半导体封装测试制造系统运行优化理论与技术集成电路ESD防护关键技术分析
模拟集成电路ESD防护能力仿真验证研究

模拟集成电路ESD防护能力仿真验证研究黄成;罗俊;李广志【摘要】静电放电(ESD)是影响模拟集成电路可靠性的重要因素之一,部分产品会出现因ESD保护能力不足导致的失效.在设计阶段进行芯片静电保护能力仿真验证是一种有效的ESD加固方法,本文对某型模数转换器(ADC)进行了ESD防护能力的仿真验证研究,通过与试验结果对比,证明了仿真结果的正确性和ESD加固设计的有效性.【期刊名称】《环境技术》【年(卷),期】2018(036)006【总页数】5页(P83-86,93)【关键词】模拟集成电路;静电;ESD保护;仿真;ADC;TCAD【作者】黄成;罗俊;李广志【作者单位】中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆 400060;中国电子科技集团公司第二十四研究所,重庆 400060;中国人民解放军驻重庆气体压缩机厂军事代表室,重庆 400060【正文语种】中文【中图分类】TN306引言随着半导体工艺技术的迅速进步,能够制造的芯片规模越来越大,电路的功能日益复杂且性能越来越高。
但是,随着集成电路芯片的集成度越来越高,芯片中半导体器件的特征尺寸越来越小,芯片对静电放电(ESD)的敏感程度也变的更高,特别是芯片经受ESD应力后,功能正常、常规参数可能并未出现严重超差,但是芯片实际已受到潜在损伤,芯片在后续的使用过程中随时可能出现完全是功能性失效[1]。
ESD保护能力仿真是一种在设计阶段常用的避免芯片静电防护能力不足的技术手段,在设计阶段进行器件的ESD防护效果仿真验证,可以有效提高芯片ESD 防护设计的效率和准确度。
1 ESD效应仿真模型1.1 ESD效应仿真放电模型根据ESD现象产生的方式与集成电路放电方式的不同,ESD事件主要分为人体模型(Human Body Model,简称HBM)、机器模型(Machine Model,简称MM)、器件充电模型(Charge Device Model,简称CDM)和人体金属模型(Human Metal Model,简称HMM)[2]。
集成电路的ESD防护技术分析

科技风2017年(月上水利电力D01:10.19392/ki.1671-7341.201715178集成电路的ESD防护技术分析应淼沸上海新海新通信息技术有限公司上海200436摘要:随着现代科学技术的快速发展,E S D(静电放电)防护技术在电路维护中所发挥的作用越来越明显。
在1C产品的生产 过程中,往往会发生E S D现象。
本文以集成电路的E S D防护技术为中心,浅谈了 E S D防护技术的重要性,介绍了 E S D的成因,列举了一些E S D基本防护器件,分析了 E S D防护技术中的全芯片技术,并针对当前E S D防护技术应用中存在的问题提出了几项合 理建议。
关键词:集成电路#E S D防护技术;E S D#静电防护;全芯片技术随着现代社会的不断进步,静电防护越来越受到人们的重 视。
作为集成电路生产的重要组成技术,静电防护技术对于电 路的生产和使用具有重要意义。
在1C工艺水平不断提升的背 景下,企业对集成电路的要求越来越高,然而在高分子材料广 泛使用同时,企业对静电防护的要求也越来越高。
集成电路的 静电防护不仅可以提高产品的成品率,还可以保护人员的安 全。
因此,企业应合理使用E S D防护技术,从而为企业整体效 益的提高提供合理基础。
1E S D防护技术的重要性据统计,每年因静电释放不当而造成损失高达数十亿美 金。
高昂的耗费损失使得E S D防护技术在产品生产中所发挥 的作用越来越重要。
以下从制造业和电子业两个方面分析了 E S D防护技术的重要性。
首先,E S D防护技术在制造业的合理 使用可以达到避免灰尘吸附、减低元件被破坏、避免人员受伤、预防火灾或者爆炸发生以及减少产品失效或运作不稳定的目 的。
另外,E S D防护技术在电子业的有效使用不仅可以提高电 子产品的品质,从而提高电路的使用寿命,还可以保障生产人 员的安全,对于公司整体效益的提高和风险的有效管理具有重 要意义。
2 E S D的成因E S D主要是由于直接接触或者静电感应而导致两个不同 电势的物体之间静电荷传输的现象。
集成电路的ESD防护技术分析

量, 若无法进 行快 速 、 及 时的中和, 释放 出的 电荷数量就会更 多 , 导 致集成 电路 内部形成较高的 电 压。 在该过程中载有 电荷 的物体摩擦 速度 、 接触面面 积以及周 围空气湿度 、 温度均会影响摩擦 电荷产 生 效果 , 进 而影 响E s D放 电量 。 除上述原 因外 , 当一个并不带 电的集成 电路被放入外界静 电场 中时 , 集成 电路 内部盗 电部位则 会受到外界静 电场 的不 良 影响, 而 使得移动 电荷 发生分离 现象 , 此时当该集成 电路接触另一与 自己当 前所带 电压不 同的导电物体 时, 集成 电 路就受 到极短极高 电流的影 响而处于 充电状态 , 此时所产生 电流脉冲 的持续 时间、 幅值受 到周 围环境 、 集成 电路 、 电压 差等众多 因素 的影 响。
3集成 电路 的E S D 防护技术
3 . 1基 于S CR的 防护技 术
晶闸管( S C R) 是一种在集成 电N  ̄ E S D防护 中常会使用到的防护 器件 , 在集成 电路 中使用s C R元件 时 , 大多数情况下会使用到简单 可控硅 晶闸管 , 其 中存在N型 阱电阻以及P 型阱 电阻, 两者存在两个 注入区域, 其 中N 型 阱电阻P + 注入以及N+ 注入会接入集成电路 阳极
通过使 用特定工艺 , 将 电阻、 晶体管、 电感 、 电容等众多 电路组 成元件组合起来 , 使 其成为具有所需 电路功能 的微型结构 , 在集 成 电路不断 发展过程 中, 虽然 电子元件越来越朝向智 能化 、 微小型化 、 可靠 性方 向发展 , 但是E S D 现象仍然是集成 电路需要解决 的首要 问 题, 基于此 , 分析 集成 电N  ̄ - E S D防护技术才 可以找出保证集成 电路 使用 寿命 的生产与制造方法 。
集成电路中ESD防护研究

集成电路中ESD防护研究作者:赵瑞来源:《环球市场》2017年第20期摘要:随着集成电路的发展,芯片采用先进的工艺,性能越来越好。
然而这些先进的工艺对芯片的静电放电(ESD)的承受能力削弱,同时人们对于芯片 ESD 的防护要求不但没有降低,反而越来越高,这使得 ESD 防护电路更加不容易设计。
国内 ESD 防护的研究相对落后于国际先进水平,特别是国产的集成电路芯片,ESD 已经使芯片的成品率和可靠性大大降低,因此对芯片 ESD 的研究意义非常重大。
本文对集成电路的 ESD 防护技术进行了研究。
关键词:集成电路;ESD 防护技术;应用当今科技日新月异,发展更新速度飞快,尤其是是在电子信息领域。
在集成电路设计方面,集成电路(IC)的工艺水平不断发展进步,集成电路的工艺尺寸不断下降,高分子材料也在集成电路中得到广泛使用,但是在器件特征尺寸的缩小以及新材料得到应用的同时,不可避免的会带来一些负面的影响,其中静电放电(Electrostatic Discharge,ESD)保护器件的设计就变得越来越困难,使得产品的静电现象的产生日益严重,因而静电的危险性越来越大,也使得芯片的静电放电(ESD)保护电路的设计越来越复杂。
1、ESD防护电路设计的基本原则①保护器件在电路正常工作的时候必须处于关闭状态(即没有ESD事件发生时),这与ESD器件的触发电压有关,否则误触发会导致核心电路出现故障;②当微电子芯片遭遇ESD 事件时,该保护器件必须迅速打开(纳秒级别),特别是对于快的ESD事件尤为重要,如器件充电模型(CDM),否则如果保护电路不能及时开启,会导致核心电路损毁;③芯片pin管脚上的电压(即落在ESD保护器件上的电压与金属互连线上的电压之和),必须不能超过核心电路所能承受的最高电压,否则会导致核心电路损毁;④在设计的ESD保护等级下,保护电路必须不被损毁,这是ESD器件鲁棒性相关问题;⑤在ESD事件发生过后,保护器件必须回到关闭状态,否则,器件会进入到被禁止的闩锁状态,导致核心电路发生故障。
ESD保护策略解析

要点三
保障操作人员安全
ESD保护不仅对电子设备本身重要, 还可以减少操作人员遭受静电危害的 风险,保障生产过程的安全性。
ESD保护的基本原理
抑制静电产生
01
通过在地线和信号线等部位增加抑制元件,如TVS二极管等,
以抑制静电的产生和传播。
提前泄放静电
02
通过在器件的某个部位设置导电通路,让静电提前从泄放口泄
05
ESD保护实例分析
基于二极管的ESD保护实例
总结词
简单、成熟、可靠性高、成本低
详细描述
基于二极管的ESD保护器件是最常见的保护方案,其结构简单,成本低,可靠 性高,适用于各种电路和系统。当ESD冲击来临时,二极管能够迅速响应并泄 放电流,从而保护电路不受损坏。
基于MOSFET的ESD保护实例
衬底触发不仅需要能够启动ESD保护机制,还需要能够控制ESD保 护机制的运行。
04
ESD保护策略优化
工艺优化
总结词
降低成本、提高性能
详细描述
工艺优化包括改进制造过程和采用更先进的工艺技术,以降低生产成本和提高性 能。例如,使用更先进的纳米工艺技术可以提高芯片的集成度和性能,同时降低 功耗和成本。此外,优化工艺参数也可以提高芯片的稳定性和可靠性。
钳位电路的响应速度
钳位电路需要在ESD冲击到来时,迅速、准确地启动保 护机制,以避免ESD损害。
衬底触发设计
衬底触发的敏感度
衬底触发需要能够在ESD冲击到来时,迅速、准确地启动ESD保 护机制。
衬底触发的稳定性
衬底触发在设备生命周期内应始终保持稳定,不能出现误触发或 漏触发的情况。
衬底触发的控制能力
其他ESD保护器件
放电管(GDT)
集成电路中ESD防护研究的开题报告

集成电路中ESD防护研究的开题报告一、选题背景随着集成电路技术的不断发展,集成度和复杂度越来越高,对ESD保护的要求也越来越高,因为任何微小的ESD放电都会对芯片造成严重的损害。
因此,对于目前越来越多的高集成度、高灵敏度集成电路来说,研究高效的ESD防护方案已经成为了一项非常迫切的任务。
二、研究目的本论文主要研究集成电路中ESD防护方法,重点探讨ESD防护的原理、现有的ESD防护方案的优缺点及存在的问题,并针对当前ESD防护面临的挑战,提出一种更加高效的防护方案。
三、研究内容1. ESD防护技术的概述与发展历程。
2. 现有的ESD防护方案,如硅保护器、电流限制器、瞬态电压抑制器、EMC防护等,对其原理、性能和优缺点的分析比较。
3. 针对现有方案存在的问题,提出集成电路ESD仿真模型,并进行ESD仿真,分析仿真结果,找出不足之处。
4. 在仿真结果的基础上,提出一种新的ESD防护方案,并进行实验验证。
5. 对研究结果进行总结和分析,展望ESD防护技术的未来发展方向。
四、论文进度安排第一阶段(1-2周):完成研究选题及文献调查。
第二阶段(3-4周):研究ESD防护技术的概述与发展历程。
第三阶段(5-6周):对现有的ESD防护方案进行分析比较。
第四阶段(7-8周):提出集成电路ESD仿真模型,并进行仿真分析。
第五阶段(9-10周):提出新的ESD防护方案,并进行实验验证。
第六阶段(11-12周):撰写论文,并对研究成果进行总结和分析。
五、预期成果1. 对ESD防护技术的发展历程和现状的全面了解。
2. 对现有ESD防护方案优缺点进行分析、评估,找出其存在的问题。
3. 提出一种新的ESD防护方案,提高芯片的ESD耐受能力。
4. 对研究结果进行总结和分析,并根据实验验证结果提出结论和未来发展方向。
六、参考文献[1] Chen, L., Chen, Y., &Hu, P. (2012). ESD Protection Circuit Design with Novel Wake-UpCurrent Reduction for Power-Gating Designs. IEEE Transactions on ComputerAided Design of Integrated Circuits andSystems, 31(8), 1261-1266.[2] Miao, Y., & Chan, P. C. (2017). Design and Optimization ofLow-CapacitanceESD Protection Devices with SOG Layer for High-Speed I/O Circuits. IEEE Journalof Solid-State Circuits, 52(8), 2330-2340.[3] Kuo, P.-Y. (2014). A Novel ESD Protection Circuit for High-Speed Analog Intellectual Property Cores. IEEE Transactions on Very Large Scale Integration(VLSI) Systems, 22(2), 507-511.。
esd_test

ESD保护电路的改进型结构的测试报告复旦大学ASIC与系统国家重点实验室李宁集成电路中ESD(ElectroStatic Discharge)现象,主要由IC与带静电的人体或机器接触所致,目前,静电释放所引起的IC失效已占总失效数的10%,因此静电释放保护是保证IC可靠性的一个重要内容,现在的设计要求就是以最小的版图面积,得到触发时间足够快,释放电流足够大的ESD保护电路,以确保IC内部的电路性能不受ESD影响.1.ESD设计原理在ESD冲击发生时,ESD保护电路必须及时地释放ESD能量,并且保护电路必须能够承受大电流。
所以保护电路必须有很快的触发速度,形成低阻通路,来释放ESD能量.另外,由于大电流流过保护电路而产生的热效应,要求保护结构必须能够均匀的释放ESD能量,降低能量密度,防止局部过热而造成损伤。
ESD保护中常用的器件有;a)电阻b)二极管c)双极型晶体管d)NMOS型晶体管e)场管f)可控硅(SCR)1)回扫现象回扫(snapback)现象存在于多种ESD保护电路结构中,举MOS管为例;MOS管的跨导比较双极型器件要小,显然不适合承载大电流。
但在ESD冲击发生时,以NMOS为例,它将被触发成横向的N+-P-N+晶体管。
而源漏电压将被箝位在N+-P-N+晶体管的回扫电压上。
图1. NMOS管寄生NPN管的回扫击穿截面图如上图1所示,漏端接静电源,源端接地。
随着V DS的增加,漏端和衬底的耗尽区将发生雪崩,并伴随着电子空穴对的产生。
一部分产生的空穴被源端搜集,其余的流过衬底。
由于体电阻的存在,从而使衬底电压提高。
当衬底和源之间的P-N结正偏时,电子就从源发射进入衬底。
这些电子在源漏之间的电场的作用下,被加速,产生电子、空穴的碰撞电离,从而形成更多的电子空穴对,使流过N +-P-N +晶体管的电流不断增加,最终形成回扫击穿。
I-V 曲线也类似图2。
I图(6)图2. 回扫击穿的I -V 特性曲线2) SCR 结构由于可控硅(semiconductor Controlled Rectifies,SCR) 触发前后,电阻变化很大。
esd静电防护方法 esd静电防护技术

esd静电防护方法esd静电防护技术1.一般esd静电防护的基本思路(1)从元器件设计方面,把静电保护设计到LED器件内,例如大功率LED,设计者在承载GaN基LED芯片倒装的硅片上,设计静电保护二极管,这时硅片不但作为GaN的承载基体,还起到ESD保护作用,使采用这种芯片封装的器件ESDS达到几千伏。
它的优点是直接提高器件抗ESD能力,简化封装生产和器件安装等过程的静电防护措施;缺点是增加成本,增大体积,芯片生产工艺复杂并且需要专业生产设各,它适用于高价值的LED器件。
(2)从生产工艺方面,有两种静电防护途径;①消除产生静电的材料与过程。
通过材料的选用,使静电产生的途径不存在了或者减少了,从源头消除了静电放电的产生与积累,是静电防护的有效的基本方法之一。
②泄放或中和防止静电放电。
因为产生静电的所有途径是不可能完全消除的,所以我们需要安全地泄放或中和那些要发生的静电,防止静电放电的发生。
2,esd静电防护接地技术接地就是直接将静电通过一条导线的连接泄放到大地,这是防静电措施中|最直接、最有效的方法。
多数静电防护系统的效果,都依赖于接地地线的质量,静电接地技术是静电泄放工艺中的主要环节,系统接地的质量将直接影响电荷的释放能力。
地线必须是能够接受或提供大量电荷的,理想的地线应该是一个优良的导体,即电流流过地线时不产生电位降,地线上各点电位相同。
在工作区的静电地线应为静电专用地线,不得与其他地线共用。
防静电接地是厂房基建工程中重要的指标之一。
3.esd静电防护操作系统在进行静电敏感器件的操作时,工作台上应铺设具有静电导电和静电耗散功能的材料制成的防静电台垫。
使所有与器件接触的端子、工具、仪器仪表、人体达到一致的电位,并通过接地使静电能迅速泄放。
4.人体防静电系统人体防静电系统主要由防静电手腕带、防静电工作服、鞋袜等组成,必要时还需要辅以防静电工作帽、手套、脚套等物品。
这种整体的防静电系统兼各静电泄放、中和和屏蔽的作用。
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半导体封装测试制造系统运行优化理论与技术集成电路ESD防护关键技术分析
摘要:半导体封装测试制造系统是一个关键的环节,它涉及到集成电路生产
过程中的封装和测试阶段。
在这个过程中,为了确保集成电路的可靠性和稳定性,需要对ESD(静电放电)进行有效的防护。
ESD是一种微弱但高能量的静电放电
现象,它可能对集成电路产生严重影响甚至导致损坏。
关键词:半导体封装测试;制造系统;运行优化;技术集成电路;ESD防护
关键技术
引言
在当今的半导体行业中,有一个关键问题是如何确保集成电路(IC)在制造
和封装过程中的可靠性以及在使用中的防护。
尤其是针对电静电放电(ESD)这
一常见的电子元器件失效原因,开展相关防护技术的研究和优化至关重要。
1半导体封装测试制造系统的基本原理和流程
1.1封装
封装是将芯片置于封装组件(package)内部,并提供连接器和引脚,以便
将芯片和外部系统连接起来的过程。
封装是对芯片进行物理保护、热管理和电气
连接的重要步骤。
1.1.1封装流程
封装流程通常包括以下几个步骤:(1)芯片裸片:将晶圆上的芯片切割为
单个小芯片,通常通过切割刀或激光切割机来完成。
(2)倒角与磨平:在芯片
边缘施加倒角,以消除尖锐边缘的影响,然后进行磨平,以确保芯片表面的光滑度。
(3)芯片测试:对芯片进行电学测试,以验证其功能和可靠性。
这一步骤
是为了确保芯片在封装之前能正常工作。
(4)粘贴芯片:将芯片置于封装组件中,并使用胶水或粘合剂进行固定。
(5)线键焊(Wirebonding):在芯片和封
装的引脚之间通过焊线(wire)进行电连接。
焊线通常是金属线,如金、铝或铜等。
焊线焊接可以使用热压力法、超声波法或激光焊接法等。
(6)温度海绵:
敷设温度海绵以吸收封装过程中产生的热量,防止芯片过热损坏。
(7)封胶:
用封胶材料将芯片和封装组件包封,并在其中加入防潮剂,以提高整体的封装稳
定性。
(8)引脚球焊(Ball Bonding):为封装提供额外引脚的芯片(例如BGA
封装),通过为引脚点焊连接小球填充金属封装。
1.1.2封装类型
在半导体工业中,有许多不同类型的封装,每种封装有其优缺点和特性,可
根据应用需求进行选择。
一些常见的封装类型包括:(1)1DIP(DualIn-line Package):是最早期的芯片封装之一,通过两排金属引脚连接到外部。
DIP封装
适用于较大尺寸的IC,但占用空间较大。
(2)2SOP(Small Outline Package):SOP封装是一种较小体积的封装,由焊盘及金属引脚组成。
它具有较小的体积,
易于布局和安装。
(3)BGA(Ball Grid Array):BGA封装将芯片与封装底部的
小球焊点连接起来,具有良好的导热性和高密度接口,通常用于高性能芯片。
1.2测试
测试是在封装过程中对芯片进行功能验证和质量保证的重要环节。
它的目的
是检测芯片在正常使用条件下是否能工作,在测试结果合格的情况下才能出厂。
具体如下:(1)功能测试。
功能测试(Functional Testing)是对集成电路进行
操作和测量,以验证其功能并确保其正常工作。
这种测试通过输入不同的信号和
模式,并通过测量输出来验证芯片的行为和逻辑功能。
(2)电气特性测试。
电
气特性测试是在封装过程中对芯片的电性能和特征进行测量和分析,用于评估芯
片的质量和可靠性。
这种测试包括正常工作条件下的直流和交流参数测量,如电压、电流、功耗等。
(3)可靠性测试。
可靠性测试是为了评估芯片在实际使用
条件下的长期稳定性和可靠性,如温度耐受性、振动耐受性、湿度耐受性等。
这
种测试通过模拟各种可能的环境条件,以确定芯片是否能够满足产品的寿命要求。
2通过对ESD防护关键技术的详细分析
2.1设计合适的防护电路
设计合适的防护电路是保护集成电路免受ESD事件影响的核心。
主要目标是
将外部ESD事件的能量迅速导向接地,避免对芯片产生损害。
2.1.1ESD保护电路的基本结构
传统上,防护电路主要包括串联蚀刻或者电击吸收器(TVS)二极管、快速
放电晶体管(FET)和电阻器。
串联电阻用于限制过电流流过集成电路的路径,
而TVS二极管和FET则能够迅速将大部分ESD能量导到地。
2.1.2防护区域的布局
集成电路中的关键区域,在设计时应该合理地布局,以减少ESD事件对芯片
的影响。
这包括避免关键电气路径沿着发生ESD事件的路径走,并确保附近没有
高能量ESD源。
2.2提供良好的接地系统
良好的接地系统在ESD防护中起着至关重要的作用,它有助于提供低阻抗的
安全路径,以迅速引导ESD能量到地。
2.2.1单点接地系统
单点接地系统通过将设备和电路板中的所有接地连接到一个共同的接地点来
形成良好的接地系统。
这种系统能够确保从各个点到共同接地点的电平差异较小,提供更好的ESD传导路径。
2.2.2良好的接地线路
为了提供低阻抗的接地路径,接地线路必须设计为低电阻、低电感的结构。
此外,应避免接地线路和其他高频信号线之间的交叉干扰,以免干扰ESD事件的
防护机制。
2.3选择合适的封装材料
封装材料在ESD防护中也发挥着重要的作用。
选择合适的封装材料有助于抵
御或吸收ESD事件,并将其能量转化为对芯片尽可能小的影响。
2.3.1静电吸收塑料封装
静电吸收塑料(ESD-absorbingplastic)封装材料是一种特殊设计的材料,
具有自导电性能,能够迅速分散和吸收ESD能量,以减少对芯片的损害。
这种材
料在提供基本防护同时,仍然保持良好的机械强度和封装特性。
2.3.2防护膜或涂层
应用防护膜或涂层在芯片表面形成一层绝缘保护层,可有效阻止外部ESD事
件的直接影响。
这种方式既能提高芯片的生产效率,又能保障产品质量。
3探讨ESD防护技术在future技术集成功能扩展和芯片封装密度增加的挑战下的应对策略
3.1新一代防护电路设计
随着集成电路功能的扩展,传统的ESD保护电路可能已不再适应较高密度RF、高速IO等芯片的ESD防护需求。
未来的ESD防护电路需要深入理解未来个别芯
片的特性,并综合考虑各种雷区,从而设计出更加高效的防护电路。
特别要注重
功耗、布局、和散热等问题。
3.2优化接地系统设计
由于未来芯片的更高密度和更高性能,接地系统在ESD防护中将起到更重要
的作用。
要构建一个可靠的接地方案,减少电路和系统之间的串扰和耦合,需要
采用更高频的阻抗规划和细致的电土壤设计。
优化接地线路布局和降低线路阻抗
对ESD资料传输级功耗、速度等方面都是至关重要的。
3.3减少敏感器件间的ESD传播通路
随着芯片封装密度的增加,集成电路上的敏感区域和敏感器件之间的ESD传播路径也在增多。
为了解决这一问题,可以采取区分和分离不同芯片功能区域的策略,并通过物理或电气控制减少ESD传播通路。
结束语
半导体封装测试制造系统运行优化理论与技术集成电路ESD防护关键技术分析的目标是改善半导体IC的可靠性和ESD防护能力。
通过对制造过程和技术的优化研究,以及对封装测试设备的持续改进,预计能够在半导体行业中推动技术的创新和发展,提高产品质量和竞争力。
参考文献
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[1]马琛,赵明,孟翔宇等.集成电路的ESD防护关键技术分析[J].电子测试,2019(11):109-110.
[3]倪妍婷.半导体封装测试制造系统运行优化理论与技术[M].武汉大学出版社:,2019.
[4]刘青.半导体封装测试设备维护管理系统的设计与实现[D].电子科技大学,2018.。