玻璃表面蚀刻的原理
玻璃的表面改性
（４）表面导电膜——在玻璃表面镀上过 渡金属氧化物或金属薄膜，使其具有良 好导电性。
制造方法包括热喷雾法，浸渍法，真空 沉积法，还原法等。
（５）表面憎水薄层：在表面施加硅有机 化合物等镀层，起到憎水作用。 用于高湿度下的观察窗、电气绝缘材料 、防止玻璃表面漏电、防止风化。 常用聚硅酮作为憎水涂层。 制备方法：喷雾法、浸渍法等。
（２）缺点 离子注入层薄 离子束从发射至零部件表面为直线行进 ，因此，不能处理复杂的凹腔表面。 由于离子注入需在真空下进行，因此， 零部件的尺寸受到真空室尺寸的限制。 离子注入设备比较昂贵，因此工艺成本 较高。
三.电子束表面改性处理
１.电子束的产生及其材料表层的作用 电子由电子枪阴极发射后，在加速电压的作 用下，速度高达光束的2/3。高速电子束经电 磁透镜聚集后辐照在待处理的工件表面。
由于离子注入是高能量输入的动力学过 程，因此获得的表面层组成相不受传统 的热力学限制，可获得其它方法得不到 的新合金相。
离子注入表层与基体材料无明显界面， 使力学性能在注入层至基材为连续过渡 ，保证了注入层与基材之间具有良好的 动力学匹配性，避免了表面层的破裂与 剥落。
离子注入为常温真空表面处理技术，因此 ，零部件经表面处理后，无变形，无氧化 ，保持的尺寸精度和表面状态。
滤光膜
吸收、干涉原理
中性密度滤光膜：在一个很宽的光谱内 ，均匀的降低入射光束强度的滤光膜。 由单层金属制成。
截止滤光膜：特征曲线
干涉截止：长波通、短波通
带通滤光膜：只允许一定宽度光波通过 的滤光片。
第三节 三束表面改性
三束指：激光束、离子束、电子束。 采用三束对材料表面进行改性具有如下特 点： 激光束的能量密度大，被处理的材料表
在手机玻璃的减薄过程中发生蚀刻不良原因与改善措施
• 玻璃脱齿条重叠在一起，蚀酸或清洗不到的玻璃面会出现条纹； • 酸液液面不能完全覆盖玻璃，蚀刻后严重的条纹；
4、表面脏污
原因分析：
• 玻璃在蚀刻前表面受到污染，如：油脂、手指印等污物粘在玻璃表面，形成表面污；
一、四大主要问题点描述
1：凹凸点和白点 2：表面划伤 3：表面脏污 4：流水纹或酸刻条纹
1、凹凸点和白点
原因分析：
•玻璃内有杂质和气泡，蚀刻后脱落形成凹点，如有化学物质、金属氧化物、硝酸钾等杂质，造成不 反应或反应不完全时，导致不脱落，则形成凸点； •玻璃表面的硝酸钾颗粒没有及时清理，蚀刻后颗粒脱落，与颗粒接触处不被蚀刻从而突出形成凸点；
来料玻璃表面凹凸点放大和示意图
来料玻璃中的气泡或金属氧化 物等异物脱落示意
在显微镜下查看用纯HF和添加（HF:HCI 10:1）比例的两种情况下“康宁5380 玻璃”蚀刻后表面情况图片
改善方案： • 加强来料管控和蚀刻前的检验。 • 依据客户检验要求，对有气泡或杂质的来料玻璃进行相应清洁或研磨等预处理工
改善方案： • 加强蚀刻前的检验管理，改善 • 通过“人机法料环”分析脏污改善因素；
作。
2、表面划伤
原因分析：
• 玻璃产品含有杂质，蚀刻后脱落成划痕； • 玻璃在蚀刻前受到划伤，蚀刻后划痕变大且带有酸刻条纹； • 擦拭玻璃的布条多次使用，会导致布条硬化，布条有胶粒或玻璃碎直接与玻璃发生摩擦导致划伤
而出现划痕；
3、流水纹或酸刻条纹
原因分析：
• 改善方案：
• 酸液浓度过高，速度出现不均匀情况，蚀刻完成的玻璃没及时进入清洗槽清洗，残留于玻 璃表面的酸液继续蚀刻玻璃表面会出现直线酸刻条纹；
蚀刻工艺流程
蚀刻工艺流程蚀刻工艺是一种常见的微纳加工技术，广泛应用于集成电路制造、光学器件制造、微机械系统等领域。
蚀刻工艺通过化学溶液或者等离子体对材料表面的刻蚀，实现对微纳结构的加工。
本文将介绍蚀刻工艺的基本流程，以及常见的蚀刻方法和注意事项。
1. 蚀刻工艺流程。
蚀刻工艺的基本流程包括准备工作、蚀刻加工和后处理三个主要环节。
1.1 准备工作。
在进行蚀刻加工之前，首先需要准备好待加工的衬底材料。
通常情况下，衬底材料是硅片、玻璃片或者其他基片材料。
在准备工作中，需要对衬底表面进行清洁处理，以去除表面的杂质和污染物，保证蚀刻加工的质量和精度。
1.2 蚀刻加工。
蚀刻加工是蚀刻工艺的核心环节，通过化学溶液或者等离子体对材料表面进行刻蚀，实现对微纳结构的加工。
蚀刻加工的关键是选择合适的蚀刻溶液或者蚀刻气体，控制加工时间和温度，以及保证加工过程中的稳定性和一致性。
1.3 后处理。
蚀刻加工完成后，需要对加工后的样品进行后处理。
后处理工作包括清洗去除残留的蚀刻溶液或者蚀刻气体，以及对加工表面进行保护处理，防止表面氧化或者其他不良影响。
2. 常见蚀刻方法。
蚀刻工艺根据加工原理和加工方法的不同，可以分为干法蚀刻和湿法蚀刻两种基本方法。
2.1 干法蚀刻。
干法蚀刻是利用等离子体或者化学气相反应进行刻蚀的一种加工方法。
干法蚀刻具有加工速度快、加工精度高、污染少等优点，广泛应用于集成电路制造和光学器件制造等领域。
2.2 湿法蚀刻。
湿法蚀刻是利用化学溶液对材料表面进行刻蚀的一种加工方法。
湿法蚀刻具有操作简单、成本低廉等优点，适用于对材料表面进行精细加工和微纳结构加工。
3. 注意事项。
在进行蚀刻工艺时，需要注意以下几个方面的问题：3.1 安全防护。
蚀刻工艺涉及到化学溶液和气体的使用，操作人员需要做好相应的安全防护工作，避免接触有害物质对人体造成伤害。
3.2 设备维护。
蚀刻设备需要定期进行维护保养，保证设备的稳定性和加工精度。
3.3 加工参数。
玻璃工艺中的表面改性与涂层技术
玻璃工艺中的表面改性与涂层技术1. 前言玻璃作为一种传统的材料，因其优异的透明度、化学稳定性和机械性能，在许多领域有着广泛的应用。
随着科技的进步和工业的发展，对玻璃的性能要求也越来越高。
表面改性和涂层技术作为玻璃加工的重要手段，能够显著提升玻璃的性能，拓宽其应用范围。
本文将详细探讨玻璃工艺中的表面改性和涂层技术。
2. 表面改性技术表面改性技术是指通过物理或化学方法改变玻璃表面性质的技术。
常见的表面改性方法有：化学蚀刻、物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等。
2.1 化学蚀刻化学蚀刻是利用化学反应去除玻璃表面一定厚度的物质，以改变其表面形貌和粗糙度的方法。
常用的蚀刻剂有氢氟酸、硫酸等。
化学蚀刻可以实现对玻璃表面的精细加工，用于制作微孔、微通道等结构。
2.2 物理气相沉积（PVD）PVD技术是通过真空条件下，将蒸发源的固体材料蒸发并沉积在玻璃表面，形成一层均匀、致密的薄膜。
常见的PVD方法有真空蒸发、磁控溅射等。
PVD技术可以用于制备各种功能性薄膜，如防指纹膜、抗反射膜等。
2.3 化学气相沉积（CVD）CVD技术是通过在真空条件下，将气体前驱体在加热或光照的条件下分解，在玻璃表面沉积一层薄膜。
CVD技术可以实现对玻璃表面进行纳米级加工，用于制备纳米结构薄膜。
3. 涂层技术涂层技术是在玻璃表面涂覆一层或多层涂层，以改善玻璃的性能和增加其功能。
常见的涂层方法有溶胶-凝胶法、喷涂法、 roll-to-roll 涂层等。
3.1 溶胶-凝胶法溶胶-凝胶法是通过溶液中的金属盐或氧化物与醇或酸反应，形成溶胶，随后溶胶凝胶化形成涂层。
该方法可以实现对玻璃表面进行精细调控，制备出具有特定性能的涂层，如光学涂层、抗菌涂层等。
3.2 喷涂法喷涂法是将涂料通过喷枪喷涂在玻璃表面，形成均匀的涂层。
喷涂法适用于大面积涂层制备，效率高，成本低。
常见的喷涂方法有空气喷涂、高压喷涂等。
3.3 roll-to-roll 涂层roll-to-roll 涂层是一种连续涂层制备技术，通过滚轴将涂料均匀涂覆在玻璃表面。
玻璃工艺学第五章
OH- OH- OH- OHOH- OH- OH- OHOH-
OH-
OH-
OH-
2.如果Na2O、CaO等碱性氧化物含量较少，这些薄层形成后就 不再发展；如果碱性氧化物含量较多，被吸附的水膜就变成了氢 氧化物的溶液，并进一步吸收水分，使玻璃表面受到破坏。
水气的侵蚀机理：
实践证明，对于玻璃来讲，水气比溶液对其侵蚀更大。 水溶液对玻璃的侵蚀是由于玻璃中的Na+与溶液中H+的交换， 当表面层中Na+逐渐减少后，使侵蚀变得缓慢，最后趋于停止。 但是，水气是以微粒水滴粘附在玻璃表面的。释放出的碱没 有被移走，而是在不断积累。随着侵蚀的进行，碱浓度越来越 大，使PH值上升，最后类似于碱，从而大大加速对玻璃的侵 蚀。 因此，水气对玻璃的侵蚀，先是以离子交换为主的释碱过程， 后来逐步过渡到以破坏网络结构为主的溶蚀过程。
2.过滤膜。
通常采用火山灰制备的CaO-Al2O3-B2O3-SiO2系统制 备微孔玻璃膜，该体系孔径单一并且孔径大小易于控 制。机械强度高、耐热性好，化学稳定性高。
2.3表面状态的影响
介质对玻璃的侵蚀首先从玻璃表面开始。 通常可以用表面处理的方法改变玻璃的表面状态， 达到提高化学稳定性的目的。方法主要有两大类： 一.从玻璃表面移除对侵蚀介质具有亲和力的成分， 如碱金属氧化物。通常采用酸性气体、水和酸性溶液 等来进行处理，使玻璃表面生成一定厚度的高硅氧膜， 以提高化学稳定性。
2.2热处理的影响
在退火处理的过程中，玻璃当中的碱性氧化物要转 移到表面。
当酸性气体（比如SO2）存在的条件下,部分碱性氧 化物会被酸性气体中和，而形成“白霜”（主要为硫 酸钠），通常称为“硫霜化”。这部分白霜可以阻止 碱性氧化物的继续逸出，并且容易被除掉，因此提高 了玻璃的化学稳定性。
玻璃表面加工
一、名词解释：1、熔断切割：利用焊气或其它热源，将玻璃上确定的部位进行局部熔融边切断的方法。
2、玻璃机械切割：利用玻璃的抗张应力低的机械性能，一般采用金刚石或金刚砂等磨料在表面施以伤痕，受伤部位由于受到张应力而切断的方法。
3、玻璃表面的化学蚀刻：利用化学侵蚀的方法使玻璃表面形成各种花纹图案或商标。
4、玻璃表面的化学蒙砂：属于化学侵蚀过程，生成难溶反应物，成为小颗粒晶体牢固地附着在玻璃表面，是表面凸凹不平。
5、玻璃表面喷砂：向玻璃表面喷射细石英砂或金刚砂，以形成毛面玻璃过程（属机械冷加工）。
6、离子交换增强：将玻璃放在高温熔盐中，或将盐类溶液涂在加热到一定温度的玻璃表面，玻璃表面离子与熔盐或溶液离子进行交换，由于交换后体积变化，使玻璃表面产生压应力，中心产生张应力，从而使玻璃强度提高（化学钢化）。
7、脆性：材料超过它们的强度极限立即破裂的特性。
8、玻璃色散：由于光学玻璃对不同波长的光具有不同折射率，当入射光为非单色光时，将出现色散现象。
9、硬度：材料抵抗其他物体入侵的能力。
10、双折射：由于玻璃内有应力残留，破坏了各向同性，而产生不同方向折射率不同，用光程差表示。
二、基本识知：1、金刚石锯切割：（1）切割厚玻璃，还能切割水晶，陶瓷等。
（2）金刚石锯：边缘镶嵌人造金刚石颗粒的圆形锯。
分类：A外圆镶嵌，锯片切割。
特点：使用广泛，高效率。
锯片厚度应为直径1/50，太薄则刚性不足，切割精度下降。
B内圆切割：由于受到外圆张力，因而能抑制刃的变形，厚度可以非常薄。
应用：切割玻璃棒，切割很薄切片。
2、超硬钻孔法：（Φ<3mm）3~15mm厚玻璃穿孔，用超硬质制三角钻、麻花钻、切削液用水，轻油，松节油。
3、研磨穿孔法：（Φ>8mm）4、Φ<1mm 采用金属丝制成钻头（加研磨液）5、超声波钻孔：以振幅为20~50μm频率16~30Hz超声波振动工具，同时在工具与玻璃间加入研磨液。
特点：由于磨料只起一次撞击作用，加工量小。
玻璃的表面化学深蚀刻的工艺原理与其操作方案
玻璃的表面化学深蚀刻的工艺原理与其操作方案发布日期：2010-5-15 2:57:46 | | 来源：admin一、化学蚀刻的原理：我们知道玻璃属于无机硅物质中的一种,非晶态固体。
易碎;透明。
它与我们的生活密不可分,现代人已不再满足于物理式机械手段加工的艺术玻璃制品,更致力于用多种化学方式对玻璃表面进行求新求异深加工,以求得到更好的视觉享受,从而使玻璃产品的附加值再度得到提高. 例如对玻璃表面进行化学粗化[蒙砂;玉砂],化学深蚀刻[凹蒙;冰雕],化学抛光及其它工艺,本文论述的重点将是玻璃化学的氧化与还原反应的构造及工艺操作控制性。
对于玻璃蚀刻液中起氧化反应的物质是选择纯液质的能与玻璃起氧化反应的可以是H2SO4; HCL, HNO3. 它们能与玻璃中的硅原子发生氧化作用,形成SIO2, 做为蚀刻液中设定的络合剂氢氟酸正好能将SIO2再次分解, 从而形成我们设计的化学反应程式,达到对玻璃表面进行蚀刻的目地。
例如程式:a:3SI+4HNO3=3SIO2+2H2O+4NO b:SIO 2+6HF = H2[SIF6]+2H2O对玻璃蚀刻液配制可以展现的物质性质包含氧化剂;络合剂;缓冲剂;催化剂;附加剂;表面活性剂;酸雾抑制剂. 如下再例:氧化剂：H2SO4 ; HCL ; HNO3;还原剂：HF缓冲剂：H2O; CH3COOH;催化剂：NH4NO3; CuSO4; NaNO2; AgNO3;附加剂：Br2酸雾抑制剂：FC-129; FC-4; FT248TM 湿润活性剂; 长直链烷基TH系; 烷基酚聚氧乙烯醚按重量百分比配制玻璃蚀刻液可以视深蚀刻、浅蚀刻及抛光要求对蚀刻液中各物质百分比投料进行调整. 如下续例:缓冲剂--------------------------------------- 40----67%氧化剂--------------------------------------- 15----38%络合剂--------------------------------------- 27----45%催化剂--------------------------------------- 0.03---0.06附加剂--------------------------------------- 0.05---0.1--------------------------- 0.04酸雾抑制剂----------------------------------0.003重度蚀刻液中氧化剂控制在20%左右; 值得提醒的是被蚀刻的玻璃凹面呈抛光状态的控制是将缓冲剂的量放在60%左右. 若冰棱小可适量提高络合剂比例上升4%—8%左右.对于玻璃表面化学抛光方案另再续实例如下:1: 100g五倍子酸+ 305ml乙醇胺+ 140ml水+ 1.3g吡嗪+ 0.24mlFC1292: 60ml49%HF +30mlHNO3[69%] +30ml/5ml/LCrO3+2gCu[NO3]+ 60ml CH3COOH + H2O 60ml3: 100gH2O+ 40% HF36g + 68%HNO3 + NaNO2 0.03g +0.24mlFC--3或0.02gFT2484: 50g HNO3[68%] + 30gHF {55%} + CH3 COOH 30 g+0.6gBr2对于以上各种化学配比希望操作人再次调试以获得良好结构比,满足工艺要求！二、关于对玻璃表面蚀刻的冰棱大小及深度的调整方案∶1: 蚀刻深度较理想,但冰棱较小或没有？解决方案: 对全量加入5%—16%络合剂适量调整。
玻璃体的蚀刻原理与应用
玻璃体的蚀刻原理与应用1. 玻璃体蚀刻的基本原理蚀刻是一种在表面上进行化学或物理处理的技术，通过使用一种腐蚀剂或激光等工具，可以在玻璃体表面刻上各种形状、图案或文字。
蚀刻工艺在玻璃器皿的制作、电子元件的加工和装饰品的设计等方面都有广泛的应用。
玻璃体的蚀刻主要基于以下原理：1.化学蚀刻：通过与玻璃表面发生化学反应，溶解或腐蚀玻璃表面，实现蚀刻效果。
化学蚀刻通常使用酸性或碱性的蚀刻液，其中酸性蚀刻液常用的有氢氟酸、硫酸、硝酸等；碱性蚀刻液常用的有氢氧化钠、氢氧化钾等。
2.物理蚀刻：通过物理方法将玻璃体表面的材料移除，实现蚀刻效果。
常用的物理蚀刻方法包括激光蚀刻、喷砂蚀刻和机械蚀刻等。
蚀刻过程中，需要注意蚀刻液的浓度、温度和蚀刻时间等参数的控制，以获得所需的蚀刻效果。
2. 玻璃体蚀刻的应用领域玻璃体蚀刻在各个领域都有重要的应用，主要包括以下几个方面：2.1 玻璃器皿制作蚀刻技术可用于玻璃器皿的制作，例如玻璃杯、花瓶、酒具等。
通过在玻璃表面进行蚀刻，可以刻上各种图案、文字或纹理，增加器皿的美观性和独特性。
2.2 电子元件加工蚀刻技术在电子元件加工中也有广泛应用。
例如，在半导体器件制造过程中，常使用化学蚀刻方法去除多余的材料，形成不同的电极、导线或阻焊层等。
2.3 装饰品设计玻璃体蚀刻被广泛应用于装饰品的设计和制作。
通过蚀刻技术，可以在玻璃体上刻上各种图案、文字或浮雕，制作出具有艺术性和独特风格的装饰品，例如玻璃摆件、首饰等。
2.4 玻璃艺术品创作蚀刻技术在玻璃艺术品的创作中起到了重要的作用。
艺术家可以通过蚀刻技术在玻璃表面刻上各种形状、图案或文字，使作品表现出独特的视觉效果和艺术感。
2.5 光学元件加工在光学领域，玻璃体蚀刻常被用于光学元件的加工。
通过控制化学或物理蚀刻过程，可以制作出具有特定形状和表面特性的光学元件，例如透镜、棱镜等。
3. 玻璃体蚀刻技术的发展趋势随着科学技术的不断进步和应用需求的增加，玻璃体蚀刻技术也在不断发展。
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玻璃表面蚀刻的原理
热度 6已有 84 次阅读2010-10-23 17:15|个人分类:理论和实践|
玻璃表面化学深蚀刻的工艺原理与操作方案
2007-12-17 18:57
本文对平板玻璃表面化学蚀刻做一些较为通俗的理性论述:
一、化学蚀刻的原理：
我们知道玻璃属于无机硅物质中的一种，非晶态固体。
易碎；透明。
它与我们的生活密不可分，现代人已不再满足于物理式机械手段加工的艺术玻璃制品，更致力于用多种化学方式对玻璃表面进行求新求异深加工，以求得到更好的视觉享受，从而使玻璃产品的附加值再度得到提高. 例如对玻璃表面进行化学粗化[蒙砂；玉砂]，化学深蚀刻[凹蒙；冰雕]，化学抛光及其它工艺，本文论述的重点将是玻璃化学的氧化与还原反应的构造及工艺操作控制性。
对于玻璃蚀刻液中起氧化反应的物质是选择纯液质的能与玻璃起氧化反应的可以是H2SO4; HCL, HNO3. 它们能与玻璃中的硅原子发生氧化作用, 形成SIO2, 做为蚀刻液中设定的络合剂氢氟酸正好能将SIO2再次分解, 从而形成我们设计的化学反应程式,达到对玻璃表面进行蚀刻的目地。
例如程式:
a:3SI+4HNO3=3SIO2+2H2O+4NO b:SIO2+6HF = H2[SIF6]+2H2O
对玻璃蚀刻液配制可以展现的物质性质包含氧化剂;络合剂;缓冲剂;催化剂;附加剂;表面活性剂;酸雾抑制剂. 如下再例:
氧化剂： H2SO4 ; HCL ; HNO3;
还原剂： HF
缓冲剂： H2O; CH3COOH;
催化剂： NH4NO3; CuSO4; NaNO2; AgNO3;
附加剂： Br2
酸雾抑制剂： FC-129; FC-4; FT248TM 湿润活性剂 ; 长直链烷基TH系；烷基酚聚氧乙烯醚
按重量百分比配制玻璃蚀刻液可以视深蚀刻、浅蚀刻及抛光要求对蚀刻液中各物质百分比投料进行调整. 如下续例:
缓冲剂--------------------------------------- 40----67%
氧化剂--------------------------------------- 15----38%
络合剂--------------------------------------- 27----45%
催化剂--------------------------------------- 0.03---0.06
附加剂--------------------------------------- 0.05---0.1
表面湿润活性剂--------------------------- 0.04
酸雾抑制剂----------------------------------0.003
重度蚀刻液中氧化剂控制在20%左右; 值得提醒的是被蚀刻的玻璃凹面呈抛光
状态的控制是将缓冲剂的量放在60%左右. 若冰棱小可适量提高络合剂比例上
升4%—8%左右.
对于玻璃表面化学抛光方案另再续实例如下:
1: 100g五倍子酸 + 305ml乙醇胺 + 140ml水 + 1.3g吡嗪 + 0.24mlFC129
2: 60ml49%HF +30mlHNO3[69%] +30ml/5ml/LCrO3 +2gCu[NO3]+ 60ml CH3COOH + H2O 60ml
3: 100gH2O+ 40% HF36g + 68%HNO3 + NaNO2 0.03g + 0.24mlFC--3或0.02gFT248 4: 50g HNO3[68%] + 30gHF {55%} + CH3 COOH 30 g+ 0.6gBr2
对于以上各种化学配比希望操作人再次调试以获得良好结构比,满足工艺要求！
二、关于对玻璃表面蚀刻的冰棱大小及深度的调整方案∶
1: 蚀刻深度较理想，但冰棱较小或没有？
解决方案: 对全量加入5%—16%络合剂适量调整。
2: 蚀刻深度不理想，但冰棱大小较合适？
解决方案: 对全量加入氧化剂3%—8%适量调整。
3: 深度好，但冰棱排列不齐整？
解决方案: 对全量加入缓冲剂10%,再次混合蚀刻液后静放5---12小时即可再加工操作。
4: 即没有深度也没有冰棱？
解决方案: a: 试加10%络合剂 b: 试加8%氧化剂 c: 试加30%络合剂及18%氧化剂。
5: 深度和冰棱都理想，就是凹面不亮？
解决方案: 对全量加入12%—25%缓冲剂并适量延长蚀刻时间约30—50min即可。
6: 环境气味太重可添加FC129, 对全量加入0.03—0.05%。
7: 药液还原比例:7:1法使络合剂与氧化剂新添入即时调整还原起始浓度。
8: 附加剂及催化剂定期少量加入可使蚀刻液保持敏感活度。
9: 定期对残液用5%—12% AL2[SO4]3,中和能使残液起死回生, 再度利用。
三、关于平板玻璃在浸泡法蒙砂过程中容易出现瑕癖的解决方案:
1：无论平置淋砂法或垂直浸泡法，在蒙砂之前必须将玻璃制品进行彻底脱脂清洗，并视工艺状态，决定是否用水喷枪对已脱脂的玻璃表面再度冲淋, 方向可由上至下往复操作,
2: 在蒙砂池中发现有大量的白色结晶物, 但在蒙砂时间内操作后发现砂面上有针亮点, 可对蒙砂液直接适量添加36%HCL或H2SO4[96-98%]
3: 在蒙砂池中发现白色的结晶物不多, 而且在蒙砂时间操作后发现砂面上有针
亮点甚至有大面积未被中度蒙砂, 请直接在蒙砂池中添加蒙砂粉适量并少量添加氧化剂即可修正浓度。
4: 在蒙砂操作后倘若发现砂面上有大面积花斑斓癖点, 这是池液中氧化剂过量所至, 只需往池液中适量添加自来水并同时加入少量蒙砂干粉即可解决诸上所述毛病。
5: 倘若发现蒙砂后的板面上有无数多超细小白点, 这是说明池液中已有大量的六氟化硅积淀, 解决的方案A: 对总量而言加入10—16%AL2[SO4]3, 用气泵连续冲扬导使药液与AL2[SO4]3即时分解H2SIF6, 这个分解反应结果是可使大量的H2SIF6分解成少量的AL2[SIF6]3和H2SO4适量再添入NH4F2及少量的H2O
即可使旧液复新。
6: 冬天化学蒙砂的反应速度太慢的解决方案是在池液中适量添加55%HF与氧化剂即可大大提快蒙砂速度，平置琳砂法的解决方案是在平池上端安装数个浴霸红外线灯泡，使被淋砂物质有温度提升，导至蒙砂时间提速, 提高产效.
7: 夏天蒙砂后的玻璃板面易出现象泪痕似的花道, 解决方案例如改变蒙砂粉配比结构, 不用H2SO4而选用31%HCL, 这个原理是可大大减缓蒙砂速度, 导至不易产生二次水道性再蚀刻。
8: 本人认为较好的配方案本，要选用优质的性能稳定的化工原料,才可以配比出更好的蒙砂粉,每公斤蒙砂粉可长期有效地出产高质量玉砂玻璃在12—16平方米之多。
而很差的配方及低劣原料配制出的蒙砂粉只能蒙出5--8平方米，易沉淀且隔天蒙砂池中就有大块结晶, 很不易捣碎更不容易被气管扬动。
通过本文上述中理论性论述, 能使无机硅发生氧化作用的原料自然离不开强氧化剂，所谓无酸结构纯粹是神奇的慌言，这种配方中案例指导把蒙砂粉分成甲、乙双组份, 甲组份自然是蒙砂干粉, 而乙组份自然只能属于干粉级强氧化剂，这种干粉级强氧化剂依次可纳入好几种原料.例如三氧化鉻. 高锰酸钾, 重鉻酸钾, 重鉻酸铵, 硝酸铵等…….., 通过实验，验证上述多种强氧化物在蒙砂液中能对玻璃起最佳氧化结构的是硝酸铵，它在蒙砂液中所占最佳的比例是∶ 蒙砂干粉∶硝酸铵∶自来水; 0.75 : 0.25 : 0.3—0.35。
实际此结构形成的酸性决不比用31%的盐酸酸性低,不然你可以用酸度计测测看, 更不能空手去触摸蒙砂液, 纵其稳定性而言要比盐酸配比结构差15%性能, 其本身俱有爆炸物质特性, 干粉遇到有机物及油脂类结构，会自燃，并在一定PPM浓度中有爆炸的危险,蒙砂粉中的悬浮剂是有机物, 所以产品只能用双组份分开包装了. 硝酸胺属于一级危险品属特批专卖型, 它更是物流部门被严格禁止运输物品, 还望大家不用为好，一来节省点成本, 二来与危险品离的更远些！再则现在运管缉查官员罚款的权力可大的惊人…….。