国内外超净高纯氢氟酸产能调研
2023年电子级氢氟酸行业市场分析现状

2023年电子级氢氟酸行业市场分析现状电子级氢氟酸是一种重要的化工原料,广泛应用于半导体、液晶显示、光电子、光通信、太阳能电池等高技术领域。
本文将对电子级氢氟酸行业市场分析现状进行详细介绍。
一、市场规模目前,全球电子级氢氟酸市场规模庞大,2019年全球电子级氢氟酸的总产量已经超过了70万吨,预计到2025年将达到100万吨。
其中,亚洲市场占据了主导地位,中国、日本、韩国等国家和地区是全球电子级氢氟酸的主要生产和消费市场。
二、市场需求1. 半导体行业:半导体器件是电子级氢氟酸最重要的应用领域之一。
目前,全球半导体市场需求持续增长,尤其是移动通信、物联网、人工智能等新兴领域的发展推动了对电子级氢氟酸的需求增加。
2. 液晶显示行业:液晶显示器是电子级氢氟酸的重要应用领域之一。
现代电子产品如手机、电视、电脑等都广泛采用了液晶显示技术,这使得对电子级氢氟酸的需求逐渐增加。
3. 光电子行业:光通信、光存储、激光器等光电子器件都离不开电子级氢氟酸的应用。
随着光通信技术的发展和5G网络的普及,光电子行业对电子级氢氟酸的需求也将继续增长。
4. 太阳能电池行业:随着环境保护意识的增强和可再生能源的推广,太阳能光伏发电产业迅速发展。
在太阳能电池制造过程中,电子级氢氟酸用于表面处理和刻蚀等工艺,因此太阳能电池行业对电子级氢氟酸的需求也在不断增加。
三、市场竞争格局目前,全球电子级氢氟酸市场竞争激烈,市场主要由中国和日本等亚洲国家和地区的企业主导。
其中,中国的企业主要集中在江苏、山东、湖南等地。
全球知名的电子级氢氟酸生产企业有中国中材国际集团、丰业化学、日本福岛化学、美国Solvay等。
四、市场发展趋势1. 技术升级:在电子行业对氢氟酸纯度的要求越来越高的背景下,电子级氢氟酸的纯度和质量将成为一个重要的竞争优势。
未来,企业将不断进行技术改进和创新,提高产品的质量和性能。
2. 环保要求:随着环保意识的增强,全球各国对化工行业的环保要求也在不断提高。
国内外超净高纯氢氟酸产能调研

表1 国内外超净高纯电子级氢氟酸产能调研表(2012-7)国内外高纯氢氟酸产能大于18.49万吨/年。
其中国外大于4.2万吨/年。
其中中国大陆高纯氢氟酸产能大于12.52万吨/年,包括已建大于2.72万吨/年,在建约5.2万吨/年,拟建约5.1万吨/年。
其中中国台湾地区大于1.77万吨/年。
高纯工业品氢氟酸是微电子技术加工制作过程中不可缺少的关键性化学品之一,主要用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)芯片的清洗和腐蚀,是上述各行业制作过程中的关键性基础化工材料之一。
它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有十分重要的影响。
它基于微电子技术发展而发展,同时又制约微电子技术发展。
近年来,全球电子化学品市场需求增长速度很快,近两年保持10%以上的增速,因此高纯工业品氢氟酸的发展前景十分广阔。
我国电子化学品产业通过近几年技术改造和结构调整,已经具备一定基础,氢氟酸在国内已有几家大型企业在生产,产品级别主要是UP级、EL级和UP-S级,产品主要出口美国、德国、日本和台湾等地。
对几个生产企业的产品质量进行调查,发现产品质量存在很大差别,良莠不齐的产品质量和价格的恶性竞争严重影响了该产品的发展,因此当前急需制定高纯工业品氢氟酸国家标准,根据电子行业用户的实际要求确定适宜的质量要求。
新标准的出台对推动企业技术创新,规范产品质量,指导企业生产和促进出口具有十分重要的意义。
国内目前未有统一的电子氢氟酸标准。
巨化集团公司正在(2011-2012)建议制订《高纯工业品氢氟酸》行业标准,范围和主要技术内容包括:规定了高纯工业品氢氟酸的分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、标签、包装、运输、贮存和安全。
适用于高纯工业品氢氟酸。
该产品主要用于电子行业的清洗和腐蚀。
国内外情况简要说明:1. 国外已生产多年,且技术成熟,品质较高。
我国首套生产线在2009年7月建成,目前国内有一定生产规模的企业有5家左右。
高纯氢氟酸的介绍与生产

高纯氢氟酸的介绍与生产一、概述高纯氢氟酸英文名 hydrofluoric acid ,分子式 HF ,分子量 20.01。
为无色透明液体,相对密度 1.15~1.18,沸点 112.2℃,在空气中发烟,有刺激性气味,剧毒。
能与一般金属、金属氧化物以及氢氧化物发生反应,生成各种盐类。
腐蚀性极强,能侵蚀玻璃和硅酸盐而生成气态的四氟化硅。
易溶于水、醇,难溶于其他有机溶剂。
高纯氢氟酸为强酸性清洗、腐蚀剂,可与硝酸、冰醋酸、双氧水及氢氧化铵等配置使用,主要应用于集成电路(IC )和超大规模集成电路(VLSI )芯片的清洗和腐蚀,是微电子行业制作过程中的关键性基础化工材料之一,还可用作分析试剂和制备高纯度的含氟化学品。
目前,在国内基本上是作为蚀刻剂和清洗剂用于微电子行业,其它方面用量较少。
二、高纯氢氟酸的分类国际SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International )标准化组织根据高纯试剂在世界范围内的实际发展情况,按品种进行分类,每个品种归并为一个指导性的标准,其中包括多个用于不同工艺技术的等级,具体见下表1。
表1 SEMI 国际标准等级国内有的高纯试剂生产企业拥有自己的企业标准,其中,BV 系列标准比较常见,该标准共分为七个等级。
如:北京化学试剂用的就是BV 系列标准,具体见下表2。
表2 国内高纯试剂常用规格品级尘埃粒径尘埃粒子数各金属杂质含量适用于半导体ICSEMI 标准C1 (Grade1)C7 (Grade2)C8 (Grade3)C12 (Grade4)(Grade5)C11(VLSIGrade)金属杂质≤1ppm ≤10 ppb ≤1 ppb ≤0.1 ppb ≤0.01 ppb≤50 ppb 控制粒径μm ≥1.0≥0.5≥0.5≤0.2/≥0.5颗粒,个/mL≤25≤25≤5//≤250适应范围适用于>1.2μmIC 技术的制作适用于0.8-1.2μmIC 技术的制作适用于0.2-0.6μmIC 技术的制作适用于0.09-0.2μmIC 技术的制作适用于<0.09μmIC 技术的制作适用于0.8-1.2μmIC 技术的制作(非金属杂质含量)低尘埃5~10μm>2700个/100ml——≥5CMOS级≥5μm≤2700个/100ml≤500ppb(<1ppb)≥3μm(适合中小规模集成电路5μm技术用)BV—Ⅰ级≥2μm≤300个/100ml1~n×10ppb >2μm(属于标准电子级)(相当于ELSS级)BV—Ⅱ级≥2μm≤200个/100ml1~n×10ppb ≥1.2μm(属于标准电子级EL级) (相当于ELSSs级)BV—Ⅲ级≥0.5μm≤25个/ml≤10ppb 0.8~1.2μm(相当于SEMI-C7)(属于超大规模集成电路级VLSI或ULSI级)BV—Ⅳ级≥0.5μm≤5个/ml≤1ppb0.2~0.6μm BV—Ⅴ级≥0.2μm TBD≤0.1ppb0.09~0.2μm 目前,因各微电子生产企业对高纯氢氟酸要求的标准不同,可将其划分为四个档次:①低档产品,用于>1.2μmIC工艺技术的制作;②中低档产品,适用于0.8~1.2μmIC工艺技术的制作;③中高档产品,适用于0.2~0.6μmIC工艺技术的制作;④高档产品,适用于0.09~0.2μm和<0.09μm IC工艺技术的制作。
氢氟酸市场供需结构、成本价格及工艺流程

-10%
0
0%
50
100
10%
200
20% 150
250 30%
40%
300
50%
350
Yoy
产量
图表:集成电路出货量(亿片)
60% 30
40% 20
20% 10
0% 0 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 12
2017-06
2017-08 2017-10 2017-12 2018-02 2018-04 2018-06 2018-08 2018-10 2018-12 2019-02 2019-04 2019-06 2019-08 2019-10 2019-12 2020-02 2020-04 2020-06 2020-08 2020-10 2020-12 2021-02 2021-04
1G、4G、16G
平板显示、LED、半导体集成电路 微米集成电路
1992
2001
64G
半导体集成 电路12寸晶 圆 2010
7
氢氟酸:当前产能充足
总产能来看,2015年开始国内进行了一轮产能梳理,部分低端产能出清,2017-2020年氢氟酸整体产能稳健向上, 但由于下游需求较为平缓,2018-2020年整体开工率呈下滑趋势。
车用冷媒是制冷剂重要应用之一,汽车空调制冷剂易泄露、排放量大,目前主要以第三代的R123a为主。
图表:制冷剂分类
典型产品
R11
二代制冷剂
R12
R22
R134a
三代制冷剂
Байду номын сангаас
R125 R32
R410a
R1234yf
四代制冷剂
R1234ze
2024年光伏级氢氟酸市场发展现状

2024年光伏级氢氟酸市场发展现状前言光伏级氢氟酸作为用于光伏行业的重要材料,具有广泛的应用前景和市场需求。
本文将详细介绍光伏级氢氟酸的市场发展现状。
1. 光伏级氢氟酸的概述光伏级氢氟酸是一种重要的化工原料,主要用于制造光伏组件中的氟化物涂层。
氟化物涂层可以提高光伏组件的光电转化效率,并增强其耐候性和抗腐蚀性能。
2. 光伏级氢氟酸市场规模光伏级氢氟酸市场在过去几年持续保持增长态势。
据市场研究数据显示,2019年光伏级氢氟酸市场规模达到XX亿美元,预计未来几年将保持稳定增长。
3. 光伏级氢氟酸市场发展趋势3.1 技术创新推动市场发展随着光伏技术的不断进步,光伏组件对氟化物涂层的要求也越来越高。
新型的光伏级氢氟酸产品不仅能提高光伏组件的光电转化效率,还具备更好的耐候性和抗腐蚀性能。
因此,技术创新将成为推动光伏级氢氟酸市场发展的关键。
3.2 环境保护要求推动可持续发展在当前全球环境保护的背景下,光伏级氢氟酸市场也面临着转型升级的压力。
越来越多的光伏企业开始重视环境保护,追求可持续发展。
因此,对绿色、环保型光伏级氢氟酸产品的需求将逐渐增加。
3.3 新兴市场潜力巨大除了传统的发达国家市场,新兴市场对光伏级氢氟酸的需求也在不断增长。
随着全球经济的快速发展,光伏行业在一些新兴市场的发展前景非常广阔,这将为光伏级氢氟酸的市场发展提供更多机遇。
4. 光伏级氢氟酸市场面临的挑战4.1 市场竞争加剧光伏级氢氟酸市场竞争激烈,多家生产企业加大了产能投入,导致市场供给过剩。
价格战和低成本产品的竞争加剧,对市场格局产生了一定的冲击。
4.2 原材料价格波动光伏级氢氟酸的生产原料主要是氢氟酸,而氢氟酸价格的波动直接影响到光伏级氢氟酸的成本和市场价格。
因此,原材料价格波动是光伏级氢氟酸市场面临的一个重要挑战。
5. 光伏级氢氟酸市场发展前景尽管光伏级氢氟酸市场面临一些挑战,但随着光伏行业的快速发展和市场需求的增加,光伏级氢氟酸市场仍然具有广阔的发展前景。
超净高纯化学试剂(讲一)

超净高纯试剂特点
超净高纯试剂具有品种多、用量大、技术要求高、强腐蚀 性和储存有效期短等特点,它基于微电子技术的发展而产 生,随着微电子技术的发展而同步或超前发展,同时它又 制约着微电子技术的发展。因此,超净高纯试剂的研究开 发及应用必须与微电子技术的发展及应用紧密地结合才具 有现实意义。
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超净高纯试剂用途
超净高纯试剂的主要用途: (1)用于硅圆片工艺加工过程中的硅片清洗。硅圆片在 进行工艺加工过程中,常常会被不同的杂质所沾污,因为 各种沾污可引起IC芯片产率下降50%左右,为了获得高质 量、高产率的集成电路芯片,必须去除硅圆片表面各类沾 污物。 (2)用于芯片制造中涂胶前的湿法清洗和光刻过程中的 湿法蚀刻及最终的去胶。
挖金人的成长之路一挖金人的成长之路一了解您所推销的产品超净高纯化学试剂了解您所推销的产品超净高纯化学试剂讲解人华小龙超净高纯试剂特点公司所生产的产品及级别划分情况超净高纯试剂的应用公司产品各项重要指标的检测手段无机纯度有机纯度洁净度超净高纯化学试剂简介超净高纯化学试剂概述超净高纯试剂用途超净高纯试剂简介超净高纯试剂简介超净高纯试剂ultracleanhighpurityreagents在国际上称为工艺化学品processchemicals是集成电路ic和超大规模集成电路vlsi制作过程中的关键性基础化工材料之一主要用于芯片的清洗和腐蚀另外还用于硅圆片表面的清洗
电子级3级(EL-Ⅲ)其金属杂质含量为1--10 PPb,高于市场供应的摩斯级 (MOS)1个数量级,达到SEMI C7标准。 电子级4级(EL-Ⅳ)其金属杂质含量为0.1--1PPb,高于市场供应的摩斯级 (MOS)2个数量级,达到SEMI C8标准。 返回目录
年产1.5万吨电子级氢氟酸项目可行性研究报告(模板)

年产1.5万吨电子级氢氟酸项目可行性研究报告xxx(集团)有限公司第一章项目概论一、项目概况(一)项目名称年产1.5万吨电子级氢氟酸项目(二)项目选址某产业基地项目建设方案力求在满足项目产品生产工艺、消防安全、环境保护卫生等要求的前提下尽量合并建筑;充分利用自然空间,坚决贯彻执行“十分珍惜和合理利用土地”的基本国策,因地制宜合理布置。
(三)项目用地规模项目总用地面积37565.44平方米(折合约56.32亩)。
(四)项目用地控制指标该工程规划建筑系数61.78%,建筑容积率1.36,建设区域绿化覆盖率5.53%,固定资产投资强度162.75万元/亩。
(五)土建工程指标项目净用地面积37565.44平方米,建筑物基底占地面积23207.93平方米,总建筑面积51089.00平方米,其中:规划建设主体工程30982.19平方米,项目规划绿化面积2825.61平方米。
(六)设备选型方案项目计划购置设备共计84台(套),设备购置费2954.79万元。
(七)节能分析1、项目年用电量975008.78千瓦时,折合119.83吨标准煤。
2、项目年总用水量17242.16立方米,折合1.47吨标准煤。
3、“年产1.5万吨电子级氢氟酸项目投资建设项目”,年用电量975008.78千瓦时,年总用水量17242.16立方米,项目年综合总耗能量(当量值)121.30吨标准煤/年。
达产年综合节能量42.62吨标准煤/年,项目总节能率21.09%,能源利用效果良好。
(八)环境保护项目符合某产业基地发展规划,符合某产业基地产业结构调整规划和国家的产业发展政策;对产生的各类污染物都采取了切实可行的治理措施,严格控制在国家规定的排放标准内,项目建设不会对区域生态环境产生明显的影响。
(九)项目总投资及资金构成项目预计总投资12745.01万元,其中:固定资产投资9166.08万元,占项目总投资的71.92%;流动资金3578.93万元,占项目总投资的28.08%。
中国湿电子化学品行业发展概况及市场需求分析

中国湿电子化学品行业发展概况及市场需求分析一、湿电子化学品种类多,辅助功能强,技术差异大湿电子化学品是指电子工业使用的专用化学品和化工材料,其主体成分纯度大于99.99%,杂质离子和微粒数符合严格要求的化学试剂。
按用途分类,主要分为通用性超净高纯试剂与功能性材料,其中通用湿电子化学品是指在集成电路、液晶显示器、太阳能电池、LED制造工艺中被大量使用的液体化学品,主要包括过氧化氢、氢氟酸、硫酸、磷酸、盐酸、硝酸、氢氧化铵等;功能湿电子化学品是指通过复配手段达到特殊功能、满足制造中特殊工艺需求的配方类或复配类化学品,主要包括显影液、剥离液、清洗液、刻蚀液等。
以上可以看出:电子化学品具有品种多、质量要求高、用量小、对环境洁净度要求苛刻、产品更新换代快、资金投入量大、产品附加值较高等特点,这些特点随着微细加工技术的发展越来愈明显。
《2020-2026年中国湿电子化学品行业市场需求潜力及未来前景规划报告》数据显示:从产品结构来看,超净高纯试剂需求量占比达88%,功能性材料占比达12%。
其中,超净高纯试剂中,占比较大的依次是,双氧水19%、电子硫酸18%、氢氟酸18%、硝酸16%以及磷酸10%;功能性材料中,占比较大的依次是极性溶液27%、半导体用显影液23%、半导体刻蚀液19%、面板用显影液13%、半导体剥离液10%以及缓冲刻蚀液8%。
超净高纯化学试剂制约半导体等微电子微细加工技术发展的瓶颈。
以半导体生产为例,大规模集成电路在其生产过程中有几十道工序,工艺制造过程中的空气、水、各种气体、化学试剂、工作环境、电磁环境噪声以及微振动、操作人员、使用的工具、器具等各种因素都可能带来污染物,污染物数量超过一定限度时,就会使集成电路产品发生表面擦伤、图形断线、短路、针孔、剥离等现象。
这会导致漏电、电特性异常等情况,轻者影响电路使用寿命,严重时可导致电路报废。
而这些污染物都需要相关的超净高纯试剂去除。
集成电路集成度越高,对高纯试剂颗粒控制的要求越严格。
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表1 国内外超净高纯电子级氢氟酸产能调研表(2012-7)
国内外高纯氢氟酸产能大于18.49万吨/年。
其中国外大于4.2万吨/年。
其中中国大陆高纯氢氟酸产能大于12.52万吨/年,包括已建大于2.72万吨/年,在建约5.2万吨/年,拟建约5.1万吨/年。
其中中国台湾地区大于1.77万吨/年。
高纯工业品氢氟酸是微电子技术加工制作过程中不可缺少的关键性化学品之一,主要用于太阳能光伏电池、液晶显示器件、
集成电路(IC)和超大规模集成电路(VLSI)芯片的清洗和腐蚀,是上述各行业制作过程中的关键性基础化工材料之一。
它的纯度和洁净度对集成电路的成品率、电性能及可靠性都有十分重要的影响。
它基于微电子技术发展而发展,同时又制约微电子技术发展。
近年来,全球电子化学品市场需求增长速度很快,近两年保持10%以上的增速,因此高纯工业品氢氟酸的发展前景十分广阔。
我国电子化学品产业通过近几年技术改造和结构调整,已经具备一定基础,氢氟酸在国内已有几家大型企业在生产,产品级别主要是UP级、EL级和UP-S级,产品主要出口美国、德国、日本和台湾等地。
对几个生产企业的产品质量进行调查,发现产品质量存在很大差别,良莠不齐的产品质量和价格的恶性竞争严重影响了该产品的发展,因此当前急需制定高纯工业品氢氟酸国家标准,根据电子行业用户的实际要求确定适宜的质量要求。
新标准的出台对推动企业技术创新,规范产品质量,指导企业生产和促进出口具有十分重要的意义。
国内目前未有统一的电子氢氟酸标准。
巨化集团公司正在(2011-2012)建议制订《高纯工业品氢氟酸》行业标准,范围和主要技术内容包括:规定了高纯工业品氢氟酸的分类、要求、试验方法、检验规则以及标志、标签、包装、运输、贮存和安全。
适用于高纯工业品氢氟酸。
该产品主要用于电子行业的清洗和腐蚀。
国内外情况简要说明:1. 国外已生产多年,且技术成熟,品质较高。
我国首套生产线在2009年7月建成,目前国内有一定生产规模的企业有5家左右。
产品质量基本达到UP级和EL级,最高能达到UP-S级,产品已得到国际市场的认可,目前出口美国、德国、日本和台湾等地。
该标准涉及产品的
品质很高,因此大部分分析项目以仪器检验为主,目前国内的一些生产企业已采用先进的仪器分析,达到国外的分析技术水平。
2. 目前查阅到的国外标准有国际半导体协会标准:SEMI C1.8-1990《氢氟酸标准》,SEMI C7.3-1990《二级氢氟酸标准》,SEMI C7.4-1990《49%二级氢氟酸标准》。
本标准与以上标准的采用程度为修改采用。
3. 目前国内没有相关标准。
4. 未涉及知识产权问题。
在2010年7月举行的Intersolar North America上,SEMI光伏标准委员会通过了八项光伏新标准,其中有PV11-1110——氢氟酸规范/光伏应用。
2012年度全国半导体设备和材料标准化技术委员会(TC203)会议,国家光伏质检中心将参与《光伏电池用电子级氢氟酸》等国家标准的编写。
国际SEMI(Semiconductor Equipment and Materials International)标准化组织根据高纯试剂在世界范围内的实际发展情况,按品种进行分类,每个品种归并为一个指导性的标准,其中包括多个用于不同工艺技术的等级,具体见下表2。
表2 SEMI国际标准等级
国内有的高纯试剂生产企业拥有自己的企业标准,其中,BV 系列标准比较常见,该标准共分为七个等级。
如:北京化学试剂用的就是BV系列标准,具体见下表3。
表3 国内高纯试剂常用规格
目前,因各微电子生产企业对高纯氢氟酸要求的标准不同,可将其划分为四个档次:①低档产品,用于>1.2μmIC工艺技术的制作;②中低档产品,适用于0.8~1.2μmIC工艺技术的制作;③中高档产品,适用于0.2~0.6μmIC工艺技术的制作;④高档产品,适用于0.09~0.2μm和<0.09μm IC工艺技术的制作。
产品等级一般分为4个档次。
目前国内能够生产SEMI C1~7级(包括MOS级及BV-Ⅰ~Ⅲ级)高纯氟化氢的企业近10家,而能生产SEMI C8~12级(大致相当于高于BV-Ⅲ级的产品)的极少。