现代光学干涉技术

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光学中的干涉与光纤原理

光学中的干涉与光纤原理

光学中的干涉与光纤原理在光学领域中,干涉和光纤原理是两个非常重要且引人注目的主题。

干涉作为一种光学现象,揭示了光的波动性质,而光纤原理则为光的传输提供了一种高效和便捷的方法。

一、干涉的基本原理干涉是指两束或多束光波相互叠加时所产生的干涉现象。

干涉可以分为构成干涉的两种基本类型:相干光干涉和非相干光干涉。

1. 相干光干涉相干光干涉是指两束或多束具有相同频率、相同相位关系、相同偏振方向且光程相差在一定范围内的光波相互叠加所产生的干涉。

干涉现象的出现是由于光的波动性质决定的。

当两束相干光波相遇时,它们的电场矢量叠加形成了新的合成波,出现干涉条纹。

这种干涉形式常见的有杨氏双缝干涉、薄膜干涉等。

2. 非相干光干涉非相干光干涉是指两束或多束不满足相干条件的光波相互叠加所产生的干涉。

这种干涉主要来自于自发辐射或来自不同光源的光波。

非相干光干涉不同于相干光干涉,其干涉条纹通常不稳定,在时间上会发生明暗交替现象。

二、光纤的基本原理光纤是一种由一种或多种光学材料制成的细长柔性光导波结构。

光纤由芯层、包层和外壳层组成。

光通过芯层的全反射现象实现传输。

1. 全反射与光传输光纤中光的传输是基于全反射原理。

当光从芯层传入包层时,若光线入射角小于临界角,则光线会被全反射,并沿着光纤传播。

由于光纤的芯层和包层折射率不同,使得在光纤中的光线无法透过外壳层而损失,从而实现了光的传输。

2. 光纤的工作原理光纤的工作原理是基于光信号的折射传输。

当光信号通过一端的发光源输入到光纤中时,由于全反射的作用,光信号被束缚在光纤中,并沿着光纤传输。

光信号在传输过程中可以保持较低的衰减和干扰,从而实现远程的高速数据传输。

三、干涉与光纤的应用干涉和光纤原理在现代科学和技术中有着广泛的应用。

1. 干涉的应用干涉在成像领域中被广泛应用,例如光学显微镜、干涉测量仪器等。

此外,干涉也在光谱学、激光技术、光学存储等各个领域中发挥着重要的作用。

例如,Michelson干涉仪可用于测量光的波长和干涉条纹的位移,准确测量实验中所需要的长度或物理量。

光学干涉技术的应用及未来发展趋势

光学干涉技术的应用及未来发展趋势

光学干涉技术的应用及未来发展趋势光学干涉技术是一种高精度测量技术,利用光波的干涉现象测量物体的形状、表面误差、扭曲等参数。

随着科技的进步和应用领域的扩展,光学干涉技术的应用范围越来越广泛,未来发展潜力也很大。

一、光学干涉技术的基本原理和分类光学干涉技术的基本原理是通过比较光的干涉效应来实现测量目标的形状和表面状态。

其中,常用的干涉现象有菲涅尔、杨氏、薄膜干涉等。

按照干涉光路的配置可以将光学干涉技术分类为两类:点干涉和面干涉。

点干涉技术又称为单点干涉技术,主要包括:激光干涉仪、石英晶体干涉仪、法布里-珀罗干涉仪等。

这些工具可以实现非常高精度的目标测量,例如,通过激光干涉仪可以测定销轴和端面的径向和切向距离误差、平面和圆度误差等。

面干涉技术又称为全息干涉技术或者纹影干涉技术,常见的应用包括:纳米位移量测量、三维形状重建、表面形态分析、微观结构测量等。

这种技术通常需要复杂的光源和干涉仪器装置,但是测量实现起来非常快速和精准,价值巨大。

二、光学干涉技术的应用光学干涉技术的应用领域非常广泛,涉及机械工程、光学、化工、生物医学、建筑等多个领域。

以下分别讨论不同的应用场景。

1.精度制造业在航天航空、电子硬件、汽车制造等领域中,光学干涉技术是必不可少的。

在航天航空领域,通常需要使用高精度制造机器部件,因此,需要使用光学干涉测量技术确保高精度加工结果。

在汽车制造领域中,光学干涉技术可以帮助厂商确保汽车零件的尺寸和质量。

2.生物医学科研在生物医学研究中,光学干涉技术可以用于检测细胞、组织和体积的形态结构及拓扑性质。

例如,可以应用红外干涉技术测量角膜厚度,提高白内障手术的成功率。

3.电子工业在电子工业中,光学干涉技术可以帮助测试和测定微型器件的误差和半导体材料的缺陷。

三、光学干涉技术未来的发展趋势由于光学干涉技术在现有领域中的应用广泛,我们可以预见到未来它在更多领域中得到开发使用。

以下列举几个未来发展趋势。

1. 3D打印3D打印技术是在早期阶段已经得到了应用,但是未来可能会基于光学干涉技术取得更大的成功。

光学中的干涉原理

光学中的干涉原理

光学中的干涉原理光学是研究光的传播、反射、折射、干涉、衍射等现象的科学。

干涉是光学中的一个重要现象,指两束或多束光线相遇时互相影响的现象。

光的干涉是利用光波的波动性质,通过相消或者相长等运动状态,实现对光强度或者相位的调节。

在光学中,干涉原理是重要而基础的概念之一。

一、光的干涉原理(一)干涉光束形成条件在光的干涉现象中,需要满足两束或多束光线相遇时,其光程差相等的条件,才能达到扰动的合成或抵消。

光程差是指两束光线从不同的发射点到达相遇点所走的路径长度之差。

(二)厚膜干涉原理当一个薄膜或者透明介质被光照射时,光线在薄膜两侧的介质中传播时,波长和速度的差异导致了光程差,从而引起干涉现象。

对于平行垂直于入射面的两束光线,其光程差可以用以下公式表示:d=2tcosθ其中,d是光程差,t是薄膜的厚度,θ是两束光线入射角。

(三)牛顿环干涉原理牛顿环是一种环形干涉条纹图案,由牛顿于17世纪利用两片光学仪器中的透镜与凸面镜制作而成。

在这种干涉现象中,通过一个凸透镜和一个玻璃平面之间留下的空气隙,光线在空气与玻璃之间的反射和透射过程中产生干涉现象,从而形成环形条纹。

二、干涉现象在实际应用中的意义(一)光学干涉仪光学干涉仪是一种利用光的干涉现象测量物体表面形状的仪器。

光学干涉仪利用干涉仪对光的相位及其变化进行检测,利用光程差的变化,可以测量物体表面形状、薄膜厚度、光学元件的表面形态等。

(二)激光干涉测量激光干涉测量是一种利用激光的光波干涉原理,对物体表面上形状及表面透明度的变化进行测量的科学方法。

由于激光光源具有高亮度、单色性等特点,能够在远距离进行高精度的测量,因此在工业生产领域得到广泛应用。

(三)衍射干涉衍射干涉是女士光学中的一种重要的干涉现象,指光线通过物体出现衍射现象并且发生干涉。

这种干涉现象在显微镜、分光镜等装置中得到了广泛应用。

三、结语在现代光学中,干涉现象已经被广泛应用在各种领域,例如测量、显微镜、光学元件、激光制造等方面。

第四章 光学干涉测量技术(武大)

第四章 光学干涉测量技术(武大)

光学干涉测量技术的优 缺点
光学干涉测量技术的优点
高精度测量:干涉测量技术具有极高的精度,能够实现纳米级甚至更精确的测量。 宽测量范围:干涉测量技术可以测量大范围的距离和角度,具有较广的适用范围。
抗干扰能力强:干涉测量技术不易受到环境噪声和其他电磁干扰的影响,测量稳定性高。
实时性:干涉测量技术可以实现实时测量,能够快缺点
对光源相干性要求高 对环境振动和稳定性要求较高 测量精度受多种因素影响 设备成本较高,操作复杂
光学干涉测量技术的发展趋势
微型化:随着微纳加工技术的进步,光学干涉测量系统的尺寸不断缩小,提高了测量精度和便携性。 智能化:集成人工智能和机器学习算法,实现光学干涉测量系统的自动化和智能化,提高测量效率和准确性。 多光谱多模式:开发多光谱、多模式的光学干涉测量技术,拓展测量范围和应用领域,满足不同领域的需求。 实时化:提高光学干涉测量技术的实时性,实现动态测量和实时反馈,提高测量效率和可靠性。
光学干涉测量技术是一种利用光的干涉现象进行长度、表面形貌、折射率等物理量测量的技术。
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它利用了光的波动性质,通过将待测物理量转化为干涉图的变化,从而实现了高精度、高分辨 率的测量。
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光学干涉测量技术具有非接触、高精度、高分辨率、高灵敏度等优点,因此在科学研究、工业 检测、医疗诊断等领域得到了广泛应用。
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干涉条纹的分析方法
干涉条纹的生成原理 条纹的形状和间距分析 条纹的移动和变化规律 条纹的定量分析和计算方法
光学干涉测量技术的分 类
时间相干性干涉测量技术
定义:利用时间相干性原理,通过测量光波的时间变化来获取干涉图样的 技术。
原理:利用光的波动性质,通过干涉现象测量光波的相位差,从而确定物 体的几何形状和物理性质。

光学实验技术中的干涉测量方法

光学实验技术中的干涉测量方法

光学实验技术中的干涉测量方法干涉测量方法是光学实验技术中一种重要的测量手段。

它通过利用光的干涉现象,实现对物体形态、尺寸和表面性质等参数的测量。

在现代科学研究和工程技术中,干涉测量方法得到了广泛的应用,涉及到光学、物理学、医学、材料科学等多个领域。

一、干涉测量方法的基本原理与分类干涉是指两束或多束光线的叠加现象。

当光线经过光学元件或物体后,它们会发生相位差,进而引起干涉现象。

干涉现象通过干涉条纹的变化来揭示光场的信息。

根据干涉条纹的产生原理,干涉测量方法主要分为两类:自发光干涉和外加光干涉。

自发光干涉是利用物体自身的发光特性产生干涉条纹,例如显微镜下的透射干涉、投影干涉和表面形貌干涉等。

外加光干涉是通过外部光源引入干涉现象,例如激光干涉、多波长干涉和相移法干涉等。

二、应用于形貌测量的干涉测量方法1. 二维轮廓测量利用激光干涉技术,可以实现对物体二维轮廓的高精度测量。

通过将物体反射的激光束与参考激光束叠加,利用干涉条纹的变化来推导出物体表面的高程信息。

2. 三维表面形貌测量三维表面形貌测量是干涉测量方法中的一个重要应用领域。

通过使用相移干涉技术,可以获取到物体表面的三维形貌信息。

相移干涉技术通过改变干涉条纹的相位来实现对物体表面形貌的测量。

3. 全息干涉术全息干涉术是一种高分辨率的干涉测量方法,常应用于光学图像的记录和再现。

通过将物体的三维信息录制在全息图上,并利用光学平台进行复原,可以实现对物体形貌的精确测量。

三、应用于材料测量的干涉测量方法1. 膜厚测量膜厚测量是干涉测量方法中的一个重要应用方向。

利用干涉技术可以测量薄膜的厚度和折射率等参数,从而评估薄膜的性能和质量。

2. 表面粗糙度测量表面粗糙度是材料表面质量的一个重要指标。

通过激光干涉技术,可以实现对材料表面粗糙度的快速测量。

激光束在入射和反射过程中会受到表面粗糙度的影响,从而引起干涉条纹的变化。

3. 液体折射率测量干涉测量方法还可以应用于液体折射率的测量。

光学干涉技术在半导体制造中的应用

光学干涉技术在半导体制造中的应用

光学干涉技术在半导体制造中的应用半导体制造技术是现代电子工业的基石,它的发展直接关系到各类电子器件的性能和可靠性。

光学干涉技术在半导体制造中扮演着至关重要的角色,特别是在光刻、检测和表面加工等关键步骤中。

本文将详细探讨光学干涉技术在半导体制造中的应用,并分析其在未来发展趋势中的潜在影响。

光学干涉技术的基本原理光学干涉技术是利用光波的干涉现象进行测量和分析的技术。

它基于光波的波动性和干涉原理,通过对光波的干涉图样进行分析,可以得到物体的详细信息。

在半导体制造中,光学干涉技术主要应用于光的干涉条纹的测量和分析,以及利用干涉现象进行高精度的表面加工。

光刻技术光刻技术是半导体制造中的关键步骤,它用于将电路图案转移到硅片上。

光学干涉技术在光刻技术中的应用主要体现在干涉光刻和极端紫外光刻两种技术中。

干涉光刻是利用光的干涉原理,通过调整光波的相位差,得到高对比度的干涉图样,从而实现高精度的图案转移。

极端紫外光刻则是利用极端紫外光波的短波长特性,实现高精度的图案转移。

这两种技术都极大地提高了光刻的精度,使得半导体器件的尺寸可以进一步缩小,性能可以进一步提高。

检测技术光学干涉技术在半导体制造中的应用还体现在检测技术中。

通过利用光的干涉原理,可以测量半导体器件的表面形貌、厚度、折射率等参数,从而对器件的质量和性能进行评估。

光学干涉检测技术具有非接触、高精度、快速等优点,是半导体制造中不可或缺的检测手段。

表面加工技术光学干涉技术在半导体制造中的应用还体现在表面加工技术中。

通过利用光的干涉原理,可以实现对半导体器件表面的精确加工,如刻蚀、镀膜等。

光学干涉表面加工技术具有加工精度高、加工质量好等优点,是半导体制造中重要的表面加工技术之一。

未来发展趋势随着半导体器件的尺寸不断减小,对光刻、检测和表面加工等技术的要求也越来越高。

光学干涉技术在这些领域中的应用也将越来越重要。

未来,光学干涉技术的发展趋势主要表现在以下几个方面:1.新型光学干涉技术的研发:如全息光刻、相位光刻等技术的研发,将进一步提高光刻的精度,推动半导体器件的发展。

光电干涉检测技术与系统

光电干涉检测技术与系统

现代光电干涉检测技术与系统——多参数OCT 系统方向现代光电干涉检测技术是光干涉理论和现代光电检测技术、信号处理技术、计算机技术和自动控制原理的综合应用。

激光的出现开创了光干涉检测技术飞速发展的新时代,激光干涉测量被广泛地应用于长度、角度、微观形貌、光谱等领域。

现代光电干涉检测技术正朝着以下几个方向发展:所用光源涵盖了从微光到紫外的所有波段;探测器探测灵敏度和响应度也有了极大的提高;在信号处理方面,在适应环境、消除噪声、误差修正处理、测量数据速度和可靠性等方面有明显提高;光学系统的集成和小型化有明显进展。

其中,OCT (光学相干层析成像)技术具有高分辨率、无介入、无损伤等优点,其分辨率可高达1-10μm ,更被称为“光学活检”,体现了超越传统五大医学成像技术的优势,在医学成像领域有着广阔的发展前景。

传统OCT 系统无法测定光学材料的偏振效应和双折射性质,因而限制了其应用范围。

多参数光学相干层析技术是偏振OCT 的一个分支,它利用偏振光成像,在继承了传统OCT 优点的同时,还具有可检测样品的背散射率、双折射率、光轴分布、折射率、厚度等多种参数的特点,是一种具有广泛应用前景的医学诊断技术。

由于多参数OCT 以提取样品的多种参数为目标,因此其数据处理系统不仅需要对干涉电信号进行放大、解调、滤波等处理,还需要针对不同特性参数设计合适的提取算法,有效、精确地获取样品各类参数分布,以作为进一步形成图像显示的基础。

因此,设计高效的数据处理系统,是研制多参数OCT 的重要环节。

在实际实现阶段,全光纤型偏振OCT 较空间型偏振OCT 器件发挥了更加优良的作用,为方便调整光路,前者的系统光路采用保偏光纤连接,这就使得各光学元器件的光轴无需必在同一水平线上。

同时,最终成品总器件体积更小,更便于发展成为便携式装置。

光电探测器C 宽带光源SLD A/D 光电探测器A A/D A/D 光电探测器BHe-Ne 激光器起偏器光纤偏振开关1×2耦合器2×2耦合器2×2耦合器放大、滤波放大、滤波放大、滤波准直器偏振分束器偏振控制器FPGA USB 计算机光路A 光路C样品台X准直器偏振控制器Y 光学快速扫描延迟线固定反射镜光路B全光纤化多参数OCT 光路结构如上图所示。

光的干涉-精品文档

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02
光的干涉条件
相干光条件
同一波源
01
干涉光必须来自同一波源,这样波源的相干性会影响干涉条纹
的质量。
频率相同
02
来自同一波源的光线必须具有相同的频率,否则它们将无法产
生干涉。
相位差恒定
03
来自同一波源的光线必须具有恒定的相位差,这意味着它们的
振动方向必须相同。
干涉条纹条件
稳定的干涉条纹
为了获得清晰的干涉条纹,需要 确保光线经过的路程差是恒定的 ,这意味着需要使用稳定的实验 装置和精确的控制光源。
相间的干涉条纹。
应用
分振幅干涉在光学实验、光学测 量等领域也有着广泛的应用,如 测量光学表面的形状、光学元件
的精度等。
迈克尔逊干涉仪
01
定义
迈克尔逊干涉仪是一种利用分振幅干涉原理测量光学表面形状和光学元
件精度的干涉仪。
02 03
原理
迈克尔逊干涉仪通过将一束光波分成两束相干光波,分别经过反射镜后 再次相遇,形成明暗相间的干涉条纹。通过测量干涉条纹的变化,可以 推算出光学表面的形状和光学元件的精度。
光线的平行性
为了使干涉条纹更加明显,需要确 保光线具有平行性,这可以通过使 用聚焦透镜或高亮度的光源来实现 。
03
光的干涉类型
分波面干涉
定义
应用
分波面干涉是指两束或多束相干光波 在空间某一点叠加时,形成明暗相间 的干涉条纹的现象。
分波面干涉在光学实验、光学测量等 领域有着广泛的应用,如测量光学表 面的形状、光学元件的精度等。
全息干涉实验
实验原理
全息干涉实验是一种利用全息技术实现的干涉实验,通过 将一束光分成两束相干光波,然后在全息底片上记录它们 之间的干涉图样。
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• 干涉体系特点 : 普通光学仪器是物像关系,在于成象质量的优劣。 干涉仪是以条纹作为量测标准,因此是瞳,窗关系。 光学成象仪器: L入瞳——1个、 L 出瞳——1个(孔栏及象方的象) P入窗——1个、 P 出窗——1个(视栏及物方的象) 干涉系统: L入瞳——1个、 L1、L2出瞳——2个或多个(多光束成象) P1 、P2入窗——2个或多个(特殊情况下两者可能重合, 扬氏干涉,双缝是出瞳及入窗) P出窗——1个
1952年,英国工程师Charles Oatley制造出了第一台扫描电 子显微镜(SEM),可观察三维形貌。电子显微镜是20世纪最 重要的发明之一。
扫描电子显微镜(SEM) 扫描电子显微镜(Scanning Electron Microscope)SEM 是研究材料、生物、微结构的重要设备。
分 辨 率:3.5 nm 最大放大倍数: 18~300,000 × 最大加速电压:30 kV 样品台尺寸:φ152.4 mm
七、信号的数字处理模式(软件处理流程); 1、 干涉系统压电扫描的非线性误差及校正 2、正交化方法在数字波前拟合中的应用
其它 1、每个学生应完成一次文献综述或阅读报告; 2、参加现场教学一次;
一、绪论: 1、干涉体系的应用及特点; • 干涉仪和激光干涉仪。 干涉仪:利用光的干涉原理对各种参数进行精密测量的仪器。 用普通光源:迈氏干涉仪、干涉显微镜、乌氏干涉仪。 激光干涉仪:激光器件与技术与干涉仪相结合的仪器。 数字波面干涉仪:双频激光测长仪、激光测振、用激光光源。 学习该门课牵涉到多门课程。几何光学、物光、电子学、计 算机、数字信号处理。 干涉系统的基本组成:光源及照明系统——干涉体系——观 察系统或光电接收系统——信号处理系统 • 干涉体系的应用及特点 。 具有广泛的应用范围 根据光强变化测量, 直接量:n , l 2 I I I 2 I I cos (n1L1 n2 L2 ) 1 2 1 2 间接量: 几何量:角度、面形(平面度、平直度)、粗糙度。
2.1 表面(微)纳米量级特征参数 2.1.1 表面形貌与波度 2.1.2 表面粗糙度与微观轮廓 2.1.3 物质纳米结构的辨识 2.2 纳米光电测试与横向分辨率之关联 2.3 相干测试技术与纵向分辨率之关联
2.1 表面(微)纳米量级特征参数 2.1.1 表面形貌与波度 面形:
D视场
D大于10mm或以上的 口径; 波度: 两者之间是按相邻的 两波峰或波谷的距离 (波距)来划分的。通常, 波度的波距在lmm到 10mm之间。
三维微观轮廓
• X射线元件、激光器的反射镜窗片、表面粗糙度三维轮廓 同步辐射光学元件、激光陀螺元件 表面纳米结构 等都要求很高的表面质量。
• 表面形貌测量在和纳米技术、生 物技术等学科领域上互相渗透,后 者的发展为前者带来了新的技术手 段和新的工作领域。
精密表面粗糙度二维轮廓
横向分辨率
纵向分辨率
横向分辨率— 系统所能感受到的最小的横向宽度(最小峰谷的宽度) 纵向分辨率— 系统所能感受到的最小的纵向深度(最小峰谷的深度)
1665年,英国科学家罗伯特· 胡克 用他的显微镜观察 “细胞”。
使用可见光作为光源的显微镜,它的分辨率极限是0.2微米。任 何小于0.2微米的结构都没法识别出来。提高显微镜分辨率的途径 之一就是设法减小光的波长,或者,用电子束来代替光。
根据德布罗意的物质波理论,运动的电子具有波动性,而 且速度越快,它的“波长”就越短。如果能把电子的速度加到 足够高,并且汇聚它,就有可能用来放大物体。由于电子的速 度可以加到很高,电子显微镜的分辨率可以达到纳米级。 ( 109 m)。 1938年,德国工程师Ernst Ruska制造出了世界上第一台电子 显微镜。
五、现代干涉光电信号处理技术 1、谐振增强的振动模型及其在纳米测试中的应用 2、微弱信号检测的锁相技术 3、AFM的谐振增强测试系统应用 六、干涉系统应用中的精密扫描与定位系统 1、 压电效应及非线性、迟滞效应; 2、 一维压电扫描系统; 3、 蠕动、冲击式压电直线电机; 4、 多维扫描柔性铰链压电系统;
激光核聚变中的波前在线诊断系统
输出诊断
前端-预放级
自适应光学系统 输入诊断
径向剪切干涉系统
核聚变总体装置
核聚变靶室
傅立叶光学信息处理重构原始波面的流程
仿真的畸变波前 圆瞳的畸变波前 加海明窗后的干涉图
干干干
9 8 7 6 5 4 3 2 1
x 10
6
傅氏变换后频谱 X干干干干干
0 -300
-200
物理量:振动、速度、加速度、力、光学传递函数、膜层厚度、应 变。 激光平面干涉仪:检定平面度及局部误差,菲佐型双光束干涉, 利用目视及照相检测。
数字波面干涉仪:测面形及曲条半经。可达精度:平面—— λ/100、 球面——λ/20。 光机电高度综合仪器,计算机存储信息,消除系统误差。
干涉显微镜:测表面光洁度,膜层厚度。 振动测试的激光测振仪:应用激光干涉测量振动振幅,主要是 基于振动物体位移引起光波位相调制。 瑞利干涉仪:利用二个气室,求出折射率之差。精度可达10-8。
扫描探针显微镜
显微镜横向分辨率提高历史的示意图
2.3 相干测试技术与纵向分辨率之关联 近十几年来高科技领域已达到微纳尺度,对测量技术提出了更高 的要求,迫切需要开拓新的手段。 扫描隧道显微镜、原子力显微镜研制成功,测量探针与被测器件 之间的原子力来测量微小尺寸。 这些系统都需要达到纳米甚至亚纳米级的纵向分辨力。为了准确 测出这些纳米尺度测量显微镜的精度,还必须溯源到光的波长上, 因此迫切需要精度达到纳米和亚纳米级的干涉仪来实现纳米尺度的 测量和标定。 横向分辨率高不等于纵向分辨率高,必须应用不同的探测手段 实现。
程系浙 所光大 学光 工电
研究生课程
课程内容简介
一、绪论: 1、干涉体系的应用及特点; 2、干涉测试系统中的横向、纵向分辨率及其关联; 3、干涉体系设计及瞳窗理论; 二、新颖干涉传感器 1. 干涉系统的空间和时间相干性; 2. 菲索干涉微位移传感系统; 3. 偏振分光器件及其干涉微位移传感器; 4. 双焦干涉微位移传感器; 5. 点衍射干涉微位移传感技术; 6. 剪切干涉系统; 7. 米勒系统;
三、精密长度及振动测量体系设计 1、激光干涉测长系统的工作原理; 2、激光光源的模式选择; 3、干涉体系的四倍频及移相; 4、激光测振及纳米测试技术中的谐振增强技术;
四、干涉微位移检测传感器的信号噪声及抑制技术: 1、微弱信号检测中的噪声; 2、电子共模抑制技术; 3、光外差干涉方法; 4、条纹扫描数字干涉系统; 5、空间位相调制技术;
分辨率:人眼或仪器 能分辨物体的最小间距(角分辨)。 人眼分辨率:在明视距离内只拥有1分的分辨率或0.1mm。 显微镜:最高1600倍放大率,实际上有象差,受衍射极限影响.

分划板
D
0.61 1.22 L n NA nD
1 D 2 L
NA
纵向
5500 A
横向
L
= 0.3m 所以,传统光学显微镜分辨率极限是 2
-100
0
100
200
300
重构后波前
消跳变
18 16 14 12 10 8 6 4 2
x 10
5
滤波移频后频谱
干干干干干X干干干干
0 -300
-200
-100
0
100
200
300
图3-30移频后的 方向的频谱图。
具有高的精度及灵敏度。 灵敏度(分辨率)仪器能感受到的最小变化量。 普通干涉仪目视:一般,在良好的实验室环境下—λ/10。 现在原子力量微镜:可以测量样品每个原子之间的间隔。分辨率可 ≤1A0.2A0 并可用计算机实时检测勾划出三维轮廓图。 精度:表征仪器对测量值的可靠程度,现原子力量微镜可达0.2A0 。 国内外:精度要有绝对的标准。 具有很大的测量范围。 60 年代前未有激光,最大测量范围受光源谱线限制。 Kr86 相干长度约 700㎜。 激光干涉仪: 激光方向性好,其2 约几个毫弧度。 能量密度高,红宝石激光可达104W,用于激光核聚变,1013 W 以上 单色性好=5×10-8 相干性好(时间相干性及空间相干性):相干 长度精度高,速度18M/min 。 测量速度大为加快。 条纹对比度好,已有测量范围从0~60m。
为提高分辨率,减小波长 从可见光——紫外光—— x射线 1nm 10nm 而更短的波长、电子射线 0.001nm
公元13世纪,出现了的眼镜——一种玻璃制造的透镜片。 16世纪末,荷兰的眼镜商詹森(Zaccharias Janssen)制 造的是第一台复合式显微镜。放大倍数1020=200倍。显微镜 和望远镜的前身。
表面粗糙度 :
视场在几十个m— 至几个mm。
PV = 0.213300 () RMS = 0.044035 ()
2.1.2 表面粗糙度与微观轮廓 近代高科技对表面形貌的高要求。 • 硅片表面粗糙度对集成电路的电 阻、电容、成品率影响很大; • 磁盘表面粗糙度影响到耐磨、信 号的读出幅度、信噪比等;
h h cos

cos
纵向分辨率——1 m 纵向分辨率——20 m
数字波面干涉系统
用于 宏观面形检测,纵向分辨率到nm 量级,波前RMS精度可达 1/300波长。
测量光路系统、数据处理方法等可以用于纵向的微位移检测参考。
干涉显微镜(迈克尔逊) Michelson,Mirau,Linik,Nomarski 测量的工作原理就是利用双光束干涉。CCD面阵接收器三维显示。 利用干涉检测的轮廓仪(微观检测,具有统计规律) 可以检测纵向高度,纵向分辨率到0.1nm ,横向(0.5-1) m 。
在电子显微镜下病毒(蚊子)
扫描隧道显微镜(STM) 用电子代替光,这或许是一个反常规的主意。1983年,IBM 公司苏黎世实验室的两位科学家Gerd Binnig和Heinrich Rohrer发明了扫描隧道显微镜(STM)。这种显微镜比电子显 微镜更激进,它完全失去了传统显微镜的概念。
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