离子束增强沉积

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离子束增强沉积制备Al、Al-Y薄膜改善304不锈钢抗氧化性能的研究

离子束增强沉积制备Al、Al-Y薄膜改善304不锈钢抗氧化
性能的研究
李化龙;黄元伟;张允书;柳襄怀
【期刊名称】《应用科学学报》
【年(卷),期】1994(000)003
【摘要】无
【总页数】9页(P209-217)
【作者】李化龙;黄元伟;张允书;柳襄怀
【作者单位】无
【正文语种】中文
【相关文献】
1.离子束增强沉积法制备Mo2N和Mo2-xTixN薄膜及其结构与性能研究 [J], 刘邦治;李国卿;牟宗信;张家良;崔岩;黄宁表;何浩培
2.离子束增强沉积制备TiB2薄膜及其性能研究 [J], 况园珠;白新德
3.离子束增强沉积Si、Si-Y薄膜提高304不锈钢抗氧化性的研究 [J], 李化龙;黄元伟;柳襄怀
4.离子束增强沉积Si，Al，Y复合薄膜对304不锈钢抗氧化性的影响 [J], 李化龙;黄元伟;柳襄怀;张允书
5.离子束增强沉积制备 Cr-N 薄膜及其摩擦学性能研究 [J], 唐宾;朱晓东;刘道新;徐可为;杨生荣
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用离子束增强沉积法制备In-N共掺杂ZnO薄膜

【ｂｔｃＰｌｒｔｌｅｉｉｉｆｍ．ｐｄｉ．（Ｚ）ｅｒａｄｎＳａｄＳ２ｉｕｓａｓＡｓａｔｏｃｓｌｎｏｄｔｎｌｓｏｏｅｔＩＮＩＯｗｒｐｅｒｉｎｉ／ｂｔｔｒ】ｙｖａｉｚｃｘｅｈｎｉｅｄｗｈｎＮｅｐｅｏＯＳｓｒｅ
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离子束沉积

离子束沉积离子束沉积技术是一种利用高能量离子束对目标表面进行沉积技术。

这项技术可用于形成薄膜、涂层、晶体等多种形式的材料。

离子束沉积技术可以实现准确、快速和低成本的产品制造。

离子束沉积具有很高的精度和质量可靠性，因此在很多行业得到了广泛应用。

离子束沉积技术的基本原理是将高能量的离子束投射到目标表面上，离子束投射的过程中，离子束会带电离子，电离子带有一定量的能量，电离子中的能量会转化为目标表面的晶体结构，从而形成表面层。

离子束沉积技术可用于直接在目标表面上制造新的结构，可以实现精细的调节和细化知觉，有利于产品精度的提高。

离子束沉积技术有许多优点，其中首先要指出的是精度高、质量可靠、产品性能稳定可靠。

离子束沉积技术可用于微细加工、精细结构的制造、无损测试、复杂三维结构的制造等。

其次，离子束沉积技术所采用的离子投射方式，耗电量少，可以节约大量的能源，也有利于环境的保护。

最后，离子束沉积技术可以避免热情况下产品结构的变形，制造过程中没有大量的有害气体产生，安全性更高。

离子束沉积技术已经在航空航天、电子电器、光电、医疗器械等多个领域得到了广泛应用。

在航空航天领域，离子束沉积技术可用于制造航空航天器的结构件，如导弹外壳、卫星外壳、发动机叶片等，可以大大降低重量和减少摩擦，从而提升航空航天器的性能。

在电子电器领域，离子束沉积技术可以快速地生产出特殊电子元件，具有高精度、高可靠性以及耐高温和耐冲击等特点，可用于制造汽车、工业控制器、太阳能电池等电子元件。

此外，离子束技术也可用于制造高质量的医疗器械，如胸管、肝管等，可有效改善人类的健康水平。

综上所述，离子束沉积技术在多个行业得到了广泛应用。

离子束沉积技术具有准确、快速和低成本的特性，可以有效改善产品的精度、质量和可靠性。

离子束辅助沉积二氧化硅

离子束辅助沉积二氧化硅1. 简介离子束辅助沉积（Ion Beam Assisted Deposition，IBAD）是一种常用的表面工程技术，用于在材料表面形成薄膜。

其中，离子束辅助沉积二氧化硅（SiO2）是一种常见的应用。

本文将介绍离子束辅助沉积二氧化硅的原理、过程、应用以及相关的研究进展。

2. 原理离子束辅助沉积二氧化硅的原理基于离子束能量沉积和化学反应。

具体步骤如下：1.基底清洁：首先，需要对基底进行清洁处理，以去除表面的杂质和污染物。

2.离子束轰击：接下来，通过离子束轰击的方式，将高能离子束瞄准到基底表面。

离子束的能量会使基底表面发生变化，并激发出一系列的物理和化学反应。

3.化学反应：在离子束轰击的同时，需要在基底表面引入二氧化硅的前体分子，如硅烷（SiH4）或二氧化硅（SiO2）气体。

离子束轰击会激发出化学反应，使前体分子在基底表面发生聚合反应，形成二氧化硅的薄膜。

4.控制薄膜厚度：通过控制离子束轰击时间和前体分子的供应速率，可以控制薄膜的厚度。

较长的轰击时间和较高的前体分子供应速率会导致较厚的薄膜。

5.后处理：最后，需要对沉积的二氧化硅薄膜进行后处理，如热退火或等离子体处理，以改善薄膜的性能和质量。

3. 过程离子束辅助沉积二氧化硅的过程可以分为以下几个步骤：1.基底准备：首先，需要对基底进行清洁处理，以去除表面的杂质和污染物。

常用的方法包括超声清洗、溶剂清洗和等离子体清洗。

2.离子束源：离子束源是产生高能离子束的关键设备。

常用的离子束源包括离子束溅射（Ion Beam Sputtering，IBS）和离子束辅助沉积（Ion BeamAssisted Deposition，IBAD）等。

3.离子束轰击：将高能离子束瞄准到基底表面，以使基底表面发生变化。

离子束的能量和轰击角度可以通过调节离子束源的参数进行控制。

4.前体分子供应：在离子束轰击的同时，需要在基底表面引入二氧化硅的前体分子，如硅烷（SiH4）或二氧化硅（SiO2）气体。

离子束增强沉积TiN薄膜的耐蚀性

第３４卷第６期来自大连交
通
大
学
学报
Ｖｏ１．３４Ｎｏ．６Ｄｅｃ．２０１３
２０１３年１２月
ＪＯＵＲＮＡＬＯＦＤＡＬＩＡＮＪＩＡＯＴＯＮＧＵＮＩＶＥＲＳＩＴＹ
文章编号：１６７３ — ９５９０（２０１３）０６ — ００７９ — ０４
离子束增强沉积ＴｉＮ薄膜的耐蚀性
朱雪梅，马永乐，张琳
（大连交通大学材料科学－９工程学院，辽宁大连１１６０２８）米
摘
要：采用不同离子束入射方向的离子束增强沉积技术（ＩＢＥＤ）在Ｗ１８Ｃｒ４Ｖ高速钢表面沉积ＴｉＮ薄
Ｅ－ｍａｉｌ：ｘｍｚｈｕ＠ｄｊｔｕ．ｅｄｕ．ｅｎ．
８０
大连交通大学学报
第３４卷
电化学腐蚀实验采用ＥＧ＆ＧＰＡＲ２２７３电化学工作站，在０．５ｍｏｌ／ＬＨ２ＳＯ４和３％ＮａＣ１溶液中室温下进行，采用典型的三电极体系，参比电极
采用ＸＲＤ一６０００型ｘ射线衍射分析仪分析改性前后合金的相结构．ｘ射线种类为ｃｕＫ，波
长为１．５４０６ｏ３，，电压为４０．０ｋＶ，电流为３０．０
１实验方法
领域中具有重要的应用价值和广阔的应用前景。］．但ＴｉＮ薄膜的耐蚀性受到薄膜显微结构的显著影响，不同金属材料表面上物理气相沉积

DLC薄膜制备和检测技术综述

文献综述DLC薄膜的制备和检测技术综述学院光电学院学科光学工程学号1101210021姓名薛俊2013年6月18日前言20世纪70年代初,Aisenberg[1]和E.Gspenc[2]分别次采用离子束沉积技术(IBD)和碳气相离子束增强沉积(IBED)技术制备了绝缘碳膜，命名该膜为DLC[1]。

20世纪70年代末，前苏联研制的DLC膜的硬度已经达到15000(维氏硬度)[3]。

DLC薄膜具有生产工艺简单，性能优良等特点。

20世纪80年代中期，在世界范围内掀起了研究、制备、开发和应用DLC膜的热潮。

厚度为100μm、表面粗糙度<10nm的DLC膜己经被美国通用原子公司（GA）利用PECVD制造出来[3]。

我国在制备DLC膜研究、应用方面也去得了长足的进展，不过与发达国家相比，差距还是存在的。

现在DLC膜还有很多问题存在争议或尚未解决。

这也问题严重制约了DLC膜的研究发展，现在，随着DLC制备技术的日益完善以及社会对DLC膜的需求量的增加，DLC 膜的应用研究价值也日益凸显。

1 DLC薄膜概况1971年德国的Aisenberg 采用碳离子束首次制备出了具有金刚石特征的非晶态碳膜,由于所制备的薄膜具有与金刚石相似的优异性能,Aisenberg于1973年首次把它称之为类金刚石(DLC)膜[1]。

DLC膜有着和金刚石几乎一样的性质,如高硬度、耐磨损、高表面光洁度、高电阻率、优良的场发射性能,高透光率及化学惰性等,它的产品广泛应用在机械、电子、光学和生物医学等各个领域。

尤其在光学领域，该技术在光学薄膜制造及其应用方面, 突破了大面积、高均匀性、高透射比、抗激光兼容的红外减反射膜镀制关键技术, 并在军事和民用上得以应用。

DLC膜的沉积温度低、表面平滑,具有比金刚石膜更高的性价比,且在相当广泛的领域内可以代替金刚石膜,所以自80年代以来一直是研究的热点。

碳是类金刚石膜的主要成分。

碳元素有3种同素异形体，即金刚石、石墨和各种无定形碳。

离子束辅助沉积原理

离子束辅助沉积原理宝子们！今天咱们来唠唠一个超酷的技术——离子束辅助沉积。

这玩意儿听起来是不是就很有科技感呢？咱先说说啥是沉积哈。

想象一下，你在一个超级微观的世界里，有一些小颗粒，它们就像一个个小小的建筑材料，慢慢地堆积在一个表面上，就像盖房子一样，一块砖一块砖地垒起来，这就是沉积啦。

那普通的沉积就有点像慢悠悠地手工堆东西，效率有时候不太高，而且堆出来的东西可能不是那么完美。

这时候，离子束辅助沉积就闪亮登场啦！离子束啊，就像是一群超级有活力的小助手。

这些小助手可是带电的哦，就像一群充满能量的小精灵。

它们是怎么来的呢？其实是通过一些特殊的设备，把原子或者分子变成离子，然后加速，让它们形成一束离子流。

这些离子束冲向要沉积的表面的时候，那可就热闹啦。

就好比一群热情的小工冲向工地一样。

它们和那些要沉积的材料小颗粒会发生各种各样好玩的互动。

比如说，离子束的能量可以把要沉积的材料原子或者分子打得更“听话”。

原本那些原子可能是懒洋洋地，在那里晃悠着准备沉积，离子束一冲过来，就像给它们打了一针兴奋剂，让它们变得更活跃，排列得也更整齐有序了。

而且哦，离子束还像一个严格的监工。

在沉积的过程中，如果有一些原子或者分子没有按照理想的方式堆积，离子束就会把它们“推”到正确的位置。

这就好比盖房子的时候，工人要是把砖头放歪了，监工就会把砖头扶正一样。

这样沉积出来的薄膜或者涂层，质量就特别好。

再说说这个离子束辅助沉积在材料表面改性方面的厉害之处吧。

你想啊，材料的表面就像人的脸一样，要是能给它做个超级棒的“美容”，那这个材料就会变得更厉害。

离子束辅助沉积就可以在材料表面形成一层特殊的涂层。

这层涂层就像是给材料穿上了一件超级防护服。

比如说，这个涂层可以让材料变得更耐磨，就像给材料的表面穿上了一层厚厚的铠甲，怎么磨都不容易坏。

又或者可以让材料变得更耐腐蚀，就像给材料表面打了一把伞，酸雨啊、化学腐蚀啊，都不怕。

还有哦，离子束辅助沉积在光学材料上的应用也超有趣。

离子束增强沉积Ni、Ti纳米金属薄膜的表面形貌与摩擦特性研究

ｉｏｒｐｃｐｏｅｙ１１ｒｃｉｎｆｒｅｆｎｏｔｒｍｅａｏｔｇｎｒａｅｗｔｏｄｉｃｅｉｇＴｈｒｘｓｓａｔｒｓｏｄ．ｓｔｏｉｒｐｒ．１ｅｆｔｏｏｃｓｏａｍｅｅｔｌｃａｉｓｉｃｅｈｌａｎｒａｎ．ｅｅｅｉｔｈｅｈｌｔｉｎｎｓｉｓ
ｍｔｄ（ＢＤ），ＩｍｒｈｌｙｏｅｃａｎａｂｅｖｄｂｔｍｃｏｅｍｃｓｏｙａｄｆｃａａｔｓｃｆｉｅｏＩＥ．ｅｏｏｏｆｈｏｔｇｗｓｓｅｙａｉｆｒｒｃｐａｔｃｒｃｒｔｓｈｎｐｇｔｉｓｏｒｏｃｉｏｎｒａｈｌｅｉｏＴｉ
ｎｏｔｎｗｅｅａｌｚｄｗｉｈｆａｔｌｔｅｒ．ｎ・ｒｔｎｐｏｅｔｆｍｅａｃａｎｗｅｅｔｓｅａｄＮｉｃａｉｇｒａｙｅｔｒｃａｈｏｙＮａｏｆｃｏｒｐｒｉｓｏｔｏｔｇｒｅｔｄａｄｔｅｅｅｔｏｓｎｉｉｅｌｉｓｎｈｆｃｆ
ｍｏｅｎｒｃａｈｏｙ，ｈｅｕｔｉｅｓｍｌｅｄｎｙｗｔｘｅｍｅｔｌｒｓｌ．ｄｌａｄｆａｔｔｅｒｔｅｒｓｌｓｇｖｉａｔｎｅｃｈｅｐｒｎａｅｕｔｌｉｒｉｉｓＫｅｗｏｄ：ａｏｔｒｃａｉｇ；ｏｅｎｎｃｄｄｐｓｔｏｓｒａｅｍｏｐｏｏｙ；ｒｃａｈａｔｒｚｔｎ；ｒｔａｏｄ；ｙｒｓｎｍｅｅｏｔｎｉｎｂａｅｈａｅｅｏｉｉｎ；ｕｆｃｒｈｌｇｆａｔｃａｃｅａｉｃｉｌｌａｎｍｌｒｉｏｉｃ

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《离子束增强沉积》
离子束增强沉积是利用电子加速器产生的高能量离子束轰击固体表面,使材料中原有的化学键发生断裂或者改变其结构而形成薄膜。

通常用于制备纳米晶、非晶和准晶薄膜。

在一定条件下可以控制形成薄膜的厚度、成分、形貌等特性,获得所需要的各种功能薄膜。

离子束增强沉积是利用电子加速器产生的高能量离子束轰击固体表面,使材料中原有的化学键发生断裂或者改变其结构而形成薄膜。

通常用于制备纳米晶、非晶和准晶薄膜。

在一定条件下可以控制形成薄膜的厚度、成分、形貌等特性,获得所需要的各种功能薄膜。

由于这类技术具有较大优势:①制备过程简单,对环境无污染;②易于实现多层次薄膜的制备;③可以同时获得纳米级厚度和形貌;④工艺温度低,能耗少;⑤不受溶剂的影响,易于进行精密操作;⑥沉积速率快且均匀,沉积速率比化学气相沉积法高10～100倍;⑦设备费用低廉,因此在微电子、光电子、信息显示、真空镀膜等领域有着广泛应用前景。