透射电子显微镜样品制备
透射电镜生物样本制备流程及注意事项
透射电镜生物样本制备流程及注意事项透射电镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是一种使用电子束而不是光束进行成像的显微镜。
它可以提供高分辨率的图像，因此被广泛应用于生物样本的观察和研究。
然而，由于其特殊的工作原理和生物样本的复杂性，透射电镜生物样本的制备过程需要注意一些关键的步骤和细节。
下面将逐步介绍透射电镜生物样本制备流程及注意事项。
一、样品固定1.选择合适的固定剂：固定剂的选择应根据所研究的样本类型和要观察的细胞结构而定。
常用的固定剂包括戊二醛（glutaraldehyde）、乙酰化亚胺（acrolein）、纤维蛋白素（formaldehyde）等。
2.采取合适的固定时间和固定温度：固定时间和温度应根据固定剂的要求和样本的特性进行优化。
通常情况下，固定时间为数小时至数天，温度在4℃至25℃之间。
3.注意透射电镜样品的固定深度：样品应保持较小的厚度以便透射电子束的穿透。
二、样品剖解1.剖解细胞膜：通常采用超声波振荡或冷冻断裂等方法来剖解细胞膜。
超声波振荡可用于含有细胞膜的细胞或组织，而冷冻断裂则适用于脆弱细胞和膜脂体系。
2.剖解细胞核：利用离心裂解法可以将细胞核分离出来。
离心裂解可分为机械法和渗透法两种，机械法利用高速离心的作用将细胞核分离，而渗透法则是通过渗透剂将细胞核溶胀并破碎。
三、样品固化1.脱水：样品在固定后需要进行脱水处理，以便在后续的步骤中更好地渗透和浸透。
常用的脱水剂有乙醇、丙酮和乙醚等，脱水过程往往需要进行多次重复。
2.浸透：在脱水后，样品需要在树脂中进行浸透，使其固化为坚硬的样品。
通常采用环氧树脂或比较稳定的丙烯酸树脂来进行浸透。
这一步骤通常需要较长时间，如数小时甚至数天。
3.树脂填充：浸透后的样品需要在模具中进行树脂填充，并在适当的温度下进行固化。
树脂填充的过程需要注意排除气泡和避免过度填充。
四、样品切片1.选择合适的切割工具和方法：样品通常使用切片机和切片刀进行切割。
透射电镜制样步骤以及注意事项
透射电镜制样步骤以及注意事项透射电子显微镜（Transmission Electron Microscope，简称TEM）是目前最常用的高分辨率电子显微镜，可以用于观察物质的微观结构。
制备TEM样品的过程非常重要，下面将详细介绍TEM制样的步骤以及需要注意的事项。
制备TEM样品的步骤一般包括样品的选择、固定与固化、切片、薄化、网格制备和贴膜等。
第一步是样品的选择，样品应具有研究价值且适合观察。
例如，生物样品可以是细胞、组织或器官的薄片，金属样品可以是扁平的块状、粉末或薄膜等。
第二步是固定与固化。
对于生物样品，常用的固定方法包括浸泡法、灌注法和切片冷冻法；对于无机样品，可以使用固定剂将样品固定在固定剂中。
第三步是切片。
将固定好的样品切割成薄片，一般要求薄片的厚度在100 nm以下，通常使用超薄切片机来进行切割。
第四步是薄化。
将切割好的样品进行薄化处理，使其达到TEM观察所需的薄度。
常见的薄化方法有机械薄化、电化学薄化和离子薄化等。
第五步是网格制备。
将薄化好的样品放置在铜网格上，网格的选取应该根据所研究样品的性质和需要进行选择。
最后一步是贴膜。
将组织切片或带有样品的网格进行贴膜，以保护样品并提高图像的对比度。
在以上步骤中，需要注意的事项有：1.样品在制备过程中要避免受到污染或氧化，尽量在纯净无尘的环境中进行操作。
2.固定剂的选择要合理，不同的样品可能需要使用不同的固定剂，应根据需要进行选择。
3.切片时要注意刀片的尖锐度和切割角度，以免对样品造成损伤或变形。
4.薄化过程中要控制好加工参数，以保证样品的均匀薄化。
5.制作网格时应选择合适的网格尺寸和类型，以适应观察需求。
6.贴膜时要使薄膜均匀平整，并避免出现气泡或杂质。
总之，TEM制样是一项复杂而关键的过程，要保证样品的质量和可观察性，需要仔细选择方法、控制操作参数、注意样品的保护与处理。
合理的样品制备能够获得高质量的TEM图像，并提供准确的实验数据和结论。
透射电镜细胞样品制备流程
透射电镜细胞样品制备流程透射电镜细胞样品制备流程概述透射电镜（TEM）是一种常用于观察细胞结构和超微结构的高分辨率显微镜。
样品制备是进行TEM观察的关键步骤，正确的制备流程能够保证样品的质量和结构完整性。
流程步骤1.选择适合的细胞样品–根据研究目的选择不同类型的细胞样品，如培养细胞、动物细胞组织或植物细胞等。
–样品选择要考虑细胞生长状态、形态和结构的要求。
2.采集样品–从培养皿中取出细胞，或从动物或植物组织中切取适当大小的样品。
–注意避免样品受到污染或损坏。
3.固定样品–使用适当的固定剂，如戊二醛、冰醋酸或凝胶固定剂，对样品进行固定处理。
–固定剂的选择要根据样品类型和所需观察结构的特点。
4.去除固定剂–使用缓冲液或盐水洗涤样品，去除多余的固定剂。
–洗涤时间和次数需根据固定剂的种类和浓度进行调整。
5.后续处理–为了进一步增强对样品的对比度和分辨率，可以对样品进行染色处理。
–常用的染色剂包括重质金属盐、乙酸铀和铅染色剂等。
6.样品包埋–涂覆样品表面的浸渍剂，如环氧树脂或丙烯酸树脂。
–用于支撑样品的网格可以放置在浸渍剂中。
7.制备超薄切片–使用超薄切片机将包埋的样品切割成透明的超薄切片。
–切片的厚度通常控制在70-100纳米之间。
8.将切片转移到网格上–使用特殊工具将切片转移到电子显微镜用的网格上。
–要小心操作，避免切片受到损坏或污染。
9.干燥和稳定–将转移到网格上的切片进行脱水和干燥处理，以提高稳定性。
–常见的方法包括用醇溶液进行脱水，然后使用气体吹干。
10.开始透射电镜观察–将处理完的样品装入透射电镜，调整参数和放大倍数。
–进行细胞结构和超微结构的观察和拍摄。
结论透射电镜细胞样品制备是进行TEM观察的关键步骤。
通过选择合适的细胞样品、适当的固定、去固定剂和染色处理，以及正确的样品包埋和超薄切片制备，可以确保样品的质量和结构完整性。
准确无误的制备流程能够为细胞学研究提供可靠的数据支持。
注意事项1.样品的选择要根据研究目的和所需观察结构的特点进行。
tem截面样品的制备
tem截面样品的制备
TEM（透射电子显微镜）截面样品的制备通常包括以下步骤：
1. 样品选择：选择需要观察的材料，并根据研究目的确定采样位置。
2. 机械切割：使用机械切割工具（如钢丝锯、金刚石刀片等）将样品切割成较小的块状或薄片。
3. 粗磨和打磨：使用研磨机、砂纸或研磨液对样品进行粗磨和打磨，以去除切割过程中引入的痕迹和不平整表面。
4. 薄化：使用离心切割机、电解腐蚀或离子蚀刻等方法使样品变得足够薄。
这一步旨在减小样品的厚度，以便光线能够透过并进入透射电子显微镜。
5. 悬浮和转移：将薄片从切割基底上悬浮并转移到供应载玻片或网格碳膜上。
可以使用特殊夹持装置或粘贴剂来帮助悬浮和转移过程。
6. 电子束刻蚀：使用电子束蚀刻机对样品进行细微的刻蚀
处理，以去除可能存在的氧化物或其他杂质，并提高样品表面的平整度。
7. 清洗和干燥：用溶剂或超声波清洗样品，以去除表面的污染物。
然后将样品在低压条件下干燥，避免水分残留。
8. 检验和观察：使用透射电子显微镜观察和记录样品的截面形貌和微结构信息。
需要注意的是，TEM截面样品制备过程中的每个步骤都需要谨慎操作，以确保样品的质量和可观察性。
具体的制备方法和工艺参数可能会因不同的样品类型和研究需求而有所差异。
透射电子显微镜样品制备
简单的平面磨可以产生大面积的薄区，但却使样品过
于脆弱，很容易损坏，以我们的经验，一般Si材料可
以平磨到50μm左右，对脆性材料可适当增加厚度。
样品磨的越薄，使用的砂纸型号越大（砂粒越细），
注意每更换一次砂纸用水彻底清洗样品。
磨下去原始厚度的一半时抛光，抛光后用水清洗干净，
再用无水乙醇棉球擦干，就可以翻面磨另一面。最终
指在试样表面的一次直接复型；二级复型是指在塑料一级复
型上再制作碳复型；萃取复型用于对第二相粒子形状，大小
和分布以及物相和晶格结构进行分析，复型方法和碳一级复
型类似。
用于复型制备材料的要求：
（1）必须是非晶材料；
（2）粒子尺寸必须很小；
（3）应具备耐电子轰击的性能。
一级复型
一级复型主要分为塑料（火棉胶）一级复型和碳膜一级复型，
塑料－碳二级复型的特点：
（1）制备复型时不破坏样品的原始表面；
（2）最终复型带有重金属投影；
（3）衬度高，稳定性、导热电性好；
（4）分辨率低，与一级塑料复型相当；
（5）膜的厚度薄。
图a是合金钢回火组织的二级复型照片，可以清楚地看到回火组织中析
出的颗粒状碳化物；图b是低碳钢冷脆断口的二级复型照片，可以看到
把φ3mm 圆片一面研磨后再抛光，为凹坑样
品做准备。
Gatan 623 手动研磨盘
2. 单面抛光
手工平磨时，应采用不断变换样品角度，或者沿“8”字轨
迹的手法，可以避免过早出现样品边缘倾角。
依次用粒度p1000→P1500→ P2000的砂纸研磨，之后用1μm金刚石抛光膏抛光。
2. 单面抛光
大钉薄深度：1.1mm×tan4°=77（μm）。因此样品的钉
tem透射电镜的样品制备方法
tem透射电镜的样品制备方法TEM（透射电子显微镜）是一种常用的高分辨率显微镜，可以观察到物质的结构和组成。
样品制备对于TEM观测至关重要，良好的样品制备可以提供高质量的显微图像。
以下是TEM透射电镜的样品制备方法的详细讨论。
1.样品选择：选择适合TEM观察的样品，典型的样品包括纳米材料、生物细胞、材料薄膜等。
根据需要选择合适的样品尺寸和形状。
2.样品固定：根据样品的特性和需要，采取合适的方法将样品固定在支撑物上。
常用的方法包括离心沉淀、滴定、蒸发浓缩等。
对于生物样品，可以使用化学固定剂（如戊二醛）进行化学固定。
3.样品切片：对于大尺寸或不透明的样品，需要将其切割成薄片，一般要求切片尺寸在100 nm以下。
常用的切片工具有超声切割仪、离子切割仪等。
切割样品时要注意样品的定位和定向，以确保观察到感兴趣的区域。
4.样品脱水：对于生物样品，需要将其进行脱水处理。
脱水可以使用乙醇和丙酮等有机溶剂，逐渐将样品中的水分替换为有机溶剂。
脱水过程中要避免剧烈振荡，以防止样品的破坏。
5.样品浸渍：将脱水后的样品浸渍在透明介质中，如环氧树脂或聚合物。
浸渍过程中需要避免气泡和异物的进入，以保持样品的质量。
6.样品调平：将浸渍后的样品放在平板上，用研磨纸将其调平。
调平过程中要注意避免样品的损坏。
7.样品切割：将调平后的样品切成适当尺寸的小块，便于后续的操作。
切割时要使用锋利的刀具，以保证切面的平整度。
8.样品研磨：使用研磨纸或研磨腰带对样品进行研磨，以使其表面更加平整。
研磨过程中要注意研磨力度的控制，以免样品的破损。
9.样品薄化：使用电子束或离子束对样品进行薄化处理，将其厚度控制在适当的范围内。
薄化过程中要注意能量和时间的控制，以避免样品的损坏。
10.样品清洁：最后，使用有机溶剂或气流将样品上的杂质去除，使样品表面干净。
以上就是TEM透射电镜的样品制备方法的详细讨论。
不同的样品可能需要不同的制备方法，需要根据实际情况进行调整。
tem样品制备以及浓度要求
tem样品制备以及浓度要求（最新版）目录一、引言二、tem 样品制备的方法1.薄膜的制备2.样品的切割3.样品的转移三、tem 样品的浓度要求1.薄膜的厚度2.样品的纯度四、结论正文一、引言tem（透射电子显微镜）是一种重要的科学研究工具，它可以帮助科学家们研究物质的微观结构。
在使用 tem 进行研究之前，我们需要制备出符合要求的样品。
那么，如何制备 tem 样品呢？它们又有哪些浓度要求呢？本文将对这些问题进行详细的解答。
二、tem 样品制备的方法1.薄膜的制备制备 tem 样品的第一步是制备薄膜。
通常情况下，我们会选择将样品材料均匀地涂布在载网上，然后通过真空干燥等方式去除样品材料中的溶剂，形成薄膜。
2.样品的切割制备好的薄膜需要进行切割，以得到适合进行 tem 观察的样品。
切割时，我们需要确保样品的厚度均匀，以便获得清晰的 tem 图像。
3.样品的转移切割好的样品需要转移到 tem 样品台上进行观察。
在转移过程中，我们需要确保样品的完整性和稳定性，以免影响观察结果。
三、tem 样品的浓度要求1.薄膜的厚度tem 样品的厚度要求通常在几十到几百纳米之间。
这是因为，tem 观察的是样品的表面结构，如果样品太厚，可能会影响观察结果的准确性。
2.样品的纯度tem 样品的纯度也非常重要。
如果样品中含有杂质，可能会对观察结果造成干扰。
因此，我们在制备样品时，需要尽量保证样品的纯度。
四、结论总的来说，制备 tem 样品需要严格按照步骤进行，并注意样品的浓度要求。
透射电镜样品制备方法
¾透射电子显微镜成像时，电子束是透过样品成像。
¾由于电子束的穿透能力比较低，用于透射电子显微镜分析的样品必须很薄。
¾根据样品的原子序数大小不同，一般在50～500nm之间。
透射电镜样品的要求：¾1. 样品必须对电子束透明。
¾2. 所制得样品必须具有代表性，以真实反映所分析材料的特征。
主要方法：粉末样品、复型、离子减薄、电解双喷。
¾透射电镜观察用的样品很薄，需放在专用的样品铜网上。
¾透射电子显微镜使用的铜网一般直径为3毫米，上面铳有许多微米大小的孔，在铜网上覆盖了一层很薄的火棉胶膜并在上面蒸镀了碳层以增加其膜的强度，被分析样品就承载在这种支撑膜上。
样品铜网的作用：¾承载样品，并使之在物镜极靴孔内平移、倾斜、旋转，寻找观察区。
¾样品通常放在外径3mm ，200目方孔或圆孔的铜网上，铜网牢固夹持在样品座中保持好的热、点接触，减少因电子照射引起的热或电荷积累而产生样品漂移或损伤。
样品台透射电子显微镜样品制备电镜观察时样品受到的影响：(1)真空的影响。
含有挥发溶剂或易升华的试样必须冷冻后观察。
(2)电子损伤的影响。
试样在电镜中受到l0－3～1A/cm2的电子束照射，电子束的能量部分转化为热，使试样内部结构或外形发生变化或污染。
观察有机物或聚合物试样时，为防止电子束对试样的损伤和污染，应提高电压。
(3)电子束透射能力的影响。
由于电子束透射能力较弱，一般100kv加速电压时，试样厚度必须在20～200nm之间。
粉末样品制备¾随着材料科学的发展，超细粉体及纳米材料发展很快，而粉末的颗粒尺寸大小、尺寸分布及形态对最终制成材料的性能有显著影响，因此，如何用透射电镜来观察超细粉末的尺寸和形态便成了电子显微分析的一的一项重要内容。
¾其关键工作是是粉末样品的制备，样品制备的关键是如何将超细粉的颗粒分散开来，使其均匀分散到支持膜上，各自独立而不团聚。
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透射电镜制样设备
Gatan 601 超声切割机 Gatan 691 精 密离子减薄仪
Gatan 样 品加热台 Gatan 656 凹坑仪
一、粉末样品的制备
1. 粉碎研磨法 将（研磨后的）粉末放在无水乙醇溶液里，用超声波 震荡均匀后滴在微栅上，干燥后进行透射电镜观察。 2. 树脂包埋法 理想的包埋剂应具有：高强度，高温稳定性，与多种 溶剂和化学药品不起反应，如丙酮等，常用的几种包 埋剂：G-1，G-2，610，812E。 3. 超薄切片后氩离子轰击法
断口复型
疲劳辉纹 沿晶断裂
二级复型
在塑料一级复型的基础上，垂直镀上一层碳膜，然后用重金属 沿一定角度镀到碳膜上，以增加复型的衬度；最后用丙酮将塑 料溶解掉即可得到二级复型样品。
塑料－碳二级复型的特点：
（1）制备复型时不破坏样品的原始表面； （2）最终复型带有重金属投影； （3）衬度高，稳定性、导热电性好； （4）分辨率低，与一级塑料复型相当； （5）膜的厚度薄。
粉碎研磨法
流程图：
粉碎研磨法
注意事项
– – – –
溶液浓度不要太大，一般溶液颜色略透明即可（部分黑 色物质，如石墨，颜色可稍深）； 洗去样品中的表面活性剂，否则会因碳污染影响观察； 选择合适的支持膜； 特殊分散剂请向实验人员说明。
支持膜
支持膜
TEM制样时，为了确保样品能够搭载在载网上，会在载网上覆盖一 层有机膜，称为支持膜。样品接触载网支持膜时，会很牢固的吸附 在支持膜上，不至于从载网的空洞处滑落，以便在电镜上观察。在 支持膜上喷碳提高支持膜的导电性，达到良好的导电效果。
Gatan 623 手动研磨盘
2. 单面抛光
手工平磨时，应采用不断变换样品角度，或者沿“8”字轨 迹的手法，可以避免过早出现样品边缘倾角。
依次用粒度p1000→P1500→ P2000的砂纸研磨，之后用1μm金刚石抛光膏抛光。
2. 单面抛光
简单的平面磨可以产生大面积的薄区，但却使样品过 于脆弱，很容易损坏，以我们的经验，一般Si材料可 以平磨到50μm左右，对脆性材料可适当增加厚度。 样品磨的越薄，使用的砂纸型号越大（砂粒越细）， 注意每更换一次砂纸用水彻底清洗样品。 磨下去原始厚度的一半时抛光，抛光后用水清洗干净， 再用无水乙醇棉球擦干，就可以翻面磨另一面。最终 厚度控制在80μm以内。
3. 凹坑
凹坑的意义
在制备高质量的电镜样品时，需要样品有大面积薄区， 还要有厚度的变化支持，为了达到这样的效果需要对 样品进行钉薄（凹坑），凹坑仪可以将样品的中心部 减薄至几个微米的厚度，缩短了离子减薄的时间，它 适用范围非常广泛，金属材料、陶瓷、半导体、复合 材料超导材料等。
3. 凹坑
树脂包埋法
包埋后的粉末样品(光学显微镜观测)
超薄切片后离子减薄的结果
二、块体样品
为什么要制样？
透射电子束一般能穿透厚度为100nm以下的薄层样品; 透射电镜样品台只可以放入直径3mm的圆片。
TEM块体样品的制备其实是个材料加工成型的 过程,要充分考虑材料本身的特性。
二、块体样品
4. 离子减薄
注意事项：减薄开始阶段，一般采用较高电压，较大束 流，较大角度，这个阶段约占整个减薄过程的一半时间， 随后，电压，束流，角度可相应减小，直到样品出孔， 样品出孔后，即可转入样品抛光阶段，这阶段主要是改 善样品质量，使薄膜获得平坦而宽大的薄区。
4. 离子减薄
样品台
4. 离子减薄
3. 凹坑
凹坑后的样品
4. 离子减薄
目的：TEM样品的最终减薄，以获得电子束透明的观察区 域。 特点：不受材料电性能的影响，即不管材料是否导电，金 属或非金属或者二者混合物，不管材料结构多复杂均可用 此方法制备薄膜。制样时惰性气体介质（氩气）对样品组 织结构无影响。 原理：在电场作用下氩气被电离成带Ar+的氩离子，带着一 定能量的氩离子从阳极飞向阴极，通过阴极孔，打在接地 的样品表面，使样品表面溅射。
一级复型
一级复型主要分为塑料（火棉胶）一级复型和碳膜一级复型， 以及氧化膜复型。 一级塑料复型是对样品表面形貌的简单的复制，它表面的形貌 与样品的形貌刚好互补，所以称之为负复型。其厚度可以小到 100纳米。
碳膜一级复型是一种正复型，它与塑料一级复型的区 别是：
1.碳膜复型的厚度基本上相同，而塑料复型的厚度随试样位置 而异。 2.塑料复型不破坏样品；而碳膜复型破坏样品（分离膜与样品 时要电解腐蚀样品）。 3.塑料复型因塑料分子较大，分辨率低（10-20nm)；碳离子直 径小，碳膜复型分辨率高(2nm) 。
透射电子显微镜样品的分类
粉末样品 块体样品：用于普通微结构研究。
–
–
塑性材料 脆性材料 平面样品：Plane View（PV）用于薄膜和表面附近微结构研究。 截面样品：Cross-Section（CS）用于薄膜和界面的微结构研究。
薄膜样品
– –
高分子、生物样品 纳米材料：粉末，纤维，纳米量级的材料
2
1 1 3
1 石墨电极 2 镀膜金属 3 试样台
碳膜复型厚度基本相同
制样几点说明
对具有毒性、腐蚀性、刺激性、易燃、易爆、放射性、磁性等对人 员 和仪器有害的样品（包括溶剂和分散介质）作出说明。
电子束照射样品所产生的温度很高，为保证灯丝具有较长的寿命， 以及 镜筒和各级透镜的洁净，对检测样品有一定的要求。低熔点的 材料如锡、 钼等会产生相变和蒸镀效应以及在电子束照射下会分解 或释放出气体的 样品及有机物、高分子、磁性材料，有可能造成镜 筒的污染，预约前请和实验老师沟通说明。
1. 切割
目的：获得φ3mm的圆片
圆片切割机以一定的频率，在样 品上震动管状切割工具。通过这 种高频的震动，能够使泥浆中的 研磨颗粒作用于样品。这种动作 可以切割一个 圆形压痕，直到 从样品切割下圆片。
用于陶瓷、半导体等坚硬/脆性的材料
2. 单面抛光
把φ3mm 圆片一面研磨后再抛光，为凹坑样 品做准备。
钉轮直径和钉薄深度的关系
不同的钉轮直径可获得的钉薄深度不同
10mm直径的钉轮，钉薄 的深度大于77μm一般不用。 15mm直径的轮子在实践 中效果不错。
钉薄前样品的最佳厚度
起始样品厚度应是钉薄深度 加上4倍的损伤层厚度，粘上 环的样品应把环的厚度考虑 在内。
凹坑——小结
很明显随着钉轮直径的增加，起始样品的厚度应逐渐 减小，大的钉轮直径可以获得大面积的薄区，但会使 样品比较脆弱，容易损坏， 15mm直径的轮子最大的 钉薄深度不能大于77μm，否则会在以后的离子减薄 中发生阻挡效应。这是初学者必须知道的。
M-Bond600/610
G1胶的优点：
������ ������ 1）固化快130°5-10分钟 2）保存时间长（室温一年） 3）高温稳定性好：300°工作十几个小时,400 °几小时 （可在TEM 加热台上升温）
三、薄膜样品——截面样品的制备
截面样品的制备
切好的截面样品重复平面样品的制备工艺,当 样品获得理想厚度时用氩离子减薄样品。
透射电子显微镜样品制备技术
东北大学 新材料技术研究院 吴艳
前言
透射电镜样品制备在电子显微学研究工作中起着至关重 要的作用，是非常精细的技术工作。要想得到好的TEM 结果，首先要制备出好的薄膜样品。 常规制备方法很多，例如：化学减薄、电解双喷、解理、 超薄切片、粉碎研磨、聚焦离子束、机械减薄、离子减 薄，这些方法都能制备出较好的薄膜样品。 目前新材料的发展对样品制备技术提出了更高的要求， 制备时间短，可观察的薄区面积更大，薄区的厚度更薄， 并能高度局域减薄。
送样要求：厚度0.2~0.3mm，10mm见方的薄片。 建议：可以将样品用线切割、砂纸磨等方式处理成上述薄片。
可以用超声切割仪，冲压 机获得Ф3mm圆片，也可 以用其它方法，把样品切 成小块，无论是长方形还 是方形对角线不超过3mm， 长边2.5mm即可。
块体样品制备工艺示意图
80μm
（二）塑性样品制样流程示意图（金属及其合金等）
要求：对抛光后的样品的另一面进行机械预减薄至80μm。 对圆片中间凹坑，使样品中间厚度减至 10~30μm。 优点：增大薄区面积； 准备定位减薄位置。
Gatan 656 凹坑仪
3. 凹坑
凹坑示意图
3. 凹坑
凹坑可用两种类型的轮子：研磨轮、抛光轮
6μm金刚石研磨膏研磨
3μm 抛光轮粗抛光
0.05μm的氧化铝抛光膏精抛光
普通碳膜：膜厚度为7-10纳米。铜网喷碳的支持膜，有时简称：铜 网 (支持膜)，方华膜.
微栅：膜厚度为15-20纳米，在膜上制作出微孔，以便使样品搭载在 微孔边缘，使样品“无膜”观察，提高图象衬度。观察管状、棒状、 纳米团聚物效果好，特别是观察这些样品的高分辨像时更是最佳选 择。 超薄碳膜：在微栅的基础上叠加了一层很薄的碳膜，一般为3-5纳米。 这层超薄碳膜的目的是用超薄碳膜把微孔堵住。主要针对分散性很 好的纳米材料。如10纳米以下分散性很好的纳米材料，如果用微栅 可能从微孔中漏出，如果在微栅孔边缘，由于膜厚可能会影响观察。 所以用超薄碳膜就会得到很好的效果。
离子减薄示例——截面样品
减薄前表面状态不好，造成的损伤
三、薄膜样品
三、薄膜样品
平面样品的制备: 同块体样品制样流程
截面样品的制备: 对粘+块体制样流程
1. 选样品 2. 样品的清洗处理 3. 加陪片（常用硅片）粘样品或对粘 4. 按照块体样品制备的步骤