【CN109930134A】一种引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法【专利】
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(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 201910319448.2
(22)申请日 2019.04.19
(71)申请人 中南大学
地址 410083 湖南省长沙市岳麓区麓山南
路932号
(72)发明人 姜超 余延涛 王春齐 黄小忠
杜作娟
(74)专利代理机构 长沙永星专利商标事务所
(普通合伙) 43001
代理人 何方
(51)Int.Cl.
C23C 18/06(2006.01)
C23C 18/12(2006.01)
C23C 28/00(2006.01)
B82Y 40/00(2011.01)
C23C 14/18(2006.01)C23C 14/24(2006.01)
(54)发明名称一种引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法(57)摘要本发明公开了一种引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,包括以下步骤:(1)将掩模板固定于基底材料表面,四周密封;(2)在基底上形成诱导层,然后去除掩模板;(3)将带图案诱导层的基底放入水热反应釜中,在水热反应中诱导生长与基底图案一致的二氧化钛纳米棒阵列;(4)对二氧化钛纳米棒阵列间隙进行选择性填充,采用真空蒸镀工艺,对二氧化钛纳米棒阵列制作上电极,得到用于传感器、能源存储单元或者电子电路的器件。本发明通过引入掩模板,生长导电诱导层,从而控制二氧化钛纳米棒阵列的垂直生长,防止二氧化钛纳米棒发生倾斜和搭接,得到多种图案规则排布的阵列结构,满足能源存储器件,特殊传感器和电子电路器件对二氧
化钛结构的质量要求。权利要求书1页 说明书3页 附图1页CN 109930134 A 2019.06.25
C N 109930134
A
权 利 要 求 书1/1页CN 109930134 A
1.一种引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)将基底和掩模板清洗干净,将掩模板固定于基底材料表面,四周密封;
(2)通过沉积的方法将设计的包含微纳尺度的掩模板图案转移到基底上,以在基底上形成诱导层,然后去除掩模板,得到带图案诱导层的基底;
(3)将步骤(2)得到带图案诱导层的基底放入水热反应釜中,在水热反应中诱导生长与基底图案一致的二氧化钛纳米棒阵列;
(4)对二氧化钛纳米棒阵列间隙进行选择性填充,采用真空蒸镀工艺,在二氧化钛纳米棒阵列制作上电极,得到用于传感器、能源存储单元或者电子电路的器件。
2.根据权利要求1所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述掩模板采用阳极氧化AAO模板、金属掩模板中的一种。
3.根据权利要求1所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,步骤(1)中,所述基底采用玻璃、二氧化硅、蓝宝石、硅片和碳化硅中的一种。
4.根据权利要求1所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,步骤(2)中,所述诱导层为导电材料,采用掺杂二氧化锡、氧化铟锡、石墨烯、二硫化钼中的一种或者多种。
5.根据权利要求4所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,所述诱导层为掺氟二氧化锡、氧化铟锡,采用磁控溅射进行沉积;
所述诱导层为石墨烯、二硫化钼,采用旋涂工艺进行沉积;
所述诱导层为氧化铟锡、二硫化钼,采用物理气相沉积。
6.根据权利要求1所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,步骤(3)中,水热反应中,控制钛酸四丁酯的浓度为0.03~0.08mol/L,盐酸溶液的浓度为4~8mol/L,保温温度为120~160℃,保温时间为60~360min。
7.根据权利要求1所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,步骤(3)中,所述二氧化钛纳米棒的直径为10~200nm,高度为200~6000nm。
8.根据权利要求1所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,步骤(4)中,对二氧化钛纳米棒阵列间隙进行选择性填充PMA或者PVDF。
9.根据权利要求8所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,制作能源存储单元时,需要对二氧化钛纳米棒阵列间隙进行填充,以提高储能器件的介电常数;
制作气敏传感器时,不需对二氧化钛纳米棒阵列间隙进行填充,使得环境气氛和二氧化钛可以充分接触,以提高传感器的灵敏度;
制作电子电器器件时,如忆阻器存储单元或者仿神经计算单元,可以填充绝缘介质,也可以不填充,通过对器件整体封装来保护功能单元不受环境水/氧影响。
10.根据权利要求1所述的引入掩膜板制备二氧化钛纳米棒阵列的方法,其特征在于,步骤(5)中,所述真空蒸镀工艺参数为:蒸镀本底真空10-2~10-4Pa,电流8~15mA,时间3~6min。
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