椭偏光谱原理和技术

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全光谱椭偏仪作用

全光谱椭偏仪作用

全光谱椭偏仪作用一、引言全光谱椭偏仪是一种高精度、高灵敏度的光学测量仪器,能够实现对光学的全面检测和分析。

它的作用和应用已经得到了广泛的认可,并在多个领域中发挥着重要的作用。

本文将介绍全光谱椭偏仪的工作原理、应用领域、优势以及结论等方面的内容。

二、全光谱椭偏仪的工作原理全光谱椭偏仪是一种基于光学椭偏技术的高精度测量仪器。

它通过测量入射光在样品表面反射后偏振状态的变化,获取样品的光学特性。

全光谱椭偏仪可以在宽波长范围内进行测量,从而实现对不同材料的光学特性的全面分析。

全光谱椭偏仪的工作原理主要涉及以下几个步骤:1.光源发出光线,经过分束器分为两束光线,一束为参考光束,另一束为探测光束。

2.探测光束经过透镜和反射镜后反射回来,经过样品表面的反射和散射,形成反射光束。

3.反射光束再经过分束器后分为两束,一束经过检偏器,另一束经过光检测器。

4.检偏器根据不同的角度可以检测出不同方向的偏振态,而光检测器则检测光强。

5.通过测量反射光束的偏振态和光强,结合已知的光源波长和角度等信息,可以计算出样品的光学特性。

三、全光谱椭偏仪的应用领域全光谱椭偏仪的应用领域非常广泛,主要包括以下几个方面:1.薄膜厚度测量:全光谱椭偏仪可以对各种薄膜进行厚度测量,包括金属膜、介质膜、半导体膜等。

这有助于了解和控制薄膜的生长和制备过程。

2.光学常数测量:全光谱椭偏仪可以测量各种材料的光学常数,包括折射率、消光系数等。

这有助于了解材料的光学性质和特性。

3.表面粗糙度测量:全光谱椭偏仪可以用于测量各种材料的表面粗糙度,包括金属、玻璃、塑料等。

这有助于了解材料的表面质量和加工工艺。

4.生物医学应用:全光谱椭偏仪在生物医学领域也有广泛的应用,例如测量生物组织的折射率和消光系数等,有助于了解生物组织的生理和病理变化。

5.光电子器件研究:全光谱椭偏仪在光电子器件研究中也有重要的应用,例如测量光电子器件的光学性能和特性等。

四、全光谱椭偏仪的优势全光谱椭偏仪相比其他光学测量仪器具有以下优势:1.高精度测量:全光谱椭偏仪可以对光学参数进行高精度测量,测量精度高达到0.01%或更高。

光谱椭偏仪 技术指标

光谱椭偏仪 技术指标
选件:
CCD像机,
推荐用于硅太阳能电池测量
测量时间:
全ψ / Δ谱:
典型时间: < 10 s
控制器:
模块化单元带桌面椭偏光学透镜和量角器
分立的19”机架包含光源,椭偏仪控制器,带电路板和微控制器单元,光度计
功率需求:
额定电压:115/230 VAC
自动选择(100-132 VAC or 207-264 VAC),
计算机控制检偏器和起偏器
消光比:
10-6
测量光斑:
手动可调直径范围1 mm -- 4 mm
选件:200 μ微光斑
探测系统
高灵敏度CCD
机械角度计
40°-90°,步进值5°
准确度:δ(Psi): 0.02 °
δ(Delta): 0.04°
(适用300-800波长)
样品对准:
自动对准显微镜和光学显微镜适用于最准确的样品对准(聚焦和水平调整)
光滑样品表面
240-930nm
衬底:透明、半Biblioteka 明,非透明衬底光学和机械部分:
椭偏操作原理:
结合PSA和PCSA二种模式:
P:起偏器
C:补偿器(超-消色差)
S:样品
A:步进扫描分析器
光源:
稳定75W氙弧灯,提供UV/VIS光谱
寿命:超过1000小时
备用氙灯光源
起偏器/分析器:
UV Glan Thompson晶体
光谱椭偏仪技术指标
设备配置
光谱椭偏仪,适用于绒面硅太阳能电池。
包括多角度测量的机械手动角度计、光学器件、光纤、机柜(包括紫外/可见光分光光度计、紫外/可见光光源、包括电路板和微控制器单元的椭偏仪控制器)、配有Windows 7操作系统和分析软件的台式计算机。

椭偏光谱原理和技术

椭偏光谱原理和技术

椭偏光谱原理和技术本章通过介绍椭偏光谱的基本原理、光度型椭偏光谱仪以及椭偏光谱分析特点,给出了椭偏光谱技术在离子注入的辐照损伤以及材料光学性质研究中的应用和局限。

利用椭偏光谱技术,结合其它分析手段并建立精细的分析模型,椭偏光谱技术能够从复杂的材料结构中,快速、精确和方便地测量并分析各层结构的厚度、成份、气孔率和光学常数。

椭偏光谱技术将在材料的光学性质研究和离子注入的辐照损伤研究等方面发挥积极的作用。

§3.1 引言椭偏术(Ellipsometry)起源于一百多年前,它是一种用来研究媒质界面或薄膜特性的光学方法[1-2]。

其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振态的改变来研究表面薄膜厚度、光学常数、膜性质和结构以及基体光学性质和结构等。

早期的椭偏术多半采用消光方式,它的结构简单,已被沿用了上百年。

这种方式在实验中需要使用一个1/4波片,这限制了工作波长范围,因此难以被用于材料的光谱学研究。

此外,测量过程多半靠手动完成,比较费时。

为了克服这些缺点,实现研究材料的光学特性随光子能量变化的关系,人们对实验方法进行了改进,考虑省去1/4波片,而采用光度型的椭偏检测方法[3]。

在实验中,固定起偏器方位角,同时连续旋转检偏器。

因此,只要读取不同检偏方位角的光信号强度,就能通过计算分析得到完整的椭偏参数。

但由于实验中涉及到大量的数据处理和繁复的三角函数计算,为获得一条谱线所消耗在测量操作和计算上的时间太多使得这种有用的方法在很长一段时间没有得到广泛的应用。

计算机(尤其是PC机)的出现和计算技术的不断提高给这种方法注入了新的活力,并得到了迅速的发展。

目前,随着计算机制造业的迅猛发展,超大型集成电路对芯片不断提高质量和扩大用途的要求,促进了椭偏仪制造业和SE技术的发展。

以90年代初至今为例,美国的椭偏仪生产厂家已增加一倍。

近年制造的椭偏仪的功能在扩大、精度也在提高,波长范围已包括可见、紫外、红外。

光谱椭偏仪

光谱椭偏仪

光谱椭偏仪
光谱椭偏仪是一种重要的天文仪器,它可以改变光束的方向。

它的结构很简单,主要由一个金属制的椭偏镜以及一个机械的旋转装置组成。

它的历史可以追溯到18世纪,当时由英国天文学家和物理学家William Herschel发明。

椭偏镜是光谱椭偏仪的重要组成部分。

椭偏镜是一个椭圆形的金属制平面镜,直径大概约为30厘米,以及一个有定位螺丝的金属框架。

它的工作原理是,有一组金属片在框架的两端,当旋转框架时,它们将相对应的金属片靠拢,使被经过的光束产生转换。

紧随其后,是一个机械的旋转装置用来改变椭圆镜上的金属片之间的间距,以此来控制光束的方向。

它由一个金属圆盘和一个环槽组成,环槽中装有金属按扭。

当按扭旋转时,它将圆盘拉扯,改变椭偏镜上片之间的间距,从而使光束转换。

光谱椭偏仪有许多用途。

最重要的应用之一是天文学家需要查看不同的天体时使用的数据收集仪器。

由于大部分的可见光源位于宇宙的极远处,这些光源可能随时间有所变化,而光谱椭偏仪则可以将光束转换到可以收集数据的方向上。

此外,在望远镜和投影显示系统中,也会使用到光谱椭偏仪。

此外,它还可以用来测量光线的波长,角度和强度等特性。

总之,光谱椭偏仪是一种重要的天文仪器,它可以改变光束的方向,并有多种用途。

它的发明让天文学家能够收集更多的数据,并为多种科学应用提供了更好的工具,让人类对自己的环境有更深刻的认
识。

光谱椭偏仪技术指标

光谱椭偏仪技术指标

光谱椭偏仪技术指标一、基本原理当线偏振光通过材料时,由于材料的菲涅尔吸收和几何相位差的改变,光的振幅和相位发生变化。

这些变化可以通过椭偏仪来测量。

光谱椭偏仪的基本组成部分包括偏振器、样品室、光源、检测器和计算机控制系统。

二、技术指标1.光学旋光测量范围光学旋光测量范围是指仪器能测量的旋光角度范围。

高性能的光谱椭偏仪通常具有广泛的测量范围,可以测量从几度到几百度的旋光角度。

2.分辨率分辨率是指仪器测量中的最小可分辨的旋光角度差异。

分辨率越高,仪器能够测量更细微的旋转角度变化。

3.波长范围波长范围是指仪器可以测量的光谱范围。

不同的材料对不同的波长的光有不同的吸收和旋光效应,因此光谱椭偏仪需要具有广泛的波长范围,以适应不同样品的测量需求。

4.光谱测量精度光谱测量精度是指测量结果的准确性。

高精度的仪器能够提供准确的吸收和旋光谱线的位置和强度信息。

光谱测量精度的提高可以通过优化光学系统和控制电路来实现。

5.自动化和计算机控制6.实时监测有些光谱椭偏仪具有实时监测功能,能够在材料发生变化时实时记录和监测材料的吸收和旋光特性。

实时监测对于进行动态实验或观察反应过程中旋光和吸收的变化非常有用。

7.敏感度和响应时间总结:光谱椭偏仪是一种用于研究材料的光学性质的仪器,主要用于测量材料的光学旋光和吸收特性。

其技术指标包括光学旋光测量范围、分辨率、波长范围、光谱测量精度、自动化和计算机控制、实时监测、敏感度和响应时间等。

这些技术指标直接关系到仪器的测量能力和数据准确性,是用户选择和评价光谱椭偏仪的重要参考依据。

光谱氏椭偏仪原理

光谱氏椭偏仪原理

光谱氏椭偏仪原理
光谱氏椭偏仪原理是基于光的偏振现象和不同波长的光与物质相互作用的规律。

光谱氏椭偏仪采用的是光的偏振态和其在样品中的吸收、反射、散射等效应之间的关系。

椭偏仪工作原理如下:
1. 偏振光源:椭偏仪通过选择合适的偏振光源,如线偏振光源、环偏振光源等,来产生特定偏振态的光。

2. 样品和样品旋光现象:将要测量的样品置于光路中,样品会对透过的光进行吸收、散射或反射等作用,同时会引起光波的偏振轴发生旋转,即样品旋光现象。

3. 检测和分析:通过调整光路中的检测器,可以分离出偏振光经样品后被样品吸收、反射或散射后的不同成分,并测量其光的相关参数,如偏振态的旋转角度、振幅比、偏振椭圆的长短轴等。

4. 光谱测量:通过改变光源的波长,可以获取样品在不同波长下的偏振态变化,从而得到样品在不同波长下的光学特性和吸收或散射的规律。

总结来说,光谱氏椭偏仪原理利用光的偏振特性和样品对光的吸收、反射或散射的作用,通过测量偏振光的参数来获取样品的光学特性和分析样品的组成、结构等信息。

椭偏光谱原理和技术

椭偏光谱原理和技术

椭偏光谱原理和技术椭偏光谱原理和技术是一种分析物质光学性质的方法,通过测量物质对椭偏光的旋光、吸收、偏振反射等现象,得到物质的光谱信息,以研究物质的结构、组成、性质等。

椭偏光谱在化学、物理、生物、医学等领域有着广泛的应用。

椭偏光谱的原理基于椭偏振光和物质相互作用的光学响应。

当线偏振光入射到物质上时,物质对光的旋光、吸收、偏振反射等会导致入射光的偏振状态发生改变。

椭偏光谱采用旋光仪或椭偏光镜等设备产生偏振光,然后通过光源透射或反射到样品上,再经过旋光仪或光谱仪等设备测量样品上的偏振状态的变化,进而获得椭偏光谱。

椭偏光谱技术包括旋光谱、吸收谱、偏振反射光谱等。

旋光谱是指测量物质对旋光的响应,通过测量旋转的角度可以得到物质的旋光力学参数。

吸收谱是指测量物质对吸光度的响应,通过测量波长范围内的吸光度变化可以得到物质的吸收光谱。

偏振反射光谱是指测量物质对偏振反射的响应,通过测量偏振反射光的偏振状态的变化可以得到物质的偏振反射光谱。

椭偏光谱技术有着许多优点。

首先,它可以获取物质的结构和组成信息,对于研究物质的性质非常有意义。

其次,椭偏光谱对于无机物、有机物、生物分子等各种物质都适用。

此外,椭偏光谱具有高灵敏度、高分辨率等优点,可以测量微量物质和复杂体系。

最后,椭偏光谱技术简便易行,不需要特殊的样品处理和准备,适用于现场分析和在线监测。

随着科学技术的不断发展,椭偏光谱技术也得到了广泛的应用。

在化学中,椭偏光谱可以用于溶液、固体和气体等的结构和反应动力学研究。

在物理中,椭偏光谱被用于研究光学材料、天体物理和凝聚态物理等领域。

在生物和医学中,椭偏光谱技术可以用于蛋白质结构研究、分子诊断和药物分析等。

总而言之,椭偏光谱原理和技术是一种通过测量物质对椭偏光的旋光、吸收、偏振反射等现象,获取物质的光谱信息以研究物质的结构、组成、性质等的方法。

它在化学、物理、生物、医学等领域有着广泛的应用前景。

随着技术的不断进步和创新,椭偏光谱技术将发挥更加重要的作用,为科学研究和实际应用提供更加准确和可靠的光谱分析手段。

椭偏光谱测量及研究进展

椭偏光谱测量及研究进展

椭偏光谱测量及研究进展椭偏光谱测量是一种重要的物理化学技术,用于研究和分析材料的光学性质。

它结合了光的偏振和光谱学的原理,可以提供关于样品偏振性质的详细信息。

随着技术的进步,椭偏光谱测量已经成为材料科学和化学研究领域中的重要工具。

椭偏光谱测量技术通过测量样品对偏振光的旋转和吸收来提供精确的光学信息。

这种测量可以在大范围内实现,包括可见光、近红外光和紫外光。

通过改变入射光的偏振态和波长,可以获得样品的偏振度、折射率、吸收系数等重要物理参数。

椭偏光谱测量常用于表征材料的性质,例如对溶液中化学物质的结构和浓度进行分析,研究材料的光学活性、磁光性质和超材料等。

1.多参量测量技术的发展:传统的椭偏光谱测量主要关注样品的旋光度和偏振度。

现在,人们已经开始开发多参量测量技术,包括椭圆偏振度、相移、传输矩阵等。

这些技术可以提供更全面的光学信息,进一步深入研究材料的光学性质。

2.纳米结构和纳米粒子的研究:椭偏光谱测量在纳米科学和纳米技术领域中有着重要应用。

由于纳米结构和纳米粒子的尺度效应,它们的光学性质与宏观材料有很大的差异。

椭偏光谱测量可以非常精确地研究这些差异,为纳米材料的设计和合成提供理论指导。

3.生物医学应用:椭偏光谱测量在生物医学领域中具有良好的应用前景。

通过研究生物样品的光学旋光度和偏振度,可以获得重要的生理和病理信息。

例如,可以通过椭偏光谱测量来检测肿瘤、糖尿病和其他疾病的早期诊断。

此外,椭偏光谱测量还可以用于研究生物分子的结构和动力学。

4.数据处理和分析方法的发展:椭偏光谱测量产生的数据往往非常复杂,需要复杂的数据处理和分析方法来解读。

近年来,数据处理和分析方法得到了快速发展,例如谱拟合、数据挖掘和机器学习等。

这些方法可以从庞杂的数据中提取有效的信息,加快数据分析的速度和准确性。

总的来说,椭偏光谱测量是一种重要的光学技术,具有广泛的应用前景。

通过不断地研究和改进,我们可以更好地理解材料的光学性质,探索新的物理现象和应用。

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椭偏光谱原理和技术本章通过介绍椭偏光谱的基本原理、光度型椭偏光谱仪以及椭偏光谱分析特点,给出了椭偏光谱技术在离子注入的辐照损伤以及材料光学性质研究中的应用和局限。

利用椭偏光谱技术,结合其它分析手段并建立精细的分析模型,椭偏光谱技术能够从复杂的材料结构中,快速、精确和方便地测量并分析各层结构的厚度、成份、气孔率和光学常数。

椭偏光谱技术将在材料的光学性质研究和离子注入的辐照损伤研究等方面发挥积极的作用。

§3.1 引言椭偏术(Ellipsometry)起源于一百多年前,它是一种用来研究媒质界面或薄膜特性的光学方法[1-2]。

其原理是利用偏振光束在界面或薄膜上的反射或透射时出现的偏振态的改变来研究表面薄膜厚度、光学常数、膜性质和结构以及基体光学性质和结构等。

早期的椭偏术多半采用消光方式,它的结构简单,已被沿用了上百年。

这种方式在实验中需要使用一个1/4波片,这限制了工作波长范围,因此难以被用于材料的光谱学研究。

此外,测量过程多半靠手动完成,比较费时。

为了克服这些缺点,实现研究材料的光学特性随光子能量变化的关系,人们对实验方法进行了改进,考虑省去1/4波片,而采用光度型的椭偏检测方法[3]。

在实验中,固定起偏器方位角,同时连续旋转检偏器。

因此,只要读取不同检偏方位角的光信号强度,就能通过计算分析得到完整的椭偏参数。

但由于实验中涉及到大量的数据处理和繁复的三角函数计算,为获得一条谱线所消耗在测量操作和计算上的时间太多使得这种有用的方法在很长一段时间没有得到广泛的应用。

计算机(尤其是PC机)的出现和计算技术的不断提高给这种方法注入了新的活力,并得到了迅速的发展。

目前,随着计算机制造业的迅猛发展,超大型集成电路对芯片不断提高质量和扩大用途的要求,促进了椭偏仪制造业和SE技术的发展。

以90年代初至今为例,美国的椭偏仪生产厂家已增加一倍。

近年制造的椭偏仪的功能在扩大、精度也在提高,波长范围已包括可见、紫外、红外。

光束束斑可做到20μm以下,时间分辨率已达1msec甚至1μsec,并发展了多通道检测技术及实时(Real-time)测量等技术和大量相应的软件。

因此,椭偏光谱技术的重点已从技术本身转移到该技术在材料分析中的应用。

从单波长的椭偏测量术(Ellipsometry)到多波长的椭偏光谱技术(Spectroscopic Ellipsometry)的开创性研究工作是由美国贝尔实验室的Aspnes 于1975年率先完成的[4]。

在这以后,各国的固体光谱实验室都竞相开展研究,完善了这种方法[5,6]。

国内的研究始于70年代,第一台国产TP75 型椭偏仪[7]是莫党教授等设计制造的,它属于单波长消光法型。

八十年代后,莫党教授等又设计制造了TPP-1型椭偏光谱仪[8],属于波长扫描光度法型。

这两种型号的椭偏仪都作为产品批量生产,为我国的有关科学研究和工业生产发挥了很大的作用。

与此同时又有多家单位相继开展了椭圆偏振技术的研究。

上海复旦大学物理系陈良尧教授等设计制造的起偏器-检偏器双旋转式新型椭偏仪具有自己的特色和优点[9],他们还成功地研究了独具特色的国内第一台全自动入射角可变和波长扫描的椭偏光谱仪,该仪器的不少性能优于美国Rudolph Research的SE商品;上海技术物理所褚君浩教授制作的红外椭偏光谱仪[10],已形成产品出售;重庆大学应用化学系黄宗卿教授利用椭偏光谱法在电化学方面应用也取得一些成绩[11]。

可以预期,该领域的研究在未来十年内将会有更迅速的发展。

椭偏光谱技术的蓬勃发展归功于其独特的特点:(1)测量精度高。

对薄膜的测量准确度可达10Å,相当于单原子层厚度,比电子显微镜的分辩力(几百埃)还高一个数量级;(2)非破坏性测量。

在各种粒子束分析测试技术中,光束引起的表面损伤以及导致的表面结构改变是最小的;(3)非苛刻性测量。

样品可以是固相、液相或气相,也可以是体材料或薄膜,对测量样品所处的环境条件也无苛刻要求;(4)能同时分别测量出多个物理量。

椭偏光谱法可以直接得到光学常数的实部和虚部,不需要用Kramers-Kroning关系(简称K-K关系)[12-13]从其中一个去求另一个,这对研究材料的光学性质是极有价值的;(5)能区分不同物理效应;(6)能实现实时监控。

在椭偏测量中,被测对象的结构信息(电子的,几何的)是蕴涵在反射或透射出来的偏振光束中,通过光束本身与物质作用前后的偏振状态(振幅、相位)的不同,便可以检测出表面信息的微弱改变。

在可见光区,对于目前许多被实际应用的半导体材料来说,最好的光学数据大多来自椭偏光谱实验测量和研究的结果[14,15]。

椭偏光谱技术按光波与物质作用的不同方式可分为三大类:反射椭偏光谱、透射椭偏光谱和散射椭偏光谱。

本论文主要对反射椭偏光谱感兴趣,所以下面只讨论反射椭偏光谱。

§3.2 椭偏光谱技术的基本原理3.2.1描述光学常数的基本公式[1-2]固体的基本光学性质可用一些称为光学常数的物理量来加以描述,不同的固体具有不同的光学性质。

当平面电磁波在有吸收的介质中传播时,遵从Maxwell 方程组tH E ∂∂-=⨯∇ρρμ(3-1) tE E H ∂∂+=⨯∇ρρρεσ(3-2) 0=•∇H ρ(3-3) 0=•∇E ρ(3-4)其电场和磁场分量满足下面的方程0222=∂∂-∂∂-∇t Et E E ρρρεμσμ(3-5) 0222=∂∂-∂∂-∇t Ht H H ρρρεμσμ(3-6)其中,σ为介质电导率(conductivity ),ε和μ分别为介电常数(dielectric constant )和磁导率(permeability ),也有人称ε为介电函数(dielectric function )。

波动方程的解可以表达成简谐平面波之和,即用傅立叶变换可将任意波用正弦波的叠加来表达。

简谐平面波的形式为⎪⎭⎫ ⎝⎛-=c z n t i e E x E ~00ωρρ(3-7) ⎪⎭⎫⎝⎛-=c z n t i e H y H ~00ωρρ(3-8)其中,0x ρ和0y ρ分别是在x 方向上与在y 方向上的单位矢量,ω为波的圆频率,c 是光速,n~称为传播介质的复折射率 ik n n-=~ (3-9)n ,k 分别为折射率(refractive index )和消光系数(extinction coefficient )。

n 和k 实际上都是波长的函数。

光的强度I (x ,t )正比于电场分量的平方2),t x ,可以写成下面的形式x x cke I eI t x I αω--==020),( (3-10)式中λπωαkc k 42==是吸收系数。

吸收系数被定义为光波传播单位距离后能流通量的变化率。

(3-7)式代入(3-5)式可得nk i k n n 2~~222--==ε (3-11)ωπσ4)(22i k n --= (3-12)令复介电常数为i i εεε-=~ (3-13)则ωπσεε4222==-=nk k n i (3-14)介电常数的虚部可以写成)()()(ωαωωωεn ci =(3-15)在实验上,一旦测量了折射率和吸收系数谱,就可以根据上式得到)(ωεi ,再根据K-K 关系[12-13]就可以求出)(ωε⎰⎰∞∞--=-+=0'22''10'22''2')(2)()(21)(ωωωωεπωωεωωωωεωπωεd p d p i (3-16)从式(3-7)和式(3-8)可看出,光波的解的表达式中只包含两个物性参数n 和k ,即是说,描述固体的光学参量可以有许多个,但是独立的光学参量只有两个。

当物性参数n 和k 已知后,固体的光学性质便确定下来。

通常,描述固体的光学性质,除了n 和k 这一对物理量以外,还可以采用其它几组独立物理量中任意一对。

常用的是复介电常数ε~和复电导率σ~, ωσεεεεi i i-=-=~ (3-17) ωεσσσσi i i +=+=~(3-18)所有这些参量都是频率(或波长)的函数。

表3-1总结了各种复光学常数及其分量的表达。

表3-1各种复光学常数及其分量的表达名称表达式 无耗分量耗能分量复折射率 ik n N -= N K复介电常数 i i εεε-=~ εει 复电导率i σσσ+=~ σισ两个独立的光学参量之间并不完全独立,它们之间由K-K 关系互相联系。

在实际应用中K-K 关系常常用来作为光学常数的判据。

3.2.2 电介质的Lorentz 模型和金属的Drude 模型[2]前面说过,固体的基本光学性质可用光学常数这类物理量来加以描述。

光学常数一般是波长的函数,不同材料具有不同的光学常数谱。

Lroentz 和Drude 用经典模型分别导出了电介质和金属的光学常数谱,这对于了解这类相关材料的基本光学性质是非常有意义的。

下面对这两个模型作一简单介绍。

3.2.2.1 电介质的Lorentz 模型Lorentz 用一个简单模型导出了电介质的光学常数。

他把固体看作许多振子的组合,这些振子在光的电磁辐射的作用下受迫振动。

假定电子束缚在其平衡位置附近来回振动,它受到三种力的作用。

一是回复力,正比于电子离开平衡位置的距离x ,可写成x m 20)2(πυ-;二是阻尼力,正比于电子速度d x /d t ,可写成dt dx m /2Λ-π;三是电磁辐射的电场作用力,正比于电场强度振幅E 0,可写成)2ex p(0t i eE πυ-。

于是,运动方程为)2ex p()2(202022t i eE x m dt dxm dtx d m πυπυπ-=+Λ+ (3-19) 这里假定了电磁波是在x 方向上偏振的。

式中m 是电子质量,Λ是阻尼系数,0υ与回复力有关,υ是电磁波的频率。

由式(3-19)的解得到电介质的介电常数谱222220222222202200220)(2)(41υυυυπσυυυυυεπεεΛ+-Λ⨯=Λ+--⨯+=m Ne m Ne (3-20)式中εε叫做相对介电常数,σ叫做电导率。

由Lorentz 经典模型计算出的电介质光学常数谱(n 和k 谱)的形状见图3-1。

谱图可分为四个区域:透明区I 、吸收区II 、金属反射区III 和透明区IV 。

图3-1 Lorentz 模型计算出的n 与k 谱3.2.2.2 金属的Drude 模型Drude 把金属或者导体中的电子看作自由电子,但仍受到正比于其速度的阻尼力的作用。

这样,令Lorentz 模型中的回复力等于零,即令式(3-19)中的00=υ,便可得出Drude 自由电子模型的运动方程)2ex p(2022t i eE dt dxm dtx d m πυπ-=Λ+ (3-21) 式中符号的意义与式(3-19)中的相同。

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