材料分析思考题(答案)
材料力学实验思考题答案Ⅰ

1、比较两种材料受压时的力学性能及受压破坏特点。
答:低碳钢是塑性材料,而铸铁是脆性材料。
低碳钢抗压能力非常强,且抗拉抗压能力相当,所以最后会被压扁。
铸铁的抗压能力远远大于抗拉能力,最后会被内部的正应力给拉断,断口呈斜45度角。
2、为什么铸铁材料受压缩时,沿着与轴线约成45°的斜截面破坏?
答:在铸铁试件压缩时与轴线大致成45°的斜截面具有最大的剪应力。
3、比较铸铁材料的抗压强度极限与抗拉强度极限,由此说明铸铁材料在工程实际中的主要途径。
答:铸铁的抗压强度要高于抗拉强度。
铸铁件抗压不抗拉。
在工程实际中可作为承重部分。
1、由拉伸实验得到的材料力学性能参数有何实用价值?
答:表征了这种材料的性质和性能,利用这些参数可以进行一些理论分析和数值计算,比如弹性模量可以表示出这种材料的刚度,屈服强度可以表示出这种材料的强度
2、比较说明低碳钢和铸铁试件破坏断口的形状有何差别?并加以分析
答:低碳钢材料在横截面发生剪断破坏,铸铁在与轴线成45°螺旋面发生拉断破坏。
低碳钢的抗剪能力小于抗拉和抗压能力。
铸铁的抗拉能力小于抗剪能力和抗压能力。
3、比较说明低碳钢和铸铁材料的拉伸性能参数有何差别?
答:低碳钢的抗剪能力小于抗拉压能力,延伸率和断面收缩率大。
铸铁的抗拉能力小于抗剪能力,抗剪能力小于抗压能力。
材料物理性能测试思考题答案

有效电子数:不是所有的自由电子都能参与导电,在外电场的作用下,只有能量接近费密能的少部分电子,方有可能被激发到空能级上去而参与导电。
这种真正参加导电的自由电子数被称为有效电子数。
K 状态:一般与纯金属一样,冷加工使固溶体电阻升高,退火则降低。
但对某些成分中含有过渡族金属的合金,尽管金相分析和X射线分析的结果认为其组织仍是单相的,但在回火中发现合金电阻有反常升高,而在冷加工时发现合金的电阻明显降低,这种合金组织出现的反常状态称为K 状态。
X 射线分析发现,组元原子在晶体中不均匀分布,使原子间距的大小显着波动,所以也把K 状态称为“不均匀固溶体”。
能带:晶体中大量的原子集合在一起,而且原子之间距离很近,致使离原子核较远的壳层发生交叠,壳层交叠使电子不再局限于某个原子上,有可能转移到相邻原子的相似壳层上去,也可能从相邻原子运动到更远的原子壳层上去,从而使本来处于同一能量状态的电子产生微小的能量差异,与此相对应的能级扩展为能带。
禁带:允许被电子占据的能带称为允许带,允许带之间的范围是不允许电子占据的,此范围称为禁带。
价带:原子中最外层的电子称为价电子,与价电子能级相对应的能带称为价带。
导带:价带以上能量最低的允许带称为导带。
金属材料的基本电阻:理想金属的电阻只与电子散射和声子散射两种机制有关,可以看成为基本电阻,基本电阻在绝对零度时为零。
残余电阻(剩余电阻):电子在杂质和缺陷上的散射发生在有缺陷的晶体中,绝对零度下金属呈现剩余电阻。
这个电阻反映了金属纯度和不完整性。
相对电阻率:ρ (300K)/ρ 是衡量金属纯度的重要指标。
剩余电阻率ρ’:金属在绝对零度时的电阻率。
实用中常把液氦温度下的电阻率视为剩余电阻率。
相对电导率:工程中用相对电导率( IACS%) 表征导体材料的导电性能。
把国际标准软纯铜(在室温20 ℃下电阻率ρ= 0 .01724Ω·mm 2/ m)的电导率作为100% , 其他导体材料的电导率与之相比的百分数即为该导体材料的相对电导率。
材料工程复习思考题部分答案

材料工程基础》复习思考题第一章绪论1、材料科学与材料工程研究的对象有何异同?答:材料科学侧重于发现和揭示组成与结构,性能,使用效能,合成与加工等四要素之间的关系,提出新概念,新理论。
而材料工程指研究材料在制备过程中的工艺和工程技术问题,侧重于寻求新手段实现新材料的设计思想并使之投入使用,两者相辅相成。
6、进行材料设计时应考虑哪些因素?答:. 材料设计的最终目标是根据最终需求,设计出合理成分,制订最佳生产流程,而后生产出符合要求的材料。
材料设计十分复杂,如模型的建立往往是基于平衡态,而实际材料多处于非平衡态,如凝固过程的偏析和相变等。
材料的力学性质往往对结构十分敏感,因此,结构的任何细小变化,性能都会发生明显变化。
相图也是材料设计不可或缺的组成部分。
7、在材料选择和应用时,应考虑哪些因素?答:一,材料的规格要符合使用的需求:选择材料最基本的考虑,就在满足产品的特性及要求,例如:抗拉强度、切削性、耐蚀性等;二,材料的价格要合理;三,材料的品质要一致。
8、简述金属、陶瓷和高分子材料的主要加工方法。
答:金属:铸造(砂型铸造、特种铸造、熔模铸造、金属型铸造、压力铸造、低压铸造、离心铸造、连续铸造、消失模铸造)、塑性加工(锻造、板料冲压、轧制和挤压、拉拨)、热处理、焊接(熔化焊、压力焊、钎焊);橡胶:塑炼、混炼、压延、压出、硫化五部分;高分子:挤制成型、干压成型、热压铸成型、注浆成型、轧膜成型、等静压成型、热压成型和流延成型。
10、如何区分传统材料与先进材料?答:传统材料指已经成熟且已经在工业批量生产的材料,如水泥、钢铁,这些材料量大、产值高、涉及面广,是很多支柱产业的基础。
先进材料是正在发展,具有优异性能和应用前景的一类材料。
二者没有明显界限,传统材料采用新技术,提高技术含量、性能,大幅增加附加值成为先进材料;先进材料长期生产应用后成为传统材料,传统材料是发展先进材料和高技术基础,先进材料推到传统材料进一步发展。
材料分析测试方法试题及答案

第一章电磁辐射与材料结构一、名词、术语、概念波数,分子振动,伸缩振动,变形振动(或弯曲振动、变角振动),干涉指数,晶带,原子轨道磁矩,电子自旋磁矩,原子核磁矩。
二、填空1、电磁波谱可分为3个部分:①长波部分,包括( )与( ),有时习惯上称此部分为( )。
②中间部分,包括( )、( )和( ),统称为( )。
③短波部分,包括( )和( )(以及宇宙射线),此部分可称( )。
答案:无线电波(射频波),微波,波谱,红外线,可见光,紫外线,光学光谱,X射线,射线,射线谱。
2、原子中电子受激向高能级跃迁或由高能级向低能级跃迁均称为( )跃迁或( )跃迁。
答案:电子,能级。
3、电子由高能级向低能级的跃迁可分为两种方式:跃迁过程中多余的能量即跃迁前后能量差以电磁辐射的方式放出,称之为( )跃迁;若多余的能量转化为热能等形式,则称之为( )跃迁。
答案:辐射,无辐射。
4、分子的运动很复杂,一般可近似认为分子总能量(E)由分子中各( ),( )及( )组成。
答案:电子能量,振动能量,转动能量。
5、分子振动可分为( )振动与( )振动两类。
答案:伸缩,变形(或叫弯曲,变角)。
6、分子的伸缩振动可分为( )和( )。
答案:对称伸缩振动,不对称伸缩振动(或叫反对称伸缩振动)。
7、平面多原子(三原子及以上)分子的弯曲振动一般可分为( )和( )。
答案:面内弯曲振动,面外弯曲振动。
8、干涉指数是对晶面( )与晶面( )的标识,而晶面指数只标识晶面的()。
答案:空间方位,间距,空间方位。
9、晶面间距分别为d110/2,d110/3的晶面,其干涉指数分别为( )和( )。
答案:220,330。
10、倒易矢量r*HKL的基本性质:r*HKL垂直于正点阵中相应的(HKL)晶面,其长度r*HKL等于(HKL)之晶面间距d HKL的( )。
答案:倒数(或1/d HKL)。
11、萤石(CaF2)的(220)面的晶面间距d220=0.193nm,其倒易矢量r*220()于正点阵中的(220)面,长度r*220=()。
材料分析思考题(答案).

材料分析思考题(答案).安徽⼯业⼤学材料分析测试技术复习思考题第⼀章 X射线的性质X射线产⽣的基本原理1 X射线的本质:电磁波、⾼能粒⼦、物质2 X射线谱:管电压、电流对谱的影响、短波限的意义等连续谱短波限只与管电压有关,当固定管电压,增加管电流或改变靶时短波限λ0不变。
随管电压增⾼,连续谱各波长的强度都相应增⾼,各曲线对应的最⼤值和短波限λ0都向短波⽅向移动。
3⾼能电⼦与物质相互作⽤可产⽣哪两种X射线?产⽣的机理?连续X射线:当⾼速运动的电⼦(带电粒⼦)与原⼦核内电场作⽤⽽减速时会产⽣电磁辐射,这种辐射所产⽣的X射线波长是连续的,故称之为连续X射线。
特征(标识)X射线:由原⼦内层电⼦跃迁所产⽣的X射线叫做特征X射线。
X射线与物质的相互作⽤1两类散射的性质(1)相⼲散射:与原⼦相互作⽤后光⼦的能量(波长)不变,⽽只是改变了⽅向。
这种散射称之为相⼲散射。
(2)⾮相⼲散射::与原⼦相互作⽤后光⼦的能量⼀部分传递给了原⼦,这样⼊射光的能量改变了,⽅向亦改变了,它们不会相互⼲涉,称之为⾮相⼲散射。
2⼆次特征辐射(X射线荧光)、饿歇效应产⽣的机理与条件⼆次特征辐射(X射线荧光):由X射线所激发出的⼆次特征X射线叫X射线荧光。
俄歇效应:俄歇电⼦的产⽣过程是当原⼦内层的⼀个电⼦被电离后,处于激发态的电⼦将产⽣跃迁,多余的能量以⽆辐射的形式传给另⼀层的电⼦,并将它激发出来。
这种效应称为俄歇效应。
第⼆章 X射线的⽅向晶体⼏何学基础1 晶体的定义、空间点阵的构建、七⼤晶系尤其是⽴⽅晶系的点阵⼏种类型晶体:在⾃然界中,其结构有⼀定的规律性的物质通常称之为晶体2 晶向指数、晶⾯指数(密勒指数)定义、表⽰⽅法,在空间点阵中的互对应晶向指数(略)晶⾯指数:对于同⼀晶体结构的结点平⾯簇,同⼀取向的平⾯不仅相互平⾏,⽽且,间距相等,质点分布亦相同,这样⼀组晶⾯亦可⽤⼀指数来表⽰,晶⾯指数的确定⽅法为:A、在⼀组互相平⾏的晶⾯中任选⼀个晶⾯,量出它在三个坐标轴上的截距并以点阵周期a、b、c为单位来度量;B、写出三个截距的倒数;C、将三个倒数分别乘以分母的最⼩公倍数,把它们化为三个简单整数h、k、l,再⽤圆括号括起,即为该组晶⾯的晶⾯指数,记为(hkl)。
材料力学实验思考题答案

材料力学实验思考题答案1. 引言。
材料力学实验是材料力学课程的重要组成部分,通过实验可以更直观地了解材料的性能和行为。
在实验过程中,学生需要不断思考和分析,以深化对材料力学知识的理解。
本文将针对材料力学实验中的一些思考题进行解答,希望能够帮助学生更好地掌握相关知识。
2. 实验思考题答案。
2.1 为什么在材料力学实验中常常使用金属材料?答,金属材料具有良好的可塑性和韧性,适用于各种加载条件下的实验。
同时,金属材料的力学性能稳定,易于加工和制备,因此在材料力学实验中被广泛应用。
2.2 为什么在拉伸试验中会出现颈缩现象?答,在拉伸试验中,当金属材料受到拉力作用时,由于材料内部应力分布不均匀,会出现局部应力集中的现象,导致材料发生颈缩。
这是由于材料的塑性变形导致的,属于材料的典型失效形式。
2.3 为什么在材料力学实验中需要进行应力应变曲线的测定?答,应力应变曲线是材料力学性能的重要指标,通过曲线的测定可以了解材料的屈服强度、抗拉强度、延伸率等性能参数。
这对于材料的选用和设计具有重要意义,因此在材料力学实验中需要进行应力应变曲线的测定。
2.4 为什么在材料力学实验中需要进行硬度测试?答,硬度是材料抵抗局部变形的能力,是材料力学性能的重要指标之一。
通过硬度测试可以快速了解材料的硬度水平,评估材料的耐磨性和耐腐蚀性能,对于材料的使用和维护具有重要意义。
2.5 为什么在材料力学实验中需要进行冲击试验?答,冲击试验可以评估材料的韧性和抗冲击性能,对于材料在受到冲击载荷时的表现具有重要意义。
通过冲击试验可以了解材料在实际工作条件下的表现,为工程设计和材料选择提供重要参考。
3. 结语。
通过对材料力学实验思考题的解答,可以更深入地了解材料力学知识的实际应用。
希望学生在实验过程中能够不断思考和分析,提高对材料力学的理解和掌握,为将来的工程实践奠定坚实的基础。
材料分析思考题2

材料分析习 题 三1.原子散射因数的物理意义是什么?某元素的原子散射因数与其原子序数有何关系?答:原子散射因数f 是以一个电子散射波的振幅为度量单位的一个原子散射波的振幅。
它表示一个原子在某一方向上散射波的振幅是一个电子在相同条件下散射波振幅的f 倍。
它反映了原子将X 射线向某一个方向散射时的散射效率。
原子散射因数与其原子序数有何关系,Z 越大,f 越大。
因此,重原子对X 射线散射的能力比轻原子要强。
2.结构因数是表示什么对衍射强度的影响?总结简单点阵、体心点阵和面心点阵衍射线的系统消光规律。
结构因数是表示晶体结构对衍射强度的影响。
简单点阵不存在系统消光,体心点阵衍射线的系统消光规律是(h+k+l)偶数时出现反射,(h+k+l)奇数时消光。
面心点阵衍射线的系统消光规律是h,k,l 全奇或全偶出现反射,h,k,l 有奇有偶时消光。
3.多重性因数的物理意义是什么?某立方晶系晶体,其{100}的多重性因数是多少?如该晶体转变为四方晶系,这个晶面族的多重性因数会发生什么变化?为什么?答:多重性因数的物理意义是等同晶面个数对衍射强度的影响因数叫作多重性因数。
某立方晶系晶体,其{100}的多重性因数是6?如该晶体转变为四方晶系多重性因数是4;这个晶面族的多重性因数会随对称性不同而改变。
4.洛伦兹因数是表示什么对衍射强度的影响?其表达式是综合了哪几方面考虑而得出的?答:洛伦兹因数是表示掠射角对衍射强度的影响。
洛伦兹因数表达式是综合了样品中参与衍射的晶粒大小,晶粒的数目和衍射线位置对衍射强度的影响。
5、试述衍射强度公式中各参数的含义?λ 为X 射线的波长 V 照射晶体的体积 Vc 为单位晶胞体积P 为多重性因数:表示等同晶面个数对衍射强度的影响;F 为结构因数:表示晶体结构对衍射强度的影响;A(θ) 为吸收因数:表示试样的吸收系数对衍射强度的影响;φ(θ) 为角因数:表示掠射角对衍射强度的影响。
e-2M 为温度因数:表示温度变化对衍射强度的影响。
建筑材料课后思考题答案和习题答案

第一章 建筑材料的基本性质复习思考题1、说明材枓的体积构成与各种密度概念之间的关系。
答:体积是材料占有的空间尺寸。
由于材料具有不同的物理状态,因而表现出不同的体积。
(1)绝对密实体积和实际密度绝对密实体积即干燥材料在绝对密实状态下的体积,即材料内部固体物质的体积,或不包括内部孔隙的材料体积.材料在绝对密实状态下单位体积的质量称为实际密度。
(2)表观体积和表观密度材料单位表观体积的质量称为表观密度。
表观体积是指包括内部封闭孔隙在内的体积。
其封闭孔隙的多少,孔隙中是否含有水及含水的多少,均可能影响其总质量或体积。
因此,材料的表观密度与其内部构成状态及含水状态有关。
(3)材料的自然体积与体积密度材料的自然体积指材料在自然状态下的体积,即整体材料的外观体积(含内部孔隙和水分).体积密度是指材料在自然状态下单位体积的质量。
(4)材料的堆积体积与堆积密度材料的堆积体积指粉状或粒状材料,在堆积状态下的总体外观体积.松散堆积状态下的体积较大,密实堆积状态下的体积较小。
堆积密度是指粉状或粒状材料,在堆积状态下单位体积的质量.2、何谓材料的亲水性和憎水性?材料的耐水性如何表示?答:当润湿边角θ≤90°时,材料能被水润湿表现出亲水性,称为材料的亲水性;当θ〉90°时,材料不能被水润湿表现出憎水性,称为材料的憎水性。
材料的耐水性是指材料长期在水作用下不破坏、强度也不明显下降的性质. 耐水性用软化系数表示,如下式:式中:KR ——材料的软化系数fb ——材料在饱和吸水状态下的抗压强度(MPa ) fg ——材料在干燥状态下的抗压强度(MPa )3、试说明材料导热系数的物理意义及影响因素。
答:材料的导热性是指材料两侧有温差时,热量由高温侧流向低温侧传递的能力,常用导热系数表示。
材料的导热系数λ主要与以下因素有关:(1)材料的化学组成和物理结构;(2)孔隙状况;(3)环境温度。
(或λ的影响因素:组成、结构,孔隙率、孔隙特征、受潮、受冻)4、说明提高材料抗冻性的主要技术措施。
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安徽工业大学材料分析测试技术复习思考题第一章 X射线的性质X射线产生的基本原理1 X射线的本质:电磁波、高能粒子、物质2 X射线谱:管电压、电流对谱的影响、短波限的意义等连续谱短波限只与管电压有关,当固定管电压,增加管电流或改变靶时短波限λ0不变。
随管电压增高,连续谱各波长的强度都相应增高,各曲线对应的最大值和短波限λ0都向短波方向移动。
3高能电子与物质相互作用可产生哪两种X射线?产生的机理?连续X射线:当高速运动的电子(带电粒子)与原子核内电场作用而减速时会产生电磁辐射,这种辐射所产生的X射线波长是连续的,故称之为连续X射线。
特征(标识)X射线:由原子内层电子跃迁所产生的X射线叫做特征X射线。
X射线与物质的相互作用1两类散射的性质(1)相干散射:与原子相互作用后光子的能量(波长)不变,而只是改变了方向。
这种散射称之为相干散射。
(2)非相干散射::与原子相互作用后光子的能量一部分传递给了原子,这样入射光的能量改变了,方向亦改变了,它们不会相互干涉,称之为非相干散射。
2二次特征辐射(X射线荧光)、饿歇效应产生的机理与条件二次特征辐射(X射线荧光):由X射线所激发出的二次特征X射线叫X射线荧光。
俄歇效应:俄歇电子的产生过程是当原子内层的一个电子被电离后,处于激发态的电子将产生跃迁,多余的能量以无辐射的形式传给另一层的电子,并将它激发出来。
这种效应称为俄歇效应。
第二章 X射线的方向晶体几何学基础1 晶体的定义、空间点阵的构建、七大晶系尤其是立方晶系的点阵几种类型晶体:在自然界中,其结构有一定的规律性的物质通常称之为晶体2 晶向指数、晶面指数(密勒指数)定义、表示方法,在空间点阵中的互对应晶向指数(略)晶面指数:对于同一晶体结构的结点平面簇,同一取向的平面不仅相互平行,而且,间距相等,质点分布亦相同,这样一组晶面亦可用一指数来表示,晶面指数的确定方法为:A、在一组互相平行的晶面中任选一个晶面,量出它在三个坐标轴上的截距并以点阵周期a、b、c为单位来度量;B、写出三个截距的倒数;C、将三个倒数分别乘以分母的最小公倍数,把它们化为三个简单整数h、k、l,再用圆括号括起,即为该组晶面的晶面指数,记为(hkl)。
显然,h、k、l为互质整数。
3 晶带、晶带轴、晶带定律,立方晶系的晶面间距表达式(1)晶带:在晶体结构和空间点阵中平行于某一轴向的所有晶面称为一个晶带。
(2)晶带轴:晶带中通过坐标原点的那条平行直线称为晶带轴。
(3).晶带定律:凡属于 [uvw] 晶带的晶面,它的晶面指数(HKL)必定符合条件:Hu + Kv + Lw = 04 厄瓦尔德作图法及其表述,它与布拉格方程的等同性证明(a) 以λ1=k 为半径作一球; (b) 将球心置于衍射晶面与入射线的交点。
(c) 初基入射矢量由球心指向倒易阵点的原点。
(d) 落在球面上的倒易点即是可能产生反射的晶面。
(e) 由球心到该倒易点的矢量即为衍射矢量。
5布拉格方程 :2dsin θ = n λ6布拉格方程的导出、各项参数的意义,作为产生衍射的必要条件的含义。
布拉格方程只是确定了衍射的方向,在复杂点阵晶脆中不同位置原子的相同方向衍射线,因彼此间有确定的位相关系而相互干涉,使得某些晶面的布拉格反射消失即出现结构消光,因此产生衍射的充要条件是满足布拉格方程的同时结构因子不为零7干涉指数引入的意义,与晶面指数(密勒指数)的关系干涉指数 HKL 与 Miller 指数 hkl 之间的关系有 :H= nh , K = nk , L = nl不同点:(1)密勒指数是实际晶面的指数,而干涉晶面指数不一定;(2)干涉指数HKL 与晶面指数( Miller 指数) hkl 之间的明显差别是:干涉指数中有公约数,而晶面指数只能是互质的整数。
相同点:当干涉指数也互为质数时,它就代表一族真实的晶面。
所以说,干涉指数是晶面指数的推广,是广义的晶面指数。
第三章 X 射线衍射强度1原子散射因子、结构因子、系统消光的定义与意义系统消光:在X 射线衍射过程中,把因原子在晶体中位置不同或原子种类不同而引起的某些方向上的衍射线消失的现象称为系统消光。
结构因子:定量表征原子排布以及原子种类对衍射强度影响规律的参数称为结构因子,即晶体结构对衍射强度的影响因子。
2结构因子的计算 =2hkl F 21)(2cos ⎪⎩⎪⎨⎧⎭⎬⎫++∑=n j j j j j LZ KY HX f π+21)(2sin ⎪⎩⎪⎨⎧⎭⎬⎫++∑=n j j j j j LZ KY HX f π, 3产生结构消光的根本原因?会分析消光规律。
例如试分析面心立方晶体的消光规律根本原因:电子,原子,晶胞散射对X 射线强度影响。
点阵 无消光简单点阵:全部底心点阵:H ,K 全奇全偶体心点阵:H+K+L 为偶数面心点阵:HKL 同性第四章 多晶体分析方法德拜粉末照相法1德拜摄照法中光源、样品、相机、底片的特点光源:X 射线管样品:圆柱状的粉末集合体,多晶体细棒相机:带有盖子的不透光的金属筒形外壳,试样架,光阑,承光管等部分组成底片:长条底片,紧靠相机内壁安装。
2德拜衍射花样的指标化原理原理:晶体上的衍射反射带有晶体特征的特定衍射花样。
衍射花样指数标定也叫衍射花样的指数化,就是确定每一对衍射环所对应的干涉指数HKL,通过干涉指标确定晶体的类型。
X射线衍射仪1衍射仪的基本构成、结构与原理。
测角仪的“θ—2θ”、“θ—θ”模式连动的意义。
基本构成:1 X射线发生器 2 测角仪 3 辐射探测器 4 记录单元 5 控制单元原理:在X射线衍射仪中X射线光源是固定的而让平板试样,在线光源形成的平面上转动,以改变X射线与晶面的夹角,让不同的晶面满足布拉格关系产生衍射。
根据测角平面的设计方式分为两种:水平、立式(垂直)θ—2θ:光源不动,试样与探测转转动,试样转动θ角,探测器转动2θ,它们保持θ-2θ关系,即为θ-2θ模式。
θ—θ:试样不动,与探测转动,光源转动θ角,探测器转动θ,它们保持θ-θ关系,即为θ-θ模式。
2 X射线仪连续扫描、步进(阶梯)扫描的工作方式特点?在实际实验时如何选择?(1) 连续扫描:探测器以一定的速度在选定的角度内进行连续扫描,探测器以测量的平均强度,绘出谱线,特点是快,缺点是不准确,一般工作时,作为参考,以确定衍射仪工作的角度。
(2)步进扫描:探测器以一定的角度间隔逐步移动,强度为积分强度,峰位较准确。
3从物质的X射线衍射图谱上可以得到什么信息?衍射角;衍射强度I4两种衍射方法(德拜、衍射仪)对样品的要求德拜相机:1 圆柱状的粉末集合体,多晶体细棒 2 需要量少 3 粉体粒度要求10-3-10-5cm 衍射仪:1 粒度与德拜差不多 2 要求量大 3 一般采用块状平面试样第五章 X射线物相分析1根据X射线衍射图谱进行定性的相分析的依据每种结晶物质都有特定的结构参数,这些参数均影响这X射线衍射线的位置、强度。
位置:晶胞的形状、大小,即面间距d。
强度:晶胞内原子的种类、数目、位置。
尽管物质的种类多种多样,但却没有两种物质的衍射图是完全相同的。
因此,一定物质的衍射线条的位置、数目、及其强度,就是该种物质的特征。
当试样中存在两种或两种以上的物质时,它们的衍射花样,即衍射峰,会同时出现,但不会干涉,仅仅衍射线条强度的简单叠加。
根据此原理就可以从混合物的衍射花样中将物相一个一个地寻找出来。
PDF、ASTM、JCPDS卡片组成以及各项目的含义2 数字索引(哈那瓦特索引)、字母索引的建立方法与原理,为什么要引入哈那瓦特索引。
字母索引:字母索引是按物质的英文名称字母顺序排列的,在每种物质的后面,列出其化学分子式,三根最强线,d值,以及以最强线强度为100相对强度值、对应的卡片号。
如果知道其中含又有某种或几种元素时,使用此索引最为方便。
数字索引:数字索引分两种方法,即:哈那瓦特法和Fink法,一般多用哈那瓦特法。
哈那瓦特索引适用于对待测物质毫无了解的情况下查找物相定性相分析。
3利用哈那瓦特索引进行单相物相分析的一般步骤。
(1) 计算相对强度;(2)按强度大小排列d 值;(3)从前反射区中选取强度最大的三根衍射线;(4)在数字索引中找出对应d1值的那一组;(5)按次强线的面间距d2找到接近的那一组,看d3值是否一致;(6) 对其中的八强线,找出对应的卡片号;(7) 由卡片上的d 数据划出该相对应的线条;(8) 如果(5)不能完成,即找不到对应的物质,则说明该三强线不是同一相,则须以第四强线等作为其中的三强线进行组合,重复(1)~(6)步骤,直至找出相对应的数据。
(9) 将余下的线条重新归一化,再重复(1)~(6)步第七章1. 光学显微镜的局限性的根本原因是什么?物体上的一个几何物点通过透镜成像时,由于衍射效应,在像平面上得到的并不是一个点,而是一个中心最亮、周围带有明暗相间的同心圆环的圆斑,即所谓Airy 斑。
两个Airy 斑相互靠近,达到一定程度,眼睛无法分辨。
光学显微镜的分辨率受到了其光源波长的限制。
2. 显微系统分辨本领的含义?影响分辨本领的因素?(阿贝公式)在数值上,分辨本领就是一个光学系统刚能将两个靠近的物点分开时,这两个物点间的距离。
其中: 是摄照源的波长 是透镜的孔径半角n 是物与镜之间介质的折射率光学显微镜的分辨率受到了其光源波长的限制。
3. 磁透镜的像差类别与含义?像散 、 球差 、 色差4. 磁透镜的景深、焦长的含义与特点?透镜的景深:透镜物平面允许的轴向偏差定义为透镜的景深,电磁透镜孔径半角越小,景景深越大透镜的焦长: 透镜像平面允许的轴向偏差定义为透镜的焦长。
当电磁透镜放大倍数和分辨本领一定时,透镜焦长随孔径半角减小而增大。
第八章 γλα=061.nSin1.什么是透射电镜的三级放大系统?试说明每一级的功用?(1)物镜物镜是用来形成第一幅高分辨率电子显微图像或电子衍射花样的透镜。
透射电子显微镜分辨本领的高低主要取决于物镜。
(2)中间镜中间镜是一个弱激磁的长焦距变倍透镜,可在0-20倍范围调节。
一般的中高级电镜其中间镜均有两个。
(3)投影镜投影镜一般也有两个,它的作用是把经中间镜放大的像(或电子衍射花样)进一步放大,并投影到荧光屏上,它和物镜一样,是一个短焦距的强磁透镜。
2.物镜光栏、选区光栏的位置与作用?物镜光栏:作用:改变衬度-通过改变参与成像的电子束的种类、强度位置:物镜的后焦面选区光栏:作用:选择感兴趣的区域,进行结构分析。
为了分析样品上的一个微小区域,应该在样品上放一个光栏,使电子柬只能通过光栏孔限定的微区,然后对这个限定的微区进行衍射等分析。
位置:实际位于物镜的像平面。
3.透射电子显微镜与光学显微镜有何区别?项目光学显微镜(0P)透射电镜(TEM)1 光源可见光电子2 信息(图像)样品表面的反射光与物质相互作用3 透镜玻璃磁透镜4 样品要求简单(如金相)复杂5 观察记录方便转换6 维护简单复杂7 成本几万-几十万几百万-几千万光学显微镜与电子显微镜的比较复型样品的基本制备方法有几种?简述塑料-碳二级的基本制备方法,并用图示之。