装封装类型封装技术器件失效Integrated Circuit Packaging ProcessAbstractThe purpose of IC package, is to protect the chip from the outside or less environmental impa ct, and provide a functional integrated circuit chip to play a good environment to make it stable an d reliable, the completion of the normal circuit functions. However, IC chip package and not only restricted to enhance the function of the chip.引言电子封装是一个富于挑战、引人入胜的领域。

它是集成电路芯片生产完成后不可缺少的一道工序,是器件到系统的桥梁。

封装这一生产环节对微电子产品的质量和竞争力都有极大的影响。

按目前国际上流行的看法认为,在微电子器件的总体成本中,设计占了三分之一,芯片生产占了三分之一,而封装和测试也占了三分之一,真可谓三分天下有其一。

封装研究在全球范围的发展是如此迅猛,而它所面临的挑战和机遇也是自电子产品问世以来所从未遇到过的;封装所涉及的问题之多之广,也是其它许多领域中少见的,它需要从材料到工艺、从无机到聚合物、从大型生产设备到计算力学等等许许多多似乎毫不关连的专家的协同努力,是一门综合性非常强的新型高科技学科。

1.电子封装什么是电子封装(electronic packaging)? 封装最初的定义是:保护电路芯片免受周围环境的影响(包括物理、化学的影响)。

所以,在最初的微电子封装中,是用金属罐(metal can) 作为外壳,用与外界完全隔离的、气密的方法,来保护脆弱的电子元件。

但是,随着集成电路技术的发展,尤其是芯片钝化层技术的不断改进,封装的功能也在慢慢异化。

通常认为,封装主要有四大功能,即功率分配、信号分配、散热及包装保护,它的作用是从集成电路器件到系统之间的连接,包括电学连接和物理连接。

目前,集成电路芯片的I/O线越来越多,它们的电源供应和信号传送都是要通过封装来实现与系统的连接;芯片的速度越来越快,功率也越来越大,使得芯片的散热问题日趋严重;由于芯片钝化层质量的提高,封装用以保护电路功能的作用其重要性正在下降。

2.部分封装的介绍金属封装是半导体器件封装的最原始的形式,它将分立器件或集成电路置于一个金属容器中,用镍作封盖并镀上金。

金属圆形外壳采用由可伐合金材料冲制成的金属底座,借助封接玻璃,在氮气保护气氛下将可伐合金引线按照规定的布线方式熔装在金属底座上,经过引线端头的切平和磨光后,再镀镍、金等惰性金属给与保护。

在底座中心进行芯片安装和在引线端头用铝硅丝进行键合。

组装完成后,用10号钢带所冲制成的镀镍封帽进行封装,构成气密的、坚固的封装结构。

金属封装的优点是气密性好,不受外界环境因素的影响。

它的缺点是价格昂贵,外型灵活性小,不能满足半导体器件日益快速发展的需要。

现在,金属封装所占的市场份额已越来越小,几乎已没有商品化的产品。

少量产品用于特殊性能要求的军事或航空航天技术中。

陶瓷封装是继金属封装后发展起来的一种封装形式,它象金属封装一样,也是气密性的,但价格低于金属封装,而且,经过几十年的不断改进,陶瓷封装的性能越来越好,尤其是陶瓷流延技术的发展,使得陶瓷封装在外型、功能方面的灵活性有了较大的发展。

目前,IBM的陶瓷基板技术已经达到100多层布线,可以将无源器件如电阻、电容、电感等都集成在陶瓷基板上,实现高密度封装。

陶瓷封装由于它的卓越性能,在航空航天、军事及许多大型计算机方面都有广泛的应用,占据了约10%左右的封装市场(从器件数量来计)。

陶瓷封装除了有气密性好的优点之外,还可实现多信号、地和电源层结构,并具有对复杂的器件进行一体化封装的能力。

它的散热性也很好。

缺点是烧结装配时尺寸精度差、介电系数高(不适用于高频电路),价格昂贵,一般主要应用于一些高端产品中。

相对而言,塑料封装自七十年代以来发展更为迅猛,已占据了90%(封装数量)以上的封装市场份额,而且,由于塑料封装在材料和工艺方面的进一步改进,这个份额还在不断上升。

塑料封装最大的优点是价格便宜,其性能价格比十分优越。

随着芯片钝化层技术和塑料封装技术的不断进步,尤其是在八十年代以来,半导体技术有了革命性的改进,芯片钝化层质量有了根本的提高,使得塑料封装尽管仍是非气密性的,但其抵抗潮气侵入而引起电子器件失效的能力已大大提高了,因此,一些以前使用金属或陶瓷封装的应用,也已渐渐被塑料封装所替代。

3.封装中用到的技术在塑料封装中,引线键合是主要的互连技术,尽管现在已发展了TAB(tape automated bonding)、FC(flip chip)等其它互连技术,但占主导地位的技术仍然是引线键合技术。

在塑料封装中使用的引线主要是金线,其直径一般在0.025mm到0.032mm(1.00mil到1.25 mil)。

引线的长度常在1.5mm到3mm (60mil到120mil) 之间,而弧圈的高度可比芯片所在平面到0.75mm(30mil)。

键合技术有热压焊(thermocompression),热超声焊(thermosonic)等。

这些技术的优点是容易形成球形(所谓的球焊技术,ball bonding),并且可以防止金线氧化。

为了降低成本,也在研究用其它金属丝,如铝、铜、银、钯等来替代金丝键合。

热压焊的条件是二种金属表面紧紧接触,控制时间、温度、压力,使得二种金属发生连接。

表面粗糙(不平整)、有氧化层形成或是有化学沾污、吸潮等都会影响到键合效果,降低键合强度。

热压焊的温度在300°C到400°C,时间一般为40毫秒(通常,加上寻找键合位置等程序,键合速度是每秒二线)。

超声焊的优点是可避免高温,因为它用20到60 KHz的超声振动提供焊接所需的能量,所以,焊接温度可以降低一些。

超声焊是所谓的楔焊(wedge bonding)而不是球焊(ball bonding),在引线与焊盘连接后,再用夹具或利刃切断引线(clamp tear or table tear)。

楔焊的缺点是必须旋转芯片和基座,以使它们始终处于楔焊方向上,所以,楔焊的速度就必须放慢。

它的优点是焊接面积与引线面积相差不大,可以用于微细间距(fine pitch)的键合。

将热和超声能量同时用于键合,就是所谓的热超声焊。

与热压焊相比,热超声焊最大的优点是将键合温度从350℃降到250℃左右(也有人认为可以用100℃到150℃的条件),这可以大大降低在铝焊盘上形成Au-Al金属间化合物的可能性,延长器件寿命,同时降低了电路参数的漂移。

在引线键合方面的改进主要是因为需要越来越薄的封装,有些超薄封装的厚度仅有0.4毫米左右。

所以,引线环(loop)从一般的8至12密尔(200到300微米)减小到4至5密尔(100到125微米),这样,引线的张力就很大,引线绷得很紧。

楔焊的优点是可以用于微细间距焊盘上,适合于高密度封装,它甚至可用于焊盘间距小于75微米的键合,而若采用球焊,则1密尔(25微米)的金丝,其球焊的直径在2.5到4密尔(63至102微米)之间,要比楔焊大得多。

塑料封装的成型技术也有许多种,包括转移成型技术、喷射成型技术(inject molding)、预成型技术(premolding)等,但最主要的成型技术是转移成型技术(transfer molding)。

转移成型使用的材料一般为热固性聚合物(thermosetting polymer)。

所谓的热固性聚合物是指在低温时,聚合物是塑性的或流动的,但当将其加热到一定温度时,即发生所谓的交联反应(cross-linking),形成刚性固体。

再将其加热时,只能变软而不可能熔化、流动。

在塑料封装中使用的典型成型技术的工艺过程如下:将已贴装好芯片并完成引线键合的框架带置于模具中,将塑封料的预成型块在预热炉中加热(预热温度在90℃到95℃之间),然后放进转移成型机的转移罐中。

在转移成型活塞的压力之下,塑封料被挤压到浇道中,并经过浇口注入模腔(在整个过程中,模具温度保持在170℃到175℃左右)。

塑封料在模具中快速固化,经过一段时间的保压,使得模块达到一定的硬度,然后用顶杆顶出模块,成型过程就完成了。

用转移成型法密封微电子器件,有许多优点。

它的技术和设备都比较成熟,工艺周期短,成本低,几乎没有后整理(finish)方面的问题,适合于大批量生产。

当然,它也有一些明显的缺点:塑封料的利用率不高(在转移罐、壁和浇道中的材料均无法重复使用,约有20%到40%的塑封料被浪费);使用标准的框架材料,对于扩展转移成型技术至较先进的封装技术(如TAB等)不利;对于高密度封装有限制。

对于大多数塑封料来说,在模具中保压几分钟后,模块的硬度足可以达到允许顶出,但是,聚合物的固化(聚合)并未全部完成。

由于材料的聚合度(固化程度)强烈影响材料的玻璃化转变温度及热应力,所以,促使材料全部固化以达到一个稳定的状态,对于提高器件可靠性是十分重要的,后固化就是为了提高塑封料的聚合度而必须的工艺步骤,一般后固化条件为170℃到175℃,2至4小时。

目前,也发展了一些快速固化(fast cure molding compound)的塑封料,在使用这些材料时,就可以省去后固化工序,提高生产效率。

在封装成型过程中,塑封料可能会从二块模具的合缝处渗出来,流到模块外的框架材料上。

若是塑封料只在模块外的框架上形成薄薄的一层,面积也很小,通常称为树脂溢出(resin bleed)。

若渗出部分较多、较厚,则称为毛刺(flash)或是飞边毛刺(flash and strain)。

造成溢料或毛刺的原因很复杂,一般认为是与模具设计、注模条件及塑封料本身有关。

毛刺的厚度一般要薄于10微米,它对于后续工序如切筋打弯等工艺带来麻烦,甚至会损坏机器。

因此,在切筋打弯工序之前,要进行去飞边毛刺工序(deflash)。

随着模具设计的改进,以及严格控制注模条件,毛刺问题越来越不严重了,在一些比较先进的封装工艺中,已不再进行去飞边毛刺的工序了。

去飞边毛刺工序工艺主要有:介质去飞边毛刺(media deflash)、溶剂去飞边毛刺(solvent deflash)、水去飞边毛刺(water deflash)。

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