mask点画法
PS高级技巧精确蒙版制作技巧
PS高级技巧精确蒙版制作技巧Photoshop（简称PS）作为一款强大的图像处理软件，广泛应用于摄影、设计等领域。
在PS中，蒙版（Mask）是一种非常重要的工具，它可以帮助我们精确地控制图像的透明度、可见度和编辑范围，实现更加精确的图像处理效果。
本文将介绍几种PS高级技巧，帮助你掌握精确蒙版制作技巧。
1. 制作基本蒙版在PS中，我们可以使用多种方式创建蒙版。
最简单的方法是通过选择工具（如矩形选框工具、椭圆选框工具）创建选区，然后在图层面板中点击“添加蒙版”按钮来创建蒙版。
通过这种方式，我们可以将选区内的内容设置为可见，选区外的内容设置为透明。
2. 精确蒙版的工具和技巧要实现更加精确的蒙版效果，我们需要掌握一些高级的工具和技巧。
2.1 画笔工具画笔工具是制作精确蒙版的常用工具之一。
通过调整画笔工具的参数，如硬度、大小和流量，我们可以在图像上绘制或擦除蒙版来精细地控制图像的可见度。
此外，我们还可以通过调整画笔的不透明度来实现透明渐变效果。
2.2 渐变工具渐变工具可以帮助我们实现更加平滑的过渡效果。
通过选择线性渐变或径向渐变，我们可以在蒙版上创建渐变效果，使图像呈现出柔和的过渡效果。
2.3 快速选择工具快速选择工具是一个快速选择和调整蒙版的效果工具。
通过使用快速选择工具选取图像中的某一部分，然后通过调整蒙版参数，如蒙版的羽化半径和透明度，我们可以实现更加精细的区域选取和蒙版效果。
3. 纹理蒙版技巧纹理蒙版是一种常用的技巧，可以帮助我们将纹理应用于图像上。
要创建一个纹理蒙版，我们首先需要准备一张纹理图像，然后将其导入到PS中。
接下来，我们可以通过创建一个蒙版，将纹理图像应用到目标图像上。
通过调整蒙版的参数，如透明度和羽化半径，我们可以实现不同程度的纹理效果。
4. 图层样式蒙版技巧图层样式蒙版是一种创意的蒙版技巧，可以帮助我们实现各种独特的效果。
要创建一个图层样式蒙版，我们首先需要在目标图层上应用一个或多个图层样式（如阴影、倒影、描边等）。
认识Mask以及其制作流程
注意事项
安全性
确保所选材料无毒、无害，避免使用尖锐工 具时受伤。
精确度
根据图纸精确剪裁和拼接，确保Mask形状 准确。
细节处理
注意Mask的边缘、线条和细节处理，使其 更加逼真和美观。
常见问题与解决方案
材料开裂
01
选择质量好的材料，避免过度弯曲或折叠。
结构松散
02
加强固定，使用更结实的胶水和缝纫方式。
认识Mask及其制作流程
目录 Contents
• Mask简介 • Mask制作流程 • Mask制作材料与工具 • Mask制作技巧与注意事项 • 案例分析
01
Mask简介
Mask的定义与特性
定义
Mask，中文译为“遮罩”或“掩膜”，是一种用于遮挡或选择特定区域的技术或工具。在数字图像处理、图形 设计、印刷等领域中，Mask被广泛应用。
制作材料
纸张
用于制作Mask的主体部分，常用的有卡纸、 宣纸等。
胶水
用于将纸张粘贴在一起，常用的有白胶、双 面胶等。
颜料
用于给Mask上色，常用的有水彩、丙烯颜 料等。
画笔
用于绘制Mask的图案和细节，常用的有毛 笔、水彩笔等。
制作工具
剪刀
用于剪裁纸张和线条。
尺子
用于测量和划线。
刻刀
用于雕刻Mask的图案和文字。
产品包装设计
Mask技术还可以用于产品包装设计中，通过将包装的元素进行遮罩 处理，可以实现更加吸引人的包装效果。
THANKS
04
Mask制作技巧与注意事项
制作技巧
选择合适的材料
设计图纸
根据需要制作的Mask类型，选择合适的纸 张、布料或其他材料。
shader graph 实现mask功能-概述说明以及解释
shader graph 实现mask功能-概述说明以及解释1.引言1.1 概述在计算机图形学中，Shader Graph 是一种强大的工具，用于创建和编辑着色器。
它使得开发人员可以轻松地可视化和调整着色器效果，而无需深入了解复杂的着色器编程语言。
本文将讨论如何使用Shader Graph 实现Mask功能，这是一种非常重要的功能，可以帮助开发人员实现各种有趣的视觉效果。
在接下来的章节中，我们将首先介绍Shader Graph的基本概念和工作原理，然后阐述Mask功能在图形学中的重要性。
最后，我们将详细讨论如何在Shader Graph中实现Mask功能的步骤，以帮助读者更好地理解和应用这一技术。
希望通过本文的分享，读者可以学习到更多关于Shader Graph和Mask功能的知识，从而为自己的图形学项目增添新的可能性和创意。
1.2 文章结构本文将首先介绍Shader Graph的基本概念和使用方法，让读者对Shader Graph有一个清晰的了解。
接着我们将深入探讨Mask功能在着色器方面的重要性，以及在游戏开发中的实际应用场景。
最后，我们将详细介绍如何使用Shader Graph来实现Mask功能，包括具体的步骤和技巧。
通过本文的阐述，读者将能够掌握在Unity中使用Shader Graph实现Mask功能的方法，并且为其在游戏开发中的应用打下坚实基础。
1.3 目的本文的主要目的是介绍如何在Shader Graph中实现mask功能。
通过本文的阐述，读者将了解到Shader Graph的基本概念和基本操作，以及如何利用它来实现mask功能。
同时，本文还旨在帮助读者更好地理解mask功能的重要性，以及如何在实际项目中有效地应用mask功能来提升视觉效果和优化性能。
通过本文的阐述，读者将能够掌握相关知识和技能，进而能够更加灵活、高效地运用Shader Graph来实现自己所需的效果。
愿读者通过本文的阅读和实践，能够在游戏开发、影视制作等领域中取得更好的成绩和效果。
mask匀光法讲解
mask匀光法讲解Mask匀光法是一种在计算机图形学中常用的光照处理方法，主要用于模拟真实世界中的光照效果。
它的核心思想是通过对场景中的物体表面进行均匀光照，从而实现光照的柔和和自然效果。
Mask匀光法的具体步骤如下：1. 创建遮罩（Mask）：首先，我们需要为每个物体表面创建一个遮罩。
遮罩通常是一个与物体表面形状相同的黑色或白色区域。
在黑色遮罩区域，光照不会穿透；而在白色遮罩区域，光照可以穿透。
2. 光照计算：根据遮罩和物体的材质属性，计算每个物体表面受到的光照强度。
光照强度通常使用光照公式进行计算，如Lambert光照模型、Phong光照模型等。
3. 光照合成：将每个物体表面的光照强度合成到一个最终的图像中。
在这个过程中，需要考虑物体表面的遮罩效果，以确保光照的自然和柔和。
4. 色调映射：为了模拟真实世界中的光照效果，我们还需要对光照强度进行色调映射。
这可以通过将光照强度映射到颜色空间（如RGB、HSL等）来实现。
5. 最终渲染：将合成后的光照信息和物体的颜色信息结合起来，得到最终的渲染结果。
Mask匀光法的主要优点是光照效果自然、柔和，适用于各种场景和物体。
但它也有一些局限性，例如对于复杂场景和物体的光照处理效果可能不佳，以及计算量较大等。
因此，在实际应用中，通常会根据场景和需求选择合适的光照方法。
此外，随着计算机图形学技术的发展，近年来出现了许多基于物理的渲染（Physically Based Rendering，PBR）方法和实时光照（Real-Time Rendering）方法，这些方法在光照效果和计算效率方面有了很大的提升。
水彩画技法与赏析
多次的覆盖和重叠可产生丰富、微妙的色彩效果。一般 先画浅色，逐步加重，也可以覆盖透明的主调色。画纸 的质量要好，要经得起多次重叠着重而不会泛色或起毛。 所用的颜色透明度要高。
干画法 平涂颜色步骤
1．先用大笔沾清水，把要涂色的部位润湿一遍。
国外铝合金窗框用得最多一般标准层常采用铝合金窗框而底层则采用更为高级的不绣钢窗框和门钢窗的颜色要根据油漆颜色而定但要考虑到不同光线下色彩的改变阳光下偏暖而明度高阴影处偏冷而明铝合金窗框颜色较多有银白色浅赭色深赭色熟褐色等
水彩画技法与赏析
优选水彩画技法与赏析
中世纪时，水彩是作为素描上表达明 暗的工具，或油画前的草稿，同时也 作为书籍中插画的素描。
水彩画写生的方法步骤
四、深入
要在调整好整体的大关系之后，再适当深入刻画。要保持整体， 分清主次，逐步深入，根据题材的需要画到适可而止。
五、整理
最后要从整张画着眼加以调整。减弱喧宾夺主的地方，加强画面 的兴趣中心，也就是画龙点睛。
几点建议
白纸上涂颜色，初看过重过鲜，干后会变得浅、淡。
留白有三种办法：
五、掩膜（Mask）法
使用胶带、刻纸以及可以揭掉的液态橡胶水等遮蔽一部分画面，再 来涂绘其他部分，然后去除掩膜。或先用白蜡、不同颜色的油画棒 画在画纸上，然后涂水彩颜色，有蜡部分不沾水色，也可以呈现特 殊的遮挡效果。
六、刮出高光
用刀、竹棍、笔杆刮去纸面颜色，可取得特定 的描绘效果。
七、不同材料混合画法
把许多材料和水彩混合使用已是常见的。水彩 可以与胶、肥皂混合使用。水彩还可以与钢笔、 铅笔、蜡笔、色粉笔、水粉色混合使用。新近有 水溶性铅笔和水溶性色粉笔，画在湿纸上或沾水 后就会溶解晕开。
mask方法
mask方法
Mask方法可以应用于图像处理和计算机视觉领域，主要用于提取感兴趣的区域、屏蔽某些区域、提取结构特征和制作特殊形状的图像等。
在图像处理中，Mask可以用于提取感兴趣的部分，将预先制作的感兴趣区掩膜与待处理图像相乘，得到感兴趣区图像，感兴趣区内图像值保持不变，而区外图像值都为0。
另外，Mask也可以用于屏蔽图像中的某些区域，对某些区域作屏蔽，使其不参加处理或不参加处理参数的计算，或仅对屏蔽区作处理或统计。
在结构特征提取方面，Mask可以用相似性变量或图像匹配方法检测和提取图像中与掩膜相似的结构特征。
此外，Mask还可以用于制作特殊形状的图像，通过将mask图中的特定区域设置为白色，然后将原始图像与mask进行与运算，得到符合特定形状的图像。
总的来说，Mask方法是一种强大的图像处理工具，可以帮助研究人员更好地理解和分析图像中的特定区域和特征。
AE中的Mask工具应用指南
AE中的Mask工具应用指南Mask是Adobe After Effects (AE)中一个非常重要的工具，用于控制图层的可见区域，并且可以实现各种特效和动画效果。
本篇文章将介绍AE中Mask工具的基本用法和一些实用技巧。
首先，在AE中创建一个新的合成或打开一个已有的合成。
在时间轴窗口中选择一个图层，并点击工具栏上的Mask工具（或按快捷键G）来激活Mask工具。
在Mask工具被激活后，您可以在画布上单击并拖动来创建一个新的Mask。
鼠标左键单击并拖动可以调整Mask的形状，而鼠标右键单击可以调整Mask的位置与大小。
创建Mask后，您可以通过选择Mask并在属性面板中进行设置来调整Mask的属性。
例如，可以设置Mask的模式（如添加、减去、相交、排除等），还可以调整其不透明度和模糊等效果。
接下来，我们将介绍一些常用的Mask工具技巧。
1. 利用Mask路径动画您可以通过使用关键帧来创建Mask路径的动画效果。
选择Mask图层并点击“添加关键帧”按钮，然后在时间轴上移动到另一个位置并调整Mask的形状来创建动画效果。
2. 利用遮罩与图层混合通过将多个图层放置在同一个合成中，并在每个图层上应用不同的Mask，可以实现局部遮罩与图层混合的效果。
使用不同的Mask模式和蒙板属性，可以创建出各种有趣的特效和转场效果。
3. 利用Mask与图层样式在AE中，您可以通过应用图层样式来进一步增强Mask的效果。
选择Mask图层并打开图层样式，在样式中添加阴影、内发光、外发光等效果，可以为Mask添加更多的细节和深度。
4. 利用Alpha通道Mask使用视频或图像的Alpha通道作为Mask是一个常见的技巧。
将视频或图像导入AE，选择它并在属性面板中应用Alpha通道Mask，可以根据图像的不透明度来创建Mask效果。
5. 利用形状图层MaskAE中的形状图层也可以用作Mask。
创建一个形状图层（如矩形、椭圆等），选择它并应用为Mask，可以实现各种自定义形状的遮罩效果。
PHOTOSHOP遮罩(Mask)的使用
遮罩(Mask)的使用
1）打开素材“小女孩.jpg”。
按Alt＋双击鼠标，解除图层锁。
将该层命名为遮罩层。
2）置入图片“Long Beach.jpg”，
对该图层栅格化，并让其处于最
下层。
将该层命名为背景层。
3）选中遮罩层。
单击层面板底部
的“添加图层蒙版”按钮，创
建一个蒙版。
4）单击蒙版，选中擦头工具（直径为90px，硬度为15％），将除了左侧小女孩以外的部分擦除。
5）选用移动工具将小女孩移动到背景右侧。
6）单击“图层”菜单，选择“图像样式”－>“混合选项”
（亦可直接双击该图层的右侧空白处），选择“混合模式”
为“滤色”，便可得到下图效果。
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2）特别强调：同一板号PCB上所有Mark点的大小必须一致（包括不同厂家 生产的同一板号的PCB）；
6、空旷度要求
在Mark点标记周围，必须有一块没有其它电路特征或标记 的空旷面积。空旷区圆半径 r≥2R, R为MARK点半径, r≥2R r达到3R时，机器识别效果更好。 Mark点标记可以是裸铜、清澈的防氧化涂层保护的裸铜、镀镍或镀锡、或 焊锡涂层。如果使用阻焊(soldermask)，不应该覆盖Mark点或其空旷区域 Mark点标记的表面平整度应该在15 微米[0.0006"]之内。 a) 当Mark点标记与印制板的基质材料之间出现高对比度时可达到最佳的性 能。 b) 对于所有Mark点的内层背景必须相同。
单块板上定位所有电路特征的位置 拼板上辅助定位所有电路特征的位置 定位单个元件的基准点标记,以提高贴 装精度(QFP、CSP、BGA等重要元件必须有
局部图
局部MARK 单板MARK 拼板MARK也 叫组合MARK
备注
标记点或 特征点 MARK点 空旷区 完整MARK点组成
附件:
一、MARK点作用及类别
Mark点设计规范
制表：***
Dec.-25-05
Mark点也叫基准点，为装配工艺中的所有步骤提供共同的可测量点，保证了装配使用的每个设备能精确 地定位电路图案。因此，Mark点对SMT生产至关重要。 MARK点分类 1、单板MARK 2、拼板MARK 3、局部MARK 作用
板 边
设计要求
备注及附图
如：MARK点作用及类别——备注
3、位置
单板MARK
拼板MARK
单板和拼板时，单板MARK位置图示
4、尺寸
5、边缘距离
多层板Mark 单层板Mark 3）建议RD-layout将所有图档的Mark点标记直径统一为1.0mm； Mark点（边缘）距离印制板边缘必须≥5.0mm [0.200"](机器夹持PCB最小 间距要求)，且必须在PCB板内而非在板边，并满足最小的Mark点空旷度要 求。 强调：所指为MARK点边缘距板边距 MARK点边缘距板边距离≥5mm 离≥5.0mm[0.200"]，而非MARK点中 板边 心。 MARK
必不可少
二、MARK点设计规范
所有SMT来板必须有Mark点，且Mark点的相关SPEC如下：（参照：IPC-SMT-782 关于Mark点设计的相关SPEC） CHECK项目
1、形状 2、组成 要求Mark点标记为实心圆； 一个完整的MARK点包括：标记点（或特征点）和空旷区域。
1）Mark点位于电路板或组合板上的对角线相对位置且尽可能地距离分开 。最好分布在最长对角线位置； 2）为保证贴装精度的要求，SMT要求：Jan-01-06 起在SMT试跑的所有机种 （包括衍生机种），每1pcsPCB板内必须至少有一对符合设计要求的可供 SMT机器识别的MARK点，即必须有单板MARK(单板和拼板时，板内MARK位置 如右图所示)。拼板MARK或组合MARK只起辅助定位的作用； 3）拼板时，每一单板的MARK点相对位置必须一样。不能因为任何原因而 挪动拼板中任一单板上MARK点的位置，而导致各单板MARK点位置不对称； 4）PCB板上所有MARK点只有满足：在同一对角线上且成对出现的两个MARK ，方才有效。因此MARK点都必须成对出现，才能使用。 1）Mark点标记最小的直径为1.0mm[0.040"]，最大直径是3.0mm [0.120"] 。Mark点标记在同一块印制板上尺寸变化不能超过25 微米[0.001"]；
常有发现MARK点空旷区为字符层所 遮挡或为V-CUT所切割，造成SMT机 器无法识别。
7、材料 8、平整度 9、对比度
三、MARK点设计不良实例
为了使相关部门能更好地理解上述MARK点设计的相关规范,现列举若干个MARK点设计不良实例并附录不良图 片及参照标准： NO MARK点设计不良问题描述 参照标准 示图
1
PCB板上所有MARK点标记直径只有0.85MM，且 形状不规则,SMT机器难以识别，
MARK点大小和形状
MARK点 2
MARK点没有空旷区域,只有标记点，造成SMT机 器无法识别。 MARK点的完整组成
3
PCB板内无MARK点，板边MARK位置不对称，造 成SMT无法作业。
MARK点位置
0.5m 1.0m
4
板内无MARK，拼板尺寸有误差，贴装后元件坐 标整体偏移，造成SMT作业困难。
MARK点位置
5
MARK点距板边距离≤5mm,SMT机器无法识别。
MARK点距印制板边缘距离
6
MARK点为V-cut所切,SMT机器无法识别。
MARK点形状
7
MARK点空旷区域为字符层或电路特征所遮 挡,SMT机器无法识别。
MARK点空旷度要求