陶瓷的烧结方法1

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热压烧结法制造陶瓷技术

热压烧结法制造陶瓷技术

热压烧结法制造陶瓷技术热压烧结法是一种常用的陶瓷制造技术,通过将陶瓷粉末在高温高压下进行烧结,使其形成致密的结构和良好的力学性能。

本文将详细介绍热压烧结法的原理、工艺流程以及在陶瓷制造中的应用。

一、热压烧结法的原理热压烧结法是利用高温下的扩散作用和陶瓷粉末的塑性变形,使粉末颗粒之间发生结合,形成致密的陶瓷体。

在高温下,粉末颗粒表面的氧化膜被破坏,使颗粒之间发生固相扩散,形成晶界,从而提高陶瓷的致密性和力学性能。

二、热压烧结法的工艺流程1. 原料制备:选择适宜的陶瓷粉末作为原料,进行粉末的筛分和混合,保证原料的均匀性和稳定性。

2. 预成型:将混合好的粉末放入模具中,进行压制,形成所需的初型。

3. 热压烧结:将初型放入高温高压的烧结装置中,进行热压烧结处理。

在此过程中,需要控制好烧结温度、压力和时间,以确保陶瓷体的致密性和力学性能。

4. 后处理:待烧结完成后,还需要进行后处理,如研磨、抛光等工艺,以提高陶瓷的表面光滑度和精度。

三、热压烧结法在陶瓷制造中的应用热压烧结法广泛应用于陶瓷制造的各个领域,如电子陶瓷、结构陶瓷、功能陶瓷等。

1. 电子陶瓷:热压烧结法可以制备出具有良好电气性能的陶瓷材料,用于电子元器件的制造,如电容器、压电器件等。

2. 结构陶瓷:热压烧结法可以制备出高硬度、高强度的陶瓷材料,用于制造刀具、轴承等机械零件,具有良好的耐磨性和耐腐蚀性。

3. 功能陶瓷:热压烧结法可以制备出具有特殊功能的陶瓷材料,如氧化铝陶瓷用于高温热障涂层,氧化锆陶瓷用于人工关节等医疗器械。

四、热压烧结法的优势和不足热压烧结法具有以下优势:1. 可以制备出高密度的陶瓷材料,具有良好的力学性能和耐磨性。

2. 工艺稳定,可重复性好,能够生产大批量的陶瓷制品。

3. 可以制备出复杂形状的陶瓷制品,满足不同应用的需求。

然而,热压烧结法也存在一些不足之处:1. 设备成本较高,需要较大的投资。

2. 对原料的要求较高,需要选择适合的粉末和添加剂。

陶瓷烧结

陶瓷烧结

目前,微波烧结技术已经被广泛用于多种陶瓷复合 材料的试验研究材料直接耦合导致整体加热。
(2)微波烧结升温速度快,烧结时间短。 (3)安全无污染。 (4)能实现空间选择性烧结。
材料与微波场的作用类型
材料与微波的作用方式示意图
微波烧结系统
5 )反应烧结
反应烧结(reaction-bonded sintering)是让原料混合 物发生固相反应或原料混合物与外加气(液)体发生 围—气(液)反应,以合成材料,或者对反应后的反应 体施加其它处理工艺以加工成所需材料的一种技术 。
是将粉末压坯或装入包套的粉料装入高压容器中,使粉 料经受高温和均衡压力的作用,被烧结成致密件。
其基本原理是:以气体作为压力介质,使材料(粉 料、坯体或烧结体)在加热过程中经受各向均衡的压力, 借助高温和高压的共同作用促进材料的致密化。 目前,热等静压技术的主要应用有:金属和陶瓷的 固结,金刚石刀具的烧结,铸件质量的修复和改善,高 性能磁性材料及靶材的致密化。
(2)具备快熔快冷性,有利于保持粉末的优异特性;
(3)可以使 Si3N4,SiC 等非热熔性陶瓷在无需添加
烧结助剂的情况下 发生烧结。
间接法爆炸烧结装置(a.单面飞片; b.单活塞;c.双活塞)
直接法爆炸烧结装置
谢谢大家!
1)热压烧结
热压烧结(hot pressing)是在烧结过程中同时对
坯料施加压力,加速了致密化的过程。所以热压 烧结的温度更低,烧结时间更短。
热压技术已有70年历史,最早用于碳化钨和钨粉致密件的 制备。现在已广泛应用于陶瓷、粉末冶金和复合材料的生 产。
热压烧结的优点
(1)所需的成型压力仅为冷压法的1/10
烧结装置
烧结系统大致由 四个部分组成:真空 烧结腔(图中6), 加压系统(图中3), 测温系统(图中7) 和控制反馈系统。图 中1示意石墨模具,2 代表用于电流传导的 石墨板,4是石墨模 具中的压头,5是烧 结样品。

陶瓷微波烧结

陶瓷微波烧结

陶瓷微波烧结
陶瓷微波烧结是一种利用微波辐射加热陶瓷材料,使其发生烧结反应,从而获得高强度和高致密度的陶瓷制品的工艺方法。

微波烧结技术相比传统烧结方法具有许多优点。

首先,微波辐射加热可以使陶瓷材料内部更均匀地被加热,加快了烧结速度,节省了能源。

其次,微波烧结可以在较低的温度下实现高致密度和高强度的烧结,可以有效地减少晶粒长大和材料变形的问题,提高材料的综合性能。

此外,微波烧结还可以实现不同类型陶瓷材料的复合烧结,从而获得具有特定性能和结构的复合材料。

陶瓷微波烧结的过程通常包括以下几个步骤:首先,将陶瓷粉末和助烧结剂混合均匀,并压制成所需形状的坯体。

然后,将坯体放入微波炉中,并通过调节微波功率和烧结时间来进行加热烧结。

在加热过程中,微波辐射会使陶瓷粉末中的水分迅速蒸发,并导致局部高温区域的形成。

这些高温区域会引发烧结反应,使陶瓷粉末颗粒之间结合在一起,形成致密的陶瓷成品。

最后,冷却后的烧结体可以进行后续的加工和表面处理,以获得最终的陶瓷制品。

陶瓷微波烧结技术已经在陶瓷材料制备领域得到广泛应用。

目前,它已经被用于制备陶瓷陶瓷、氧化物陶瓷、氮化硅陶瓷、氧化铝陶瓷等不同类型的陶瓷材料。

随着技术的不断发展,陶瓷微波烧结将有望更好地满足不同应用领域对高性能陶瓷制品的需求。

陶瓷烧结方法

陶瓷烧结方法
特点
马弗炉是一种传统的陶瓷烧成设备,具有结构简单、操作方便、加 热速度快等优点。
应用范围
适用于各种陶瓷材料的烧成、烧结和熔融等工艺过程,特别适合于 大规模生产。
使用注意事项
使用马弗炉时应注意安全,避免烫伤和火灾事故;同时应注意炉温的 控制和炉内气氛的调节,以保证烧成效果。
真空炉
特点
真空炉是在真空环境下进行加热的设备,具有高温、高真 空的特点,可以有效地去除材料中的气体和杂质,提高产 品的纯度和性能。
02
烧结方法的分类
固相烧结
01
02
03
定义
固相烧结是陶瓷材料在完 全或部分熔融状态下获得 致密化的过程。
特点
固相烧结过程中不出现液 相,致密化主要依靠颗粒 重排、扩散传质和颗粒表 面能的驱动。
应用
适用于制备高熔点、低导 热系数、低塑性的陶瓷材 料,如氧化铝、氮化硅等。
液相烧结
定义
01
液相烧结是通过添加可熔性组分(如金属、玻璃或其它陶瓷材
在复合材料中的应用
树脂基复合材料
通过烧结方法制备树脂基复合材料,提高材料的强度、刚度和耐 腐蚀性。
碳纤维复合材料
通过烧结方法制备碳纤维复合材料,实现材料的轻量化和高性能 化。
玻璃纤维复合材料
通过烧结方法制备玻璃纤维复合材料,提高材料的强度和耐热性。
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THANKS
瓷材料的致密度和力学性能。
应用
适用于制备形状复杂、细孔结构的陶 瓷制品,如蜂窝陶瓷、多层陶瓷电容
器等。
03
烧结工艺参数
温度
低温烧结
低温烧结通常在1000℃以下进行,适用于对热敏感的材料,如某些玻璃或陶瓷。低温烧结可以减少材料内部的热应力, 降低烧结温度对材料性能的影响。

陶瓷材料的烧结与晶粒生长

陶瓷材料的烧结与晶粒生长

陶瓷材料的烧结与晶粒生长烧结和晶粒生长是陶瓷材料制备过程中非常重要的步骤。

通过烧结和晶粒生长的控制,可以改善材料的性能、提高其致密性和强度。

本文将就陶瓷材料的烧结和晶粒生长进行探讨,并介绍一些常见的烧结方法和晶粒生长机制。

1. 烧结方法烧结是指将陶瓷粉末在一定的温度和压力下进行加热处理,使粒子间发生相互结合和扩散,形成致密的块体材料。

常见的烧结方法有以下几种:(1)热压烧结:将陶瓷粉末放入模具中,在高温和高压的条件下进行烧结。

热压烧结可以获得致密的陶瓷材料,具有较高的强度和硬度。

(2)微波烧结:通过微波加热的方式进行烧结。

微波烧结的优点是加热速度快,能够在较短的时间内完成烧结过程,适用于一些高温敏感的材料。

(3)等离子体烧结:通过等离子体的作用,加快粒子之间的扩散和结合,从而实现快速烧结。

等离子体烧结可以得到致密度较高的陶瓷材料,并能够控制晶粒尺寸和分布。

2. 晶粒生长机制晶粒生长是指陶瓷材料在烧结过程中晶粒尺寸的增大。

晶粒尺寸的大小和分布对陶瓷材料的性能有着重要的影响。

常见的晶粒生长机制包括以下几种:(1)一维生长:晶粒沿着某个方向生长,呈现出棒状或柱状的形态。

一维生长机制适用于一些具有纤维状结构的陶瓷材料。

(2)表面扩散:晶粒表面发生扩散,并与周围的颗粒结合。

表面扩散是晶粒生长的主要机制之一,通过控制晶粒表面的扩散速率,可以调控晶粒尺寸和形态。

(3)体内扩散:晶粒内部的原子通过扩散运动,使晶粒尺寸增大。

体内扩散主要取决于材料的化学成分和温度条件。

3. 影响烧结和晶粒生长的因素烧结和晶粒生长受到多种因素的影响,下面介绍其中几个重要的因素:(1)温度:温度是烧结和晶粒生长的关键因素之一。

适当的温度可以促进晶粒的结合和生长,但过高的温度可能引起过烧,导致晶粒长大过快。

(2)压力:压力可以提高粒子的结合程度和致密性,对烧结效果有重要影响。

不同材料和形状的陶瓷,适宜的压力范围也有所不同。

(3)时间:烧结时间影响烧结程度和晶粒生长的速率。

陶瓷的特种烧结方法

陶瓷的特种烧结方法

陶瓷的特种烧结方法陶瓷烧结是将陶瓷粉末转变为坚硬、致密和均质的陶瓷体的过程。

在传统烧结方法上,高温烧结严重影响了陶瓷晶体的生长和致密化程度,同时易出现微裂纹及材料不均匀等问题。

为了解决这些问题,并提高陶瓷材料的性能及成纤网络形态,一些特种烧结方法被发展出来。

1. 微波烧结法微波烧结利用微波辐射,刺激陶瓷颗粒内部产生电磁波吸收现象,从而使物料内部产生局部加热,加速物料烧结过程,达到陶瓷晶体快速成长和致密化的效果。

同时,微波烧结可以实现快速均一化和高效化,提高了材料的成型和烧结速度,避免了材料的因温度差异引起的变形和启口。

2. 等离子烧结法等离子烧结是在真空或气氛中,通过引入高压等离子体激发陶瓷粉体表面覆盖的气体分子形成碘原子或硝基自由基等等离子体与材料反应,进而形成坚硬、致密和均质的陶瓷体。

这种方法可以避免烧结过程中存在的微孔和烧结反应不充分情况,具有优异的形成特性和微观结构调控能力。

3. 热等静压法热等静压法是将原始陶瓷粉末制成绿坯,用模具加压热压成形,然后加热进一步烧结而成的一种方法。

绿坯制备通过脱模后即可以直接进行热加压,克服了冷压而在烧结阶段固体化程度较低的缺点,可提高陶瓷材料的致密度和性能,同时可以实现复杂形状烧结。

快速烧结法在短时间内,快速加热陶瓷样品到一定温度,并控制在一定时间后,快速冷却而达到致密化和晶体生长的效果。

这种方法可以提高烧结的速度,降低了烧结过程中的氧化作用和烧结后的裂纹等问题,可以克服传统烧结方法中的很多缺陷,同时可以实现高温烧结。

总之,特种烧结方法的发展极大地提高了陶瓷材料的性能和应用,创新技术不断涌现,如等离子烧结、微波烧结、热等静压法和快速烧结法等,在实际应用中具有广泛的前景和市场需求。

氧化锆陶瓷烧结工艺

氧化锆陶瓷烧结工艺

氧化锆陶瓷烧结工艺一、前期准备1. 氧化锆粉末筛选:将氧化锆粉末进行筛选,去除大颗粒和杂质,确保烧结后陶瓷的致密度和均匀性。

2. 添加助剂:根据需要添加适量的助剂,如聚乙二醇、聚甲基丙烯酸甲酯等,以提高陶瓷的成型性能和烧结性能。

3. 搅拌混合:将氧化锆粉末和助剂进行搅拌混合,使其均匀分散。

4. 成型:采用注塑成型、压制成型等方法将混合物成型为所需形状的陶瓷坯体。

二、干燥处理1. 自然干燥:将成型后的陶瓷坯体放置在通风良好的环境中自然干燥,以去除水分和溶剂。

2. 烘干:采用低温或中温烘干方式加速去除水分和溶剂,以避免在高温下产生气泡或开裂。

三、预烧处理1. 加载:将已经干燥处理好的陶瓷坯体放置在预烧炉中。

2. 升温:将预烧炉加热至所需温度,进行升温处理。

3. 保温:将预烧炉保持在所需温度下,进行保温处理。

4. 冷却:将预烧后的陶瓷坯体从预烧炉中取出,进行自然冷却或快速冷却处理。

四、最终烧结1. 加载:将经过预烧处理的陶瓷坯体放置在最终烧结设备中。

2. 升温:将最终烧结设备加热至所需温度,进行升温处理。

3. 保温:将最终烧结设备保持在所需温度下,进行保温处理。

4. 冷却:将最终烧结后的陶瓷制品从设备中取出,进行自然冷却或快速冷却处理。

五、后期加工1. 精密加工:采用机械或化学方法对陶瓷制品进行精密加工,如切割、打孔、抛光等。

2. 表面涂层:根据需要对陶瓷制品表面进行涂层处理,以提高其耐磨性、耐腐蚀性等。

3. 检验:对加工后的陶瓷制品进行检验,以确保其质量符合要求。

六、总结氧化锆陶瓷烧结工艺是一项复杂的过程,需要经过前期准备、干燥处理、预烧处理、最终烧结和后期加工等多个步骤。

其中,掌握好各个步骤的操作技巧和注意事项,能够提高陶瓷制品的成型质量和性能表现。

陶瓷烧结四个过程

陶瓷烧结四个过程

陶瓷烧结四个过程陶瓷烧结是一种重要的陶瓷加工方法,通过高温下的压制和烧结将陶瓷原料转变为致密的陶瓷制品。

它主要包括四个过程:原料制备、成型、烧结和后处理。

一、原料制备陶瓷烧结的第一个过程是原料制备。

通常,陶瓷烧结所用的原料主要包括粉末、添加剂和溶剂。

粉末是陶瓷的主要成分,可以是氧化物、硝酸盐、碳酸盐等,根据不同的陶瓷材料选择合适的粉末。

添加剂用于改善陶瓷的性能,如增加强度、改善导电性等。

溶剂用于调节陶瓷糊料的流动性和粘度。

二、成型成型是陶瓷烧结的第二个过程,它将原料制备好的糊料通过成型工艺转变为成型体。

常见的成型方法有压制、注塑、挤出等。

其中,压制是最常用的方法之一,通过将糊料放入模具中,施加一定的压力使其成型。

注塑则是将糊料注入模具中,通过模具的空腔形状使其成型。

挤出则是将糊料通过挤出机挤出成型。

三、烧结烧结是陶瓷烧结的核心过程,通过高温下的加热和压制使成型体中的颗粒结合成致密的陶瓷制品。

烧结过程中需要控制温度、时间和压力等参数,以确保陶瓷制品的质量。

烧结温度一般高于原料的熔点,但低于熔融温度,使得陶瓷颗粒能够粘结在一起。

烧结压力可以提高陶瓷的致密度和强度,但过高的压力会导致产品变形或开裂。

四、后处理烧结后的陶瓷制品还需要进行后处理,以提高其性能和外观质量。

后处理的方法包括抛光、研磨、清洗等。

抛光和研磨可以去除陶瓷制品表面的粗糙度,使其更加光滑。

清洗则是去除烧结过程中产生的灰尘和残留物,以保证产品的纯净度。

陶瓷烧结的四个过程分别是原料制备、成型、烧结和后处理。

每个过程都起着重要的作用,相互关联,缺一不可。

只有在严格控制每个过程的参数和工艺条件下,才能生产出优质的陶瓷制品。

陶瓷烧结技术的不断发展和改进,使得陶瓷制品在各个领域得到了广泛的应用,如电子、化工、航空等。

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陶瓷材料的烧结方法摘要:陶瓷材料的烧结方法是决定其最终性能的关键技术,本文系统的介绍、分析了目前陶瓷材料所采用的各种烧结方法的机理、工艺、影响因素、特点及其使用范围,为陶瓷材料烧结方法的选择提供参考。

关键词:陶瓷材料,烧结方法1:前言1:作为“面向二十一世纪的新材料〞,陶瓷材料的开发与研究是目前世界各主要工业国共同共注的焦点之一。

烧结是陶瓷材料坯件消费的最后一道工序,也决定着坯件的最终性能。

因此,慎重的选择烧结方法、严格的控制烧结过程是非常重要的。

二:正文2:陶瓷材料的烧结方法陶瓷材料的烧结方法一般可分为:常规烧结、反响烧结、气氛压力烧结、热压烧结、热等静压烧结、微波烧结、放电等离子烧结及高温自蔓延烧结等。

2.1:常规烧结:常规烧结一般采用常规加热方式,在传统电炉中进展,是目前陶瓷材料消费中最常采用的烧结方法。

由于纯的陶瓷材料有时很难烧结,所以性能允许的条件下,通常引入一些烧结助剂,以期形成局部低熔点的固溶体、玻璃相或其他液相,促进颗粒的重排和粘性流动,从而获得致密的产品,同时也可以降低烧结温度。

在氧化铝的烧结中参加TiO2、Cr2O3、Fe2O3、MnO2等可形成固溶体,这类氧化物有与氧化物相近的晶格常数,同时是变价氧化物。

由于变价作用,使氧化铝内部产生晶体缺陷,活化晶格,促进烧结。

例如:参加0.5~1%的二氧化钛、钛离子和铝离子的离子半径相近〔钛离子半径0,064nmm〕因此钛离子极易取代铝离子而形成二氧化钛—三氧化二铝固溶体,并引起晶格畸变。

另外为了到达电荷平衡,必定会留下空位,这就更有利于烧结。

同时,当二氧化钛—三氧化二铝到高温时,Ti4+会复原为Ti3+,而Ti3+ 的离子半径更大,这使得三氧化二铝晶格的歪斜、扭曲比Ti4+引起的更严重。

由于Ti4+和Ti3+的综合作用,可使烧结温度降低150~200度。

在Si3N4的烧结中可参加适量的MgO、Y2O3—Al2O3稀土元素氧化物、碳化物、硅化物添加剂。

尽可能的降低粉末粒度也是促进烧结的重要措施之一。

因为粉末越细,外表能越高,烧结越容易。

例如:普通二氧化钛的烧结温度为1300~1400度,用四乙醇钛为原料制得的粒度为,其烧结温度为1050度,用四异丙醇钛为原料制得的粒度为m的二氧化钛,其烧结温度为800度,比普通粉末降低500度。

烧结温度的降低不仅仅使消费容易进展,经济上合算,而且常常可以改善产品的性能。

对于普通性能要求的陶瓷材料及制品,常规烧结是最方便、经济、可行的烧结方法。

但是由于陶瓷材料极难烧结,常规烧结通常引入低温的晶间玻璃相以进步其烧结性能,这对高温构造陶瓷来说是不利的,而且其致密化也受工艺限制,不能充分满足高性能产品的需求。

反响烧结:反响烧结仅局限于少量几个体系:氮化硅、氧氮化硅、碳化硅等。

氮化硅的反响烧结基于如下反响:将Si粉或Si 与Si3N4粉的混合粉末成型后在1200度左右通N2进展预氮化,机加工成所需零件,然后在1400度左右进展最终氮化烧结。

Si粉压坯一般有30~50%的孔隙度,Si粉氮化有22%的体积增量,因此整个压坯在烧结过程中的形状和尺寸根本不变。

烧结坯仍有15~30%的孔隙度和1~5%的残留Si。

反响烧结的优点是不需添加额外的添加物,因此高温下材料的强度不会明显降低;产品的外形和尺寸根本不变,可以制得形状复杂尺寸准确的制品;要把两个零件焊接在一起,只需将其连接在一起进展氮化即可;同时工艺简单、经济,合适大批量消费。

缺点是烧结坯密度低,材料力学性能不高。

气氛压力烧结气氛压力烧结采用专门的气氛压力烧结炉,在高温烧结过程中设定的时间段内施加一定压力的气氛,以满足局部特殊陶瓷材料的烧结要求。

Si3N4有优异的综合性能,但在高温情况如不采用有效防护措施,Si3N4在烧结完成之前业已升华分解。

最常用的方法是进步氮气气氛压力,例如氮化硅的气压烧结。

将Si3N4刀片坯体在真空状态下升温至400度,参加2Mpa的N2保护;然后升温至1750度时温1h,随炉冷却。

在烧结中,前期的真空有利于坯体水分的排除及进一步彻底排胶,后期的氮气压一方面可防止氮化硅的分解,另一方面有利于窑炉内的温度均匀。

气压烧结后坯体的密度可达理论密度93~98%。

埋粉也可以抑制Si3N4)在高温下的热分解,常见的埋粉为Si3N4+Bn+Mgo或与烧结体同组分的粉料参加氮化硼的混合物等。

另外,一些氧化物制品特别是某些半导体陶瓷烧结时,气氛中的氧分压非常重要.气氛压力烧结满足了局部特殊陶瓷材料的烧结需要,如防分解。

同时在保温阶段后期,一定压力的气氛对烧结体产生一个类似于热等静压过程的均向施压过程,有利于烧结材料性能的进一步进步。

故被国内绝大多数氮化硅制品厂家采用。

热压烧结热压烧结采用专门的热压机,在高温下单相或双相施压完成。

温度与压力的交互作用使颗粒的粘性和塑性流动加强,有利于坯件的致密化,可获得几乎无孔隙的制品,因此热压烧结也被称为“全致密工艺〞,同时烧结时间短,温度低,晶粒长大受到抑制,产品性能得到进步。

Si3N4材料的热压烧结在石墨模具中进展,温度1600~1800,压力20~30Mpa,保压时间20~120min,整个过程在氮气气氛中进展,热压氮化硅制品密度高,气孔率接近零,弯曲强度1000Mpa,断裂韧性5~8Mpa.M1\2,强度在1000~1100度的高温下仍保护不下降。

但是热压烧结只能制造形状简单的制品,同时热压烧结后微观构造具有各向异性,导致使用性能也具有各向异性,限制了其使用范围。

此外,由于硬度高,热压制品的后续加工特别困难。

热等静压烧结热等静压烧结采用专门的热等静压机,在高温下各向均匀施压完成。

由于热等静压烧结技术对包套材料及技术要求较高,因此通常用于制造形状简单的产品且消费效率低。

但利用热等静压烧结气压烧结过的陶瓷制品,那么不需要包套。

例如:当陶瓷刀片坯体密度大于93%时,开口气孔根本完全消除,可在坯体外表自然形成包套,因此刀片坯体可直接置于热等静压烧结炉内进展处理。

在处理过程中,以氮气作为加压介质,加压150Mpa,升温至1650度,保温1h随炉冷却。

经过热等静压烧结处理,刀片的密度可达理论密度的99.5%以上,坯体强度在气压烧结的根底上可增加50~200Mpa,显微硬度进步Gp。

热等静压烧结处理前后陶瓷刀片的性能比照见表:据日本学者报导,Sic和Sic—Tic 陶瓷的外表裂纹和开口孔隙在1850度,200Mpa,n2气氛下进展热等静压烧结处理可以愈合。

这样处理后的Sic基陶瓷的性能大为改善,例如Sic+3%Al2o3陶瓷的抗弯强度和冲击韧性分别从582MMpa.m1\2增加至907MMpa.m1\2热等静压烧结的产品密度均匀,机械性能优异,且各向同性,是高性能陶瓷制品的常用烧结方法。

采用无包套热等静压烧结工艺,坯体不受形状影响,特别合适复杂形状零件,且单炉处理量大,平均本钱低。

但是热等静压烧结设备昂贵,一次性投资较大。

2.6:微波烧结近十年来,微波技术在陶瓷材料中的应用越来越受到人们的关注。

微波烧结是一种利用电解质在高频电场中的介质损耗,将微波能转变为热能而进展烧结,微波烧结具有许多常规烧结无法实现的优点,如高能效、无污染、整体快速加热、烧结温度低、材料的显微构造均匀,能获得特殊构造或性能的材料等,具有良好的开展前景。

根据微波能的利用形式,微波烧结可分为:微波加热烧结,微波等离子烧结,微波—等离子分布烧结等。

2.6.1:微波加热烧结微波加热与常规加热形式不同,前者是依靠微波场中介质材料的极化损耗产生本体加热,因此微波加热温度场均匀,热应力小,适宜于快速烧结。

并且微波电磁场作用促进扩散,加速烧结过程,可使陶瓷材料晶粒细化〔表2〕,有效抑制晶粒异常长大,进步材料显微构造的均匀性。

采用微波烧结ZrO2增韧莫来石,所用烧结温度仅为1350度,比其对应的常规烧结温度降低250度以上,且微波烧结的陶瓷晶粒更细小、均匀,晶界强度更高.微波烧结是一种“整体性〞加热,由于大多数陶瓷材料对微波具有良好的透过度,因此微波加热是均匀的,从理论上讲,加热速度可达300度/min 甚至更高。

但在实际加热过程中,样品外表有辐射散热,且温度越高,热损失越大,假如没有适宜的保温装置,那么加热体内外温差极大,可能导致样品烧结的不均匀,甚至严重开裂,所以要合理设计保温层,尽量减少热量损失,改善加热均匀性。

其次,在低温下,低介损物质对微波的能量几乎不吸收,必须采用混合式加热或添加偶合剂直接烧结。

微波等离子烧结微波等离子烧结是通过微波电离气体形成等离子体,然后等离子体加热生坯得到致密的陶瓷烧结体。

由于快速加热,减小了外表扩散〔主要发生在传统烧结的低温阶段〕引起的晶粒粗化,为晶界扩散和体积扩散提供了较强的驱动力和较短的扩散途径,从而导致陶瓷显微构造的细化,促进坯体的快速致密。

Kin和JohnSon利用微波等离子烧结颗粒直径为m的α—Al2o3,其中添加0.25%的Mgo,升温速度为100度/min,获得烧结体的相对密度达99.5%。

微波等离子烧结升温快,致密化迅速,烧结体性能良好,但是局部烧结机理目前尚不清楚,有待进一步深化研究。

微波—等离子分步烧结微波加热烧结受材料对微波吸收才能的强烈影响。

只有到达某一临界温度后吸收才能才明显增加。

微波等离子烧结不受介质电性能的影响,但大量等离子气体在常温常压下难以鼓励,负压等离子体又极易在高温下导致样品的大量挥发,同样有很大缺乏。

微波等离子分步烧结结合两者优点,首先直接用微波的能量把陶瓷生坯加热到特定温度,然后利用微波的能量将气体鼓励成等离子体,等离子体继续加热陶瓷坯体到烧结温度,形成致密、均匀的烧结体。

因此原那么上适宜于烧结各种陶瓷。

微波烧结作为一种新型的烧结方法,能快速到达常规烧结难以到达的高温,在节能、降低本钱方面有宏大的潜力。

但由于微波烧结过程本身的复杂性,许多技术上的问题有待解决完善,材料介质特性数据的缺乏和设备的缺乏更是微波烧结技术开展的两大障碍。

所以直到如今还没有实现工业化。

:高温自蔓延烧结高温自蔓延烧结本质是利用燃烧反响所产生的热量进展烧结和致密化。

烧结可以在大气、真空或高压容器中进展。

目前应用最成功的是高温自蔓延—离心法消费制备陶瓷复合钢管。

20世纪80年代日本学者Odawara曾利用该技术制备出长m,内径165mm的大尺寸陶瓷内衬复合钢管,该产品在输送铝液和地下热水等工业领域得到了成功的应用〔见图3〕。

将高放热的铝热剂置于钢管中,在高速旋转的离心力作用下,铝热剂紧贴在钢管的内壁,点燃铝热反响如下:反响放出的宏大热量使反响产物瞬间处于熔融状态。

在离心力的作用下,密度高的Fe 液与密度低的Al2o3互相别离,Fe形成中间层,形成内衬陶瓷层,从而形成钢管+金属中间层+陶瓷内衬三层构造的复合钢管。

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