ETD-900型离子溅射仪使用说明书
离子色谱ICS-900作业指导书

离子色谱作业指导书(戴安ICS—900)1 工作原理离子色谱就是将改进后得电导检测器安装在离子交换树脂柱得后面,以连续检测分离离子得方法.离子色谱中使用得固定相就是离子交换树脂,离子交换树脂上分布有固定得带电荷得基团与能游动得配位离子。
当样品进入离子交换色谱柱后,用适当得淋洗液洗脱,样品离子即与树脂上能游动得离子进行交换,并且连续进行可逆交换吸附与解吸,最后达到吸附平衡。
2 仪器测试条件2、1仪器型号:DIONEX ICS—900,带抑制器电源。
2、2配套设备:山力牌稳压电源2、3操作软件:Chromeleon7色谱工作站2、4使用气体:高纯氮气2、5使用试剂:优级纯试剂2、6使用环境:室温,仪器不能直对着空调,无腐蚀性气体。
3 操作步骤3、1开机前确认3.1.1确认有足够得淋洗液用于连续工作,即测完样后剩余量≥100ml。
阳、阴离子淋洗液先配制成浓缩母液(可先配制浓缩100倍得母液),然后用母液稀释,以减少误差.阴离子淋洗液配好后,先摇匀,再真空抽滤后脱气2min以上;阳离子淋洗液先将水抽滤,脱气,再加入母液配制成一定浓度得淋洗液.3.1.2确认有足够得外加超纯水用于再生;3.1。
3 确认有足够得氮气;3.1.4 确认废液收集桶有足够得空间用于收集废液。
3、2开机3。
2。
1 开启氮气瓶总开关,分压表调至0、3Mpa左右,淋洗液瓶上得压力表调至5~10psi左右。
3.2.2 打开稳压电源开关,待稳压电源稳定后,再打开ICS—900主机电源开关3。
2.3 启动电脑。
3、3 启动变色龙软件3。
3.1电脑稳定一分钟后,双击电脑桌面上快捷键3.3.2 进入变色龙软件后,点击左下方“仪器",则右侧显示仪器控制得界面:“ICS900”项下显示主机得控制与工作状态;“审计”项下显示仪器得使用记录;“队列”项下显示队列或样品表信息.3、4 运行前得准备工作3.4.1 确认室温就是否就是在20-30℃之间,若不符,则需开空调,关好门窗,控制室温3。
离子束溅射仪的使用

离子束溅射仪器的使用1、装样品1)充气:打开充气旋钮,使得空气进入钟罩。
2)开电源总开关,接通电源。
3)升钟罩:将“升”开关拨到下方,待钟罩升到合适位置时,按住“停”按钮,钟罩停止上升,将“升”开关拨回到上方。
4)放样品:将放有样品的载物台固定到钟罩中。
5)降钟罩:按一下“降”按钮,钟罩开始往下降,降到适当的位置使得钟罩密封时自动停止。
(注意,在钟罩将要降到底时可以在前边稍往上抬钟罩,以保证钟罩的密封效果,利于后面的真空抽取。
)6)将充气旋钮旋紧。
2、抽真空1)抽低真空:样品装好后,再一次确认充气旋钮已旋紧。
然后将电源开关旋钮打到机械泵,打开低真空计。
2)(逆时针)旋转管道阀门Ⅰ,在旋转到最满时回旋1-2圈;过一会后(一般这时候真空机压强在10Pa左右),逆时针旋转打开管道阀门Ⅱ。
3)上面步骤完成后,机械泵抽一段时间后,当真空计读数在6-5Pa左右时,可打开扩散泵。
4)通冷却水,再将电源开关旋到扩散泵。
5)约半小时后,关闭管道阀门Ⅰ,(逆时针)打开打开扩散泵旋钮(至满回旋1-2圈)。
这时候低真空计压强将会突然变大,待压强再一次回到<10Pa后,打开高真空计(方法看下一步)。
6)抽高真空:按下高真空计电源开关,再按下灯丝按钮;将压强档打到10-1档,抽真空到压强小于1×10-1Pa时,可打到10-2档,依次类推,知道满足自己的需要(一般最大能达到×10-3档)。
3、溅射1)先讲溅射装置打开,有加速电压、中和电压、阴极电流和阳极电压。
(注意还有外接的毫安表,这是用来测试流过靶材的电流。
)2)先将真空计回旋一档(×10-2),通Ar气,当达到满足的要求时位置(通气时要慢慢的旋转通气旋钮,防止通气忽大忽小不易控制。
)3)调加速电压(如200V),屏级电压(如1000V),阴极电流(如12A)和阳极电压(如55V)进行溅射。
(调剂经验:在加速电压调好后,先调节屏级电压到要求值,然后调节阴极电流和阳极电压到比预定值稍小,最后通过协调这三个旋钮调出束流。
ICS90.900仪器维护讲述

基线噪音
① SRS —— 调整抑制电流 —— 改变抑制方式
② 电导池气泡 —— 反压 —— 无水乙醇
③ 泵气泡 —— 超声波 氦气鼓泡 真空脱气
背景电导
• 电流设置 • 淋洗液浓度(+) • 没有淋洗液/流路堵塞(电导池
出口) • 淋洗液的性质/淋洗液选择阀 • 抑制器离子交换膜污染 • 抑制器离子交换膜钝化 • 抑制器损坏
应用中心:010-62849182
ICS90/900 离子色谱仪的操作
配制淋洗液
• AS14: 3.5mM Na2CO3/1.0mM NaHCO3 4.8mM Na2CO3/0.6mM NaHCO3
• AS9-HC: 9.0mM Na2CO3 12.0mM Na2CO3/5.0mM NaHCO3
• 开泵后等待压力升至1000psi以上,再打开 RFC-10/30面板的EGC和SRS开关;
• 将高压极限设置为3000psi; • 仪器运行时,如果出现超压报警,应当迅速
关闭SRS和EGC; • 仪器运行时,如果出现管路泄漏,应当首先
关闭SRS和EGC,再停泵; • 关机时必须首先关闭SRS和EGC,再停泵。
3. 尽量使用低电流以延长 抑制器的使用寿命;
4. 淋洗液中含有机溶剂时, 使用外接水抑制方式;
5. 不推荐使用化学抑制方式。
④ 过大 —— 交叉污染 —— 超出线性范围
⑤ 过小 —— 系统泄漏 —— 校正电导池
RFC-30的常见故障
压力升高 —— EGC堵塞 更换垫片 反冲 —— 脱气盒堵塞 拆除CR-TC 更换脱气盒
压力降低 —— 脱气盒/CR-TC泄漏 更换脱气盒/CR-TC
分离柱的保养
• 分离柱的储存 ① 淋洗液正常运行至少10min ② 用死接头将分离柱/保护柱两端封堵
数字式离子计原理及使用方法

数字式离子计原理及使用方法一、仪器简介及使用范围数字式离子计是一种精密的二次仪表。
它与各种离子选择性电极配用。
精密地测量电极在溶液中产生的电池电动势。
仪器可直读溶液中离子活度的负对数(pX)值。
仪器亦可作精密酸度计和高输入阻抗的精密毫伏计使用。
广泛适用于医疗、环保、科研、大专院校、工矿企业,是化学分析的必备的常规分析仪器。
数字式离子计采用国内外先进3位半LED 数码显示和大规模集成电路等技术,仪器集成度高,造型美观大方、结构简单、性能稳定、便于维护。
数字式离子计具有自动温度补偿功能,配有一支专用温度测量电极,能随时测量被测溶液的温度,插入温度电极后,仪器就能自动进行温度补偿,温度调节电位器自动失效,不插入温度电极,仪器改为手动温度补偿,靠手动调节温度电位器进行温度补偿。
数字式离子计可配用各种离子选择性电极-氟、氯、溴、碘、氰根、汞、铜、铅、钠、钾、氨、硝酸根、平板玻璃pH、锥状pH、球状pH、硫、银、钙、镉、硼酸根、硬度等二、工作原理1.工作原理:当此电位和溶液中X离子的活度ax之间的关系,符合电化学理论中的能斯特方程。
Ex =E0 ± lgax (正、负号对应阴、阳离子)式中:Ex:由电极系统产生的电池电动势E0:电极系统的截距电位,在一定条件下,可看作为一常数R:气体常数(8.314焦耳/度·摩尔)F:法拉第常数(9.65×104 库仑/摩尔)Z:离子价数T:溶液的绝对温度(273 + t℃)ax:X离子的活度。
它与离子浓度Cx有的关系。
f一般称为活度系数,它是溶液的总离子强度的函数,在溶液中总离子强度不变的情况下,它是一个常数。
在酸度测量中pH=-lgaH液的氯度pCl=-lgaCl,钠度pNa=-lgaNa等等,代入各个恒量的值。
则能斯特方程可写为:对一价离子,Ex=E0±0.1983T·pX(正、负号对应阴、阳离子)对二价离子,Ex=E0±0.09915T·pX(正、负号对应阴、阳离子)上式中0.1983T和0.09915T这一项称为电极的理论斜率S0。
离子溅射仪结构

离子溅射仪结构离子溅射仪是一种重要的表面分析仪器,用于研究材料表面的组成、结构和性质。
其主要原理是利用高能离子轰击样品表面,使得样品表面发生化学反应、物理变化等现象,并通过对反应产物的分析来获得有关样品表面的信息。
本文将详细介绍离子溅射仪的结构。
一、离子源离子源是离子溅射仪中最重要的部件之一,其主要作用是产生高能离子束。
常见的离子源有电喷雾源、电弧放电源、激光蒸发源等。
其中,电喷雾源是目前应用最广泛的一种。
1. 电喷雾源电喷雾源是将液态样品通过高压喷嘴雾化成小液滴,并在高压电场作用下形成带电液滴,在真空环境中经过干燥和加速后形成离子束。
其优点是可以直接使用液态样品进行分析,并且产生的离子束能量较低,不会对样品造成太大损伤。
2. 电弧放电源电弧放电源是利用电弧放电的方式产生离子束。
其优点是产生的离子束能量较高,能够对样品进行剥离,但缺点是需要使用固态样品,并且容易对样品造成较大损伤。
3. 激光蒸发源激光蒸发源是利用激光将样品表面局部加热,使得样品表面产生蒸发和剥离现象,并形成离子束。
其优点是可以对非导体材料进行分析,但缺点是需要使用高功率激光器,并且容易对样品造成较大损伤。
二、加速器加速器是将离子束加速到一定能量的部件。
常见的加速器有静电加速器、磁聚焦加速器等。
1. 静电加速器静电加速器是利用静电场将带电粒子加速到一定能量的装置。
其优点是结构简单、能耗低、稳定性好,但缺点是粒子束容易发散。
2. 磁聚焦加速器磁聚焦加速器则通过在粒子轨道上施加磁场来实现粒子束的聚焦和定向。
其优点是能够将粒子束聚焦到较小的直径,但缺点是结构复杂、能耗较高。
三、样品台样品台是离子溅射仪中用于支持和定位样品的部件。
常见的样品台有旋转样品台、平移样品台等。
1. 旋转样品台旋转样品台可以使得离子束均匀地照射到整个样品表面,从而获得更加准确的分析结果。
其优点是结构简单、操作方便,但缺点是不能进行局部分析。
2. 平移样品台平移样品台则可以实现对局部区域的分析。
ICPE-9000等离子发射光谱仪操作规程

1 适用范围本规程适用于ICPE-9000型等离子发射光谱仪,本规程对仪器的测定原理、操作方法、注意事项和维护保养作了规定。
2仪器基本结构等离子光谱仪的结构框图如下:3测定原理雾化器把液体样品雾化后进入等离子体炬,样品被激发并发射出元素的特征光谱(轴向观测时由反射镜反射)经聚光透镜聚焦在光谱仪的入射狭缝上。
当光进入光谱仪后,射到光栅上,衍射光按照分析波长经出射狭缝照射在光电倍增管的光敏阴极上。
对应于每种被分析的物的光转换成电能,计算机把信号强度直接转变成浓度打印出来。
4仪器操作方法4.1 开机4.1.1 依次把稳压器电源开关扳至[ON]位置(仪器停机状态时)。
4.1.2打开主机[MAIN]电源开关至[ON]的位置。
4.1.3打开排风扇电源开关。
应听到风扇的转动声音并有排风。
4.1.4打开氩气钢瓶主阀门,观察余压不低于1 Mpa,并调减压阀出口压力应在0.45Mpa。
4.1.5 打开高频线圈冷却循环水及CCD检测器用冷却水装置电源开关。
注意:CCD检测器用冷却水装置电源打开后,需按按动操作面板上的【SET】按键使其正常运转。
4.1.6更换清洗吸样管用的去离子水,确认吸管插入纯水中。
点击桌面ICPEsolution Launcher的图标,再点击画面中的[分析Analysis]项观察屏幕右侧出现[Instrument Moniytor]画面。
4.1.8 在仪器状态检查画面[Instrument Moniytor]确认各部为[OK]状态。
离子体点火:点击画面左侧[分析Analysis]项,在出现的[New Analysis]画面点击相应的[Qualall.iem定性]或[Quanbase.iem定量] 分析方法。
然后点击画面左侧[Plasma ON]图标,随后仪器进行自动点等离子体点火,当等离子体点燃后,可以从仪器的安全门上的观察窗观察到等离子体所发出的光。
如果点火失败,则会在显示器上提示错误信息。
一般情况下,如果第一次点不着,则会继续自动点二次。
实验三 陶瓷材料的相分析方法
三.主要仪器设备及耗材 仪器:ETD 200型离子溅射仪 :ETD型离子溅射仪; 北京) 仪器:ETD-200型离子溅射仪;(北京) 日立S 3000N扫描电镜[HITACHI- 3000N扫描电镜[HITACHI 日立S-3000N扫描电镜[HITACHI-S-3000N-Scanning Microscope][HITACHI]公司 样品座数个, 公司; Electron Microscope][HITACHI]公司;样品座数个,导 电胶,不同规格镊子数把,无水乙醇等。 电胶,不同规格镊子数把,无水乙醇等。 试样:介电陶瓷片、非磁化铁氧体陶瓷片、多晶硅片、 试样:介电陶瓷片、非磁化铁氧体陶瓷片、多晶硅片、 纳米ZnO粉体等。 ZnO粉体等 纳米ZnO粉体等。 四.实验步骤与操作规程 1.试样制备 1.试样制备 1)对试样的要求 对试样的要求: 1)对试样的要求: 2)扫描电镜的块状试样制备是比较简便的 扫描电镜的块状试样制备是比较简便的。 2)扫描电镜的块状试样制备是比较简便的。 3)粉末试样的制备 粉末试样的制备: 3)粉末试样的制备: 4)镀膜 镀膜的方法有两种,一是真空镀膜, 镀膜: 4)镀膜:镀膜的方法有两种,一是真空镀膜,另一种是 离子溅射镀膜。 离子溅射镀膜。
1)样品测试:将制备好的合格的测试样品,按照S 1)样品测试:将制备好的合格的测试样品,按照S样品测试 3000N扫描电镜操作规程进行测试与分析 扫描电镜操作规程进行测试与分析。 3000N扫描电镜操作规程进行测试与分析。
2.样品测试与分析 2.样品测试与分析
S-3000N扫描电镜操作规程: 3000N扫描电镜操作规程: 扫描电镜操作规程
3.扫描电镜主要指标 3.扫描电镜主要指标 1)放大倍数 1)放大倍数 M=L/l 2)分辨率 本领) 分辨率( 2)分辨率(本领) 影响分辨本领的主要因素: 影响分辨本领的主要因素:入射电子束斑的大 成像信号(二次电子、背散射电子等) 小,成像信号(二次电子、背散射电子等)。 3)扫描电镜的场深 3)扫描电镜的场深 扫描电镜的场深是指电子束在试样上扫描时, 扫描电镜的场深是指电子束在试样上扫描时, 可获得清晰图像的深度范围。 可获得清晰图像的深度范围。当一束微细的电子 束照射在表面粗糙的试样上时, 束照射在表面粗糙的试样上时,由于电子束有一 定发散度,除了焦平面处,电子束将展宽, 定发散度,除了焦平面处,电子束将展宽,场深与 放大倍数及孔径光阑有关。 放大倍数及孔径光阑有关。 4)ETD-200小型离子溅射仪 小型离子溅射仪: 4)ETD-200小型离子溅射仪:
900型中文说明书
手册编号制造日期手册版本3ª版本日期 2005年1月目录1. 序言. . . . . . . . . . .32. 使用说明和技术参数.. . . . . . . .3•使用说明. . . . . . . . . . 3 •技术参数和外形尺寸 . . . . . . . . 3 •噪声 . . . . . . . . . . 3 •振动 . . . . . . . . . . 3 •主要部件. . . . . . . . . . 4 3. 运输与安装. . . . . . . . . . 4•拆箱 . . . . . . . . . . 4•电气安装. . . . . . . . . . 4•带包装搬运. . . . . . . . . . 5•带底座搬运. . . . . . . . . . 5•不带底座搬运. . . . . . . . . . 54. 使用. . . . . . . . . . . 6•主要控制元件. . . . . . . . . . 6•移动加工. . . . . . . . . . 8•固定加工. . . . . . . . . . 8•悬挂移动加工. . . . . . . . . . 9•倒角尺寸设置. . . . . . . . . 10•倒角角度设置. . . . . . . . 10. . . . . . . . 10•切深 . .5. 维护与调节. .•刀片更换. . . . . . . . . . 10 6. 附件. . . . . . . . . . . 11请在安装和使用本机器之前,仔细阅读本手册内容,并认真遵循说明!1. 序言本手册旨在说明MOD. 900型倒角机的安全性以及正确使用的相关注意事项。
请将手册放于容易拿到的地方,并妥善保存。
如果遇到手册损坏或想获得更多技术信息,请联系经销商。
确保在使用机器之前,完全理解手册内容。
所提注意事项不可轻视,由此导致的后果,制造商不予承担。
Dt9安装说明
DT-900系列双鉴移动探测器安装使用说明书DT—900系列探测器是当今世界上唯一的真正意义上的三技术加微处理器的移动探测器。
DT—900系列探测器由于独特的设计,使其具备被动红外、微波和用于防遮挡的主动红外三种探测技术,实属商业和轻工业场所的理想选择。
安装步骤1.确定适当的安装高度。
注:探测器的安装高度可在2~4.27m之间选取,距天花板的最小距离为30cm。
2.如图所示,将螺丝刀插入槽中,压下搭钩,并打开前盖。
2.如图所示,将螺丝刀插入槽中,旋转被动红外镜片选择器,选择所需的探测范围。
4.用S4开关设置微波的探测范围。
型号 探测范围 S4开关设置镜片选择器DT—906 200′/61m 开* 200′*DT—906 120′/37m 关 120′DT—900 90′/27m 开* 90′*DT—900 50′/15m 关 50′*—出厂缺省设置5.根据所选择的探测范围设置刻度的位置,并旋转垂直调节螺丝,使箭头对准相对应的探测器的安装高度(粗调)。
注:在步测时还需进行细调。
6.根据安装现场的实际情况,通过S3开关设置所需的探测灵敏度。
S3开关设置 H N* L**探测器灵敏度 高档 中档 低档*—出厂缺省设置;**—没有连接,建议DT—906中不使用7.根据需要,用S2开关选择比例监控功能(开/关)。
(详见后面的“比例监控设置”。
)8.如图所示,用螺丝刀取下底盖。
9.拧松螺丝,取下安装平板。
10.用四个螺丝将安装平板固定于墙面上预定的安装位置。
11.如图所示,在安装螺丝下方1.9cm处固定一个M5螺丝,确保在安装探测器后该螺丝能压住墙面防拆开关。
12.穿过安装平板上的方孔,从墙面里拉出大约30cm长的线,以方便接线。
13.将探测器挂到安装平板上,并用2个螺丝予以固定。
14.用14~22AWG的导线进行接线。
具体接线方式如图所示。
注:用绝缘线将导线固定在安装平板上。
INPUTS 1&2——输入端1&2 Standard or CENELEC mode——标准模式或CENELEC模式MASK DETECT(NC)——防遮挡输出端(常闭),25mA/30VDCTROUBLE(NC)——故障输出端(常闭),25mA/30VDCTAMPER(NC)——防拆输出端(常闭),25mA/30VDCEND-OF-LINE——EOL端(接线尾阻)ALARM OUTPUTS(NO、NC、COM)——报警输出端(常开、常闭、公共端)FORM C relay——C型继电器,125mA/25VDCPOWER——电源输入端,10~15VDC,50mA(MAX)/12VDC15.拧松位于探测器支撑底座上的水平锁定螺丝。
离子导入仪说明书
(19)中华人民共和国国家知识产权局(12)实用新型专利(10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201921536208.X(22)申请日 2019.09.17(73)专利权人 深圳市思酷特科技有限公司地址 518107 广东省深圳市光明新区玉塘街道长圳社区第一工业区悦群路19号大东明科技园1栋5A6B(72)发明人 宋秋琴 (51)Int.Cl.A61N 1/30(2006.01)A61N 5/06(2006.01)A61H 23/02(2006.01)(54)实用新型名称离子导入仪(57)摘要本实用新型公开了一种离子导入仪,包括壳体,所述壳体内分别设置有USB插口、控制器、蓄电池和电路板,所述蓄电池和电路板上均设置有固定架,所述壳体内壁上均匀连接有多个卡扣,多个所述卡扣通过螺栓共同安装有与壳体配合的上盖,所述壳体下端连通设置有按摩头,所述按摩头内设置有按摩机构,所述壳体侧壁设置有离子感应条。
本实用新型通过按摩机构既可以加强肌肤对护肤品营养成分的吸收,又能够对肌肤深层的污垢进行清除,且通过振动马达配合彩光灯可以进一步提高此装置的美容护肤效果,而且此装置灵便小巧,方便携带。
权利要求书1页 说明书3页 附图3页CN 210844972 U 2020.06.26C N 210844972U1.离子导入仪,包括壳体(1),其特征在于,所述壳体(1)内分别设置有USB插口(3)、控制器(2)、蓄电池(4)和电路板(5),所述蓄电池(4)和电路板(5)上均设置有固定架(8),所述壳体(1)内壁上均匀连接有多个卡扣(7),多个所述卡扣(7)通过螺栓共同安装有与壳体(1)配合的上盖,所述壳体(1)下端连通设置有按摩头(9),所述按摩头(9)内设置有按摩机构,所述壳体(1)侧壁设置有离子感应条(6),且按摩机构、离子感应条(6)、USB插口(3)、控制器(2)与电路板(5)均通过导线与蓄电池(4)电性连接。
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ETD-900型离子溅射仪使用说明书
目录
一. 离子溅射仪的工作原理和组成
二. 离子溅射仪的一般操作步骤
三. 基本参数
四. 经验分享
一. 离子溅射仪的工作原理和组成(参考图1)
离子溅射仪的工作原理是在一个较低真空的腔体内,在负电极和正电极之间加载几百伏特以上的电压,产生辉光放电,在电场的作用下加速正离子轰击靶电极(负极),引起靶中原子溅射,在样品上形成一层簿膜。
溅射原子的平均能量是10eV,所以会产生很大的热量,请注意被镀材料特性,是否需要采取特殊的防护方法,使样品不被灼伤。
其基本组成和作用如下:
1.上盖:密闭样品真空室;
2.上部电极:安装镀膜材料的装置(负极);
3.样品台:固定被镀样品的装置(阳极);
4.定时选择开关(TIME-SECONDS):旋转此开关,设置镀膜时间。
注意:定时器有三种
状态:停止、暂停和运行;
5. 电源开关(START PUMP):搬动此开关,确定设备工作状态;
6.手动开关(SET PLASMA):按下此开关,测试溅射电流强弱。
在定时器工作期间不起
作用;
7.启动开关(START PROCESS):按触此开关,启动定时器及加载溅射电压。
如果在溅
射期间,发生过流保护,再次加载溅射电压时,需要再次按触此开关;
8. 微调进气阀门(LEAK):旋转此钮,控制样品真空室中的真空度,调整溅射电流。
可以
通入多种气体;
9. 限流指示灯(CURREN LIMIL):此灯亮起,提示当前若加载溅射电压将过载;
10. 电流指示表(PROCESS CURRENT):显示当前电离电流值;
11. 真空指示表(CHAMBER PRESSURE):显示当前设备的真空度;
二. 离子溅射仪的一般操作步骤
1.放置样品,合上上盖;
2.选择溅射时间;
3. 打开电源开关(START PUMP)。
观察真空指示表(CHAMBER PRESSURE)。
当真空度到达4×10⁻ 2 托,可以调整“微调进气阀”(LEAK)降低真空度到适合的值;
4. 触按“启动开关”(START PROCESS)。
可以听到定时器发出的计时音,看到样品室中
发出的辉光;
5.观察电流表指示(PROCESS CURRENT),根据需要调整“微调进气阀门”(LEAK)提高
或降低电离电流;
6.计时归零,发出结束提示音。
三. 基本参数
✧主机规格:长360 mm,高300 mm,深380 mm
✧真空室:直径:160 mm,高:120 mm
✧上部电极:靶直径:50 mm,厚度:0.1 mm,靶材料标准配置:金
✧溅射面积:Ф50 mm,最高真空度:≤ 4X10-2 mbar
✧离子电流:50 mA (最大)
✧镀膜时间:5秒至3600秒,9档
✧气体控制:微调进气阀,可连接φ3 mm软管,通入气体,调节真空度和溅射电流
✧最高电压:-1200V
✧机械泵:标准配置2L/S
四. 经验分享
1.真空度与溅射电流:不同的真空度下,溅射电流产额不同(参考图表)。
2.溅射时间与膜厚:相同的溅射时间里,不同的溅射电流,成膜速度不同。
结论:
✓欲在单位时间内形成较厚的膜,真空度尽可能要低。
✓欲获得颗粒度较小的膜,溅射时间尽可能短。
✓欲获得较牢固的膜,溅射电流尽可能大。
注意:
二极 DC 溅射,靶的温度上升较快,非冷却溅射头不宜长时间加电工作(最好不超过15分钟),在一定的高温下,溅射电流会随着温度的升高而衰减,降低溅射效率,甚至为零。