第六章 半导体存储器

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第六章 习题及参考答案

第六章 习题及参考答案

第六章习题及参考答案
1. 某半导体存储器容量16K ×8位,可选芯片容量为4K×4/片。

地址总线A15-A0(低),双向数据线D7-D0(低),由R
W/线控制读写。

请设计并画出该存储器逻辑图,注明地址分配、片选逻辑式及片选信号极性。

参考答案:
(1) 芯片选取与存储空间分配:
共需8片“4K×4/片”的芯片,存储空间分配如下图所示:
(2).地址分配与片选逻辑如下图所示:
(3).存储器逻辑图如下图所示:
2. 某半导体存储器总容量15k ×8位,其中固化区8k ×8,选用EPROM芯片4K ×8/片,可随机读写区7K ×8,可选用SRAM芯片有:4K ×4/片、2K ×4/片、1K ×4/片。

地址总线A15∼A0,双向数据总线D7∼D0,由R
W/线控制读写,MREQ为低电平时允许存储器工作。

请设计并画出该存储器逻辑图,注明地址分配、片选逻辑式及片选信号极性。

参考答案:
(1)芯片选取与存储空间分配如下图所示:
(2)地址信号与片选逻辑如下图所示:
(4)存储器逻辑图如下图所示:。

《半导体存储器》课件

《半导体存储器》课件

嵌入式系统中的应用
半导体存储器广泛应用于 嵌入式系统,如智能家居、 汽车电子和工业控制。
计算机内存
半导体存储器是计算机主 存储器的重要组成部分, 用于临时存储数据和程序。
智能手机内存
手机内存运行应用程序和 存储数据,半导体存储器 提供了高速和可靠的数据 存取。
未来半导体存储器的发展方向
1 3D垂直存储器
《半导体存储器》PPT课 件
半导体存储器PPT课件大纲
什么是半导体存储器?
半导体存储器定义
半导体存储器是指使用半导体材料制造的存储器,它可以将数据存储在芯片内部的电子元件 中。
存储器的分类
常见的半导体存储器包括静态随机存取存储器(SRAM)、动态随机存取存储器(DRAM)和 闪存存储器。
常见的半导体存储器
通过增加垂直堆叠层数来增加存储容量,提高存储密度和性能。
2 非易失性存储器
开发更加稳定和可靠的非易失性存储器,提供更长久的数据存储和保护。
3 全新器件技术
研发新型的器件结构和材料,以满足不断增长的存储需求和更高的速度要求。
总结
半导体存储器的重要性
半导体存储器在现代计算和通信领域发挥着关键作用,对技术和社会的发展产生积极影响。
静态随机存取存储器 (SRAM)
SRAM具有快速读写速度和较 短的访问时间,适用于高性 能的应用。
动态随机存取存储器 (DRAM)
DRAM具有较大的存储容量和 较低的成本,广泛应用于个 人电脑和服务器。
闪存存储器
闪存存储器具有非易失性和 较高的耐用性,适用于便携 设备的存储需求。
半导体存储器的工作原理
1
SRAM的工作原理
SRAM使用触发器实现数据的存储和读取,具有较快的访问速度和数据保持能力。

存储器接口 (2)

存储器接口 (2)

地把双端口RAM看作是本地RAM一样进行访问,不 仅方便了软件设计,还大大地提高了系统的工作 效率。
二、半导体存储器的主要性能指标 主要从一下几方面考察: 1、存储容量 2、速度 3、功耗 4、集成度 5、可靠性
三、存储芯片的组成
1、地址译码器:接收来自CPU的N位地址信息, 经译码后产生2的N次方个地址选择信号对片内 寻址。
/CS=0,/OE=0时为读; /CS=0,/WE=0时为写。 /WE和/OE分别接CPU的/WR和/RD信号。
2、存储器与CPU数据总线的连接 根据存储器结构选择连接CPU的数据总线。
6.3 主存储器接口
主存储器的类型不同,则接口不同。以 EPROM、SRAM、DRAM为例分别介绍。
一、EPROM与CPU的接口 目前广泛使用的典型EPROM芯片有Intel公
(1)Tc=总容量/N×8/M=128K/8K×8/8 =16片
(2)Tc=128K/8K×16/8=32片
6.2存储器接口技术
一、存储器接口中应考虑的问题
1、存储器与CPU的时序配合
几个问题: (1)什么是总线周期?(2)什么 是时钟周期?(3)什么是T状态?(4)如何实 现二者之间的时序配合?(5)设计产生等待信 号电路应注意那些问题?(见图6-3)
2、如何完成寻址功能?
要完成寻址功能必须具备两种选择:
(1)片选:即首先要从众多存储器中,选中要 进行数据传输的某一存储器芯片,称为片选。一 般由接口电路中的端口译码产生。
(2)字选:然后从该芯片内选择出某一存储单 元,称为字选。由存储器内部的译码电路完成。
3、片选控制的译码方法
常用方法有:线选法、全译码法、部分译码法、 混合译码法等。
或列出地址分配表; ③根据地址分配图或分配表确定译码方法并画出

第6章半导体存储器

第6章半导体存储器

(a)
图6-8
(b)
3.快闪存储器(Flash Memory)
而且浮置栅一源区间的电容要比浮置栅一控制栅间的电容小得多 。 当控制栅和源极间加上电压时,大部分电压都将降在浮置栅与源极 之间的电容上。 快闪存储器的存储单元就是用这样一只单管组成的,如图6-8(b)所 示。
(a)
图6-8
(b)
半导体存储器的技术指标
存取容量:表示存储器存放二进制信息的多少。二值 信息以字的形式出现。一个字包含若干位。一个字的 位数称做字长。
例如,16位构成一个字,那么该字的字长为16位。一个存储 单元只能存放一个一位二值代码,即只能存一个0或者一个1。 这样,要存储字长为16的一个字,就需要16个存储单元。若 存储器能够存储1024个字,就得有1024×16个存储单元。 通常,用存储器的存储单元个数表示存储器的存储容量,即 存储容量表示存储器存放二进制信息的多少。存储容量应表 示为字数乘以位数。 例如,某存储器能存储1024个字 ,每个字4位,那它的存储容 量就为1024×4=4096,即该存储器有4096个存储单元。 存储器写入(存)或者读出(取)时,每次只能写入或读出 一个字。若字长为8位,每次必须选中8个存储单元。 选中哪些存储单元,由地址译码器的输出来决定。即由地址 码来决定。地址码的位数n与字数之间存在2n=字数的关系。 如果某存储器有十个地址输入端,那它就能存210=1024个字。
[例6-1]
[例6-1]
根据表6-2可以写出Y的表达式: Y7=∑(12,13,14,15) Y6=∑(8,9,10,11,14,15) Y5=∑(6,7,10,11,13,15) Y4=∑(4,5,7,9,11,12) Y3=∑(3,5,11,13) Y2=∑(2,6,10,14) Y1=0 Y0=∑(1,3,5,7,9,11,13,15 ) 根据上述表达式可画出ROM存储点阵如图6-9所示。

《半导体存储器》课件

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04
制造设备
用于将掺杂剂引入硅片。
用于在硅片上生长单晶层 。
掺杂设备 外延生长设备
用于切割硅片。
晶圆切割机
制造设备
光刻机
用于将电路图形转移到硅片上。
刻蚀机
用于刻蚀硅片表面。
镀膜与去胶设备
用于在硅片表面形成金属层或介质层,并去 除光刻胶。
测试与封装设备
用于对芯片进行电气性能测试和封装成最终 产品。
分类
根据存储方式,半导体存储器可分为随机存取存储器(RAM)和只读存储器( ROM)。
历史与发展
1 2 3
早期阶段
20世纪50年代,半导体存储器开始出现,以晶 体管为基础。
发展阶段
随着技术的进步,20世纪70年代出现了动态随 机存取存储器(DRAM)和静态随机存取存储器 (SRAM)。
当前状况
现代半导体存储器已经广泛应用于计算机、移动 设备、数据中心等领域。
物联网和边缘计算
在物联网和边缘计算领域应用半导体存储器,实现高 效的数据存储和传输。
CHAPTER
05
案例分析:不同类型半导体存 储器的应用场景
DRAM的应用场景
01
DRAM(动态随机存取存储器)是一种常用的半导体存储器,广泛应 用于计算机和服务器等领域。
02
由于其高速读写性能和低成本,DRAM被用作主内存,为CPU提供快 速的数据存取。
外延生长
在硅片上生长一层或多 层所需材料的单晶层。
掺杂
通过扩散或离子注入等 方法,将掺杂剂引入硅 片。
制造流程
01
光刻
利用光刻胶将电路图形转移到硅片 上。
镀膜与去胶
在硅片表面形成金属层或介质层, 并去除光刻胶。

第6章半导体存储器-PPT文档资料42页

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6.2.1 静态随机存储器
1.电路结构
SRAM主要由存储矩阵、地址译码器和读/写控制电路三部分 组成。
地 址 A0 ~ Ai 输
行 地 址 译


存储矩阵

/

I/O


列地址译码
Ai+1 ~ An 地址输入
CS R /W
SRAM结构示意图

地 址 A0 ~ Ai
地 址




说明:
存储矩阵

/
2.单管动态MOS存储单元电路
字选线
V CS
位线D
CO输出电容
(数据线)
单管动态MOS存储单元
构成:
由一个NMOS管和存储电容器CS构成, CO是位线上 的分布电容(CO>>CS)。 显然,采用单管存储单元的 DRAM,其容量可以做得更大。
工作原理:
字选线
写入信息时,字线为高电平,V导通,位 线D上的数据经过V存入CS。
2作所.,经存到历完的储成时速该间度操作
的最小时间间隔
存储器的存储速度可以用两个时间参数表示 : “存取时间”(Access Time) TA 和“存储周 期”(Memory Cycle)TMC ,存储周期TMC略大于存取时 间TA。
6.2随机存储器
随机存取存储器也称随机存储器或随机读/写存储器 (RANDOM - ACCESS MEMORY ),简称RAM。RAM工作 时可以随时从任何一个指定的地址写入(存入)或读出(取出)信息, 分为静态随机存取存储器 ( SRAM ) 和动态随机存取存储器 ( DRAM ) 。
32个存储单元的半导体存储器

半导体存储器

半导体存储器
Erasable PROM)
一、静态RAM
(一)六管静态存 储电路
Q7
Q8
图6-2 静态RAM存储单元电路
(二)静态RAM器件的组成
静态RAM器 件可分成三个部 分,分别是存储 单元阵列、地址 译码器和读/写控 制与数据驱动/缓 冲。一个典型的 静态RAM的示意 图如右图所示。
右图是一个1K×1 位的静态RAM器件的组 成框图。该器件总共可 以寻址1024个单元,每 个单元只存储一位数据。
数据(字操作,使用AD0~AD15),也可以只 传送8位数据(字节操作,使用AD0~AD7或 AD8~AD15)。
仅A0为低电平时,CPU使用AD0~AD7, 这是偶地址字节操作;仅为低电平时,CPU使用 AD8~AD15,这是奇地址字节操作。
若和A0同时为低电平时,CPU对AD0~ AD15操作,即从偶地址读写一个字,是字操作; 如果字地址为奇地址,则需要两次访问存储器。 如下表所示
2、Intel 2114是一个容量为1024×4位的静态 RAM ,Intel 2114是一个容量为1024×4位的静 态RAM其引脚和逻辑符号如下图所示。
引脚图
逻辑符号
(四)静态RAM与CPU的连接
进行静态RAM存储器模块与CPU的连接电路 设计时,需要考虑下面几个问题:
1、CPU总线的负载能力 2、时序匹配问题 3、存储器的地址分配和片选问题 4、控制信号的连接
若存储容量较小,可以 将该RAM芯片的单元阵 列直接排成所需要位数
的形式,每一条行选择 线(X选择线)代表一 个字节,每一条列选择 线(Y选择线)代表字 节的一个位,故通常把
行选择线称为字线,而 列选择线称为位线。
(三)静态RAM的例子
1、Intel 6116是CMOS静态RAM芯片,属双列直 插式、24引脚封装。它的存储容量为2K×8位,其 引脚及功能框图如下图所示。

第6章 半导体存储器

第6章  半导体存储器
➢ 实现字扩展的原则是: ➢ ①多个单片RAM的I/O端并接,作为RAM的I/O端 .
2020/1/29
东北大学信息学院
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➢ ②多片构成字扩展之后,每次访问只能选中一片, 选中哪一片,由字扩展后多出的地址线决定。多 出的地址线经输出低有效的译码器译码,接至各 片RAM的CS端;
➢ ③地址端对应接到一起,作为低位地址输入端。 ➢ ④R/W端接到一起作为RAM的读/写控制端(读写
➢只读存储器为非易失性存储器,去掉电源, 所存信息不会丢失。
2020/1/29
东北大学信息学院
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➢ROM按存储内容的写入方式,可分为固定 ROM,可编程序只读存储器,简称(PROM) 和可擦除可编程只读存储器(Erasable Programmable Read Only Memory,简称 EPROM)。
➢ 字数满足要求,而位数不够时,应采用位扩展。
2020/1/29
东北大学信息学院
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➢ 实现位扩展的原则是: ①多个单片RAM的I/O端并行输出。 ②多个RAM的CS接到一起,作为RAM的片选端(同
时被选中);
③地址端对应接到一起,作为RAM的地址输入端。 ④多个单片RAM的R/W端接到一起,作为RAM的读/
• 静态RAM所用管子数目多,功耗大,集
成度受到限制,为克服此缺点,人们研
制了动态RAM (DRAM) 。
➢动态RAM存储数据的原理:MOS管栅极 电容的电荷存储效应。信息的存储单元
是由门控管和电容组成。用电容上是否
2020存/1/29 储电荷表示存东1北或大学信存息学0院。
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• 由于漏电流的存在,电容上存储的数据 (电荷)不能长久保存,必须定期重写, 以免数据丢失——刷新(再生)。
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6
例如: 某存储器能存储1024个字 ,每个字4位, 那它的存储容量就为1024×4=4096,即该存 储器有4096个存储单元。
存储器写入(存)或者读出(取)时,每次
只能写入或读出一个字。若字长为8位,每次
必须选中8个存储单元。选中哪些存储单元,
由地址译码器的输出来决定。即由地址码来决
定。
7
地址码的位数n与字数之间存在2n=字数的 关系。如果某存储器有十个地址输入端,那 它就能存210=1024个字。 2、存取周期 连续两次读(写)操作间隔的最短时间称 为存取周期。
• 固定ROM:在制造时根据特定的要求做成固 定的存储内容,出厂后,用户无法更改,只 能读出。
10
• PROM:存储内容可以由使用者编制写入, 但只能写入一次,一经写入就不能再更改。
• EPROM:存储内容可以改变,但EPROM所 存内容的擦去或改写,需要专门的擦抹器和 编程器实现。在工作时,也只能读出。
• E2PROM:可用电擦写方法擦写。
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6.2.1 固定只读存储器(ROM)
ROM由地址译
地 址
码器、存储矩阵、输 入
输出和控制电路
组成,如图6-1
所示。

W0

存贮矩阵
译 码
N× M

WN-1
D0
DM-1
输出及控制电路
数据输出
图6-1 ROM结构图
12
地址译码器
地址译码器
A0
1

W0
A1
1

W1

W2

W3
+VDD
存储矩阵
字 线
字线
存 储 矩 阵
输出电路 输出电路
D3
D2
D1
D0
1
1
1
1
D3
D2
D1
D0
图6-2 (4×4)的 NMOS固定ROM
13
➢ 图6-2是一个4×4位的NMOS固定ROM。 ➢ 地址译码器:有两根地址输入线A1和A0,共
有4个地址号,每个地址存放一个4位二进制 信息; ➢ 译码器输出线:W0、W1、W2、W3称为字线, 由输入的地址代码A1A0确定选中哪条字线。 被选中的数据经过输出缓冲器输出。
按存储信号的原理不同: 分为静态存储器和动态存储器两种。
3
✓ 静态存储器不会改变;
✓ 动态存储器是用电容存储电荷的效应来存储二值信 号的。电容漏电会导致信息丢失,因此要求定时对 电容进行充电或放电。 称为刷新。动态存储器都为 MOS型。
16
D2 0, D0 0, D3 D1 1 表6-1 ROM中的信息表
经输出电路反相后, 输 出 D3D2D1D0=0101 。 因此,选中一个地址, 该行的存储内容输出。 四个地址存储的内容
地址
A1 A0
00 01 10 11

D3 D2
01 10 01 11

D1 D0
01 11 00 10
按工作特点不同:
分成只读存储器、随机存取存储器。
4
6.1.2 半导体存储器的主要技术指标:
半导体存储器有两个主要技术指标:存储容量 和存取时间。
1、存储容量: ➢ 存储器中存储单元个数叫存储容量,即存放
二进制信息的多少。
5
存储器中二值代码都是以字的形式出现的。一 个字的位数称做字长。例如,16位构成一个字, 该字的字长为16位。一个存储单元只能存放一 位二值代码,要存储字长为16的一个字,就需 要16个存储单元。若存储器能够存储1024个字, 就得有1024×16个存储单元。通常,存储容量应 表示为字数乘以位数。
如表6-1所示。
17
➢ 固定ROM的编程是设计者根据要求确定存储 内容,设计出存储矩阵,即哪些交叉点(存 储单元)的信息为1,哪些为0。为1的制造 管子,为0的不需制造管子,画出存储矩阵编 码图。通常,存储矩阵中有管子处,用“码 点”表示,由生产厂制作。图6-2的存储矩阵 简化编码图如图6-3所示。
20
6.2.2 可编程只读存储器(PROM)
PROM和ROM的区别在于ROM由厂家 编程,PROM由用户编程。出厂时PROM的 内容全是0或全是1,使用时,用户可以根据 需要编好代码,写入PROM中。
21
CS 片选
W0
A0 A1 A2 A3 A4

8
6.2 只读存储器
➢ 半导体只读存储器(Read-only Memory,简称 ROM)是只能读不能写的存储器。通常用其 存放固定的数据和程序,如计算机系统的引 导程序、监控程序、函数表、字符等。
➢ 只读存储器为非易失性存储器,去掉电源, 所存信息不会丢失。
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➢ ROM按存储内容的写入方式,可分为固定 ROM,可编程序只读存储器,简称(PROM)和 可擦除可编程只读存储器(Erasable Programmable Read Only Memory,简称 EPROM)。
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➢ 位线与字线之间逻辑
W0
关系为:
W1
➢ D0=W0+W 1
W2
➢ D1=W1+W3
W3
➢ D2=W0+W2+W3
➢ D3=W1+W3
D3
D2
D1 D0
图6-3 ROM的符号矩阵
19
存储矩阵的输出和输入是或的关系,这种 存储矩阵是或矩阵。地址译码器的输出和 输入是与的关系,因此ROM是一个多输 入变量(地址)和多输出变量(数据)的 与或逻辑阵列。
第六章 半导体存储器
第6章 半导体存储器
➢ 半导体存储器是一种由半导体器件构成的能够 存储数据、运算结果、操作指令的逻辑部件。 用于计算机的内存及数字系统存储部件。
6.1 概述 6.2 只读存储器 6.3 随机存取存储器
2
6.1 概述
6.1.1 半导体存储器的特点及分类 按制造工艺不同分类:
分成TTL和MOS存储器两大类。TTL型速度快,MOS型 工艺简单、集成度高、功耗低、成本低等特点。
14
➢ 存储矩阵:是NMOS管的或门阵列。一个字 有4位信息,故有四条数据线 D0, D1, D2, D3,
➢ 输出又称为位线。它是字×位结构。存储矩 阵实际上是一个编码器,工作时编码内容不 变。位线经过反相后输出,即为ROM的输出 端D0、D1、D2、D3。
15
➢ 每根字线和位线的交叉处是一个存储单元, 共有16个单元。交叉处有NMOS管的存储 单元存储“1”,无NMOS管的存储单元存 储 “ 0” 。 例 如 , 当 地 址 A1A0=00 时 , 则 W0=1(W1、W2、W3均为0),此时选中0 号地址使第一行的两个NMOS管导通,
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