--薄膜晶体管液晶显示器技术简介
tft 屏原理

tft 屏原理
TFT屏原理概述
TFT(薄膜晶体管)屏是一种广泛应用于显示设备中的液晶屏幕。
它利用了液晶分子的光电效应和薄膜晶体管的电控效应来实现图像的显示。
TFT屏是由数百万个小型液晶像素组成的。
每个像素都有一个液晶分子,这些液晶分子可通过外部电场来控制其取向和透光性质。
在TFT屏技术中,液晶分子一般被夹在两个透明、平整的玻璃基板之间。
玻璃基板上的每个像素都与一个薄膜晶体管相连。
薄膜晶体管是TFT屏的关键部件之一,它起到了像素的开关控制作用。
每个像素都包含一个薄膜晶体管,通过控制薄膜晶体管的导通与否,可以控制液晶分子是否被电场激活。
当薄膜晶体管导通时,液晶分子会取向对光波的旋转和透射。
当薄膜晶体管断开时,则不会对光波产生影响。
为了实现像素的精确控制,每个像素都与一个细小的电子驱动器相连,这个驱动器可以提供准确的电压信号。
电压信号会通过相应的薄膜晶体管,进而传递给液晶分子。
根据电压信号的强弱和极性,液晶分子的取向和隔离状态会不同,最终形成一个个由像素组成的图像。
此外,TFT屏还使用了后光源技术来实现背光照明。
背光源通常是由一组发光二极管(LED)组成的,这些LED会发出均
匀的光线。
通过液晶分子的取向和透光性质,背光可以经过像素区域变得可见,从而形成图像。
总的来说,TFT屏通过控制薄膜晶体管和液晶分子的状态,利用光电效应和电控效应来实现图像的显示。
它具有响应速度快、视角广、色彩鲜艳等特点,因此被广泛应用于各类显示设备中。
TFT液晶显示原理

TFT液晶显示原理1.薄膜晶体管技术:薄膜晶体管(Thin-Film Transistor,TFT)是一种采用薄膜材料制作的电子器件,具有微小尺寸和快速响应速度的特点。
在TFT液晶显示器中,每个像素点都需要一个晶体管来控制其亮度和颜色。
晶体管负责将电信号转化为液晶层中对应像素点的光学信号。
TFT液晶显示器的晶体管通常采用硅薄膜晶体管(Usually amorphous silicon,a-Si)制作。
制作方法可以简单地概括为:在玻璃基板上依次沉积绝缘层、硅薄膜、导电层,并完成晶体管的元件结构。
这样,每个像素点都被一个晶体管控制,可以独立地改变像素点的亮度和颜色。
2.液晶显示技术:液晶(Liquid Crystal,LC)是一种介于固体和液体之间的物质状态,具有一定的流动性和透明性。
TFT液晶显示器中常用的液晶材料是向列型液晶(Nematic Liquid Crystal,NLC)。
液晶显示的原理是:利用电场的作用,改变液晶分子的排列状态,从而改变透过液晶层的偏振光的方向,进而控制像素点的亮度和颜色。
液晶分子在无电场作用下呈现螺旋排列结构,电场的作用可以使其产生旋转或倾斜移动,从而使得透过液晶层的偏振光发生改变。
这种光学特性使得液晶分子可以根据电压的大小和方向改变透过偏振片的光的方向,实现显示图像。
TFT液晶显示器中,每个像素点由红、绿、蓝三种基色的液晶分子组成,液晶分子在电场的作用下分别改变透过红、绿、蓝三种基色滤光片的偏振光的方向,从而合成出所需的颜色。
利用液晶分子的电光特性,可以通过适当控制液晶分子的排列方向和电场的大小实现不同亮度和颜色的显示。
总结起来,TFT液晶显示原理是利用薄膜晶体管技术控制液晶层中每个像素点的亮度和颜色,通过改变液晶分子的排列结构和透过偏振光的方向实现显示图像。
TFT液晶显示器因其高分辨率、色彩饱和度和快速响应等特点,在各个领域得到了广泛的应用。
tft lcd工作原理

tft lcd工作原理
TFT(薄膜晶体管)LCD(液晶显示器)是一种基于薄膜晶体
管技术的液晶显示器。
其工作原理如下:
1. 像素结构:TFT LCD由一系列的像素组成,每个像素都包
含了红、绿、蓝三个基色的液晶单元和一个薄膜晶体管。
液晶单元根据电压的变化来控制光的透过程度,从而实现颜色的显示。
薄膜晶体管则负责控制电流的开关。
每个像素中的液晶单元和薄膜晶体管都被附着在透明的玻璃基板上。
2. 薄膜晶体管的作用:薄膜晶体管是TFT LCD的核心部件,
它负责控制电流的开关。
当电流通过薄膜晶体管时,它会改变液晶单元的电场,从而改变其透光性质。
薄膜晶体管的开关控制是通过将其上的栅极电压调高或调低来实现的,进而控制液晶单元的透光程度。
3. 光的透过过程:当液晶单元处于关闭状态时,它不能透过光,显示为黑色。
当液晶单元处于开启状态时,根据电场的变化,液晶分子会重新排列,使光线通过透射,显示为不同的颜色和亮度。
4. 控制信号:为了控制TFT LCD的每个像素,需要向每个像
素提供控制信号。
这些控制信号是通过一些线路和电路驱动器传递的,以确保每个像素都能准确显示所需的颜色和亮度。
总结来说,TFT LCD的工作原理是通过控制薄膜晶体管来调
节液晶单元的透光性质,从而显示不同的颜色和亮度。
通过像
素的排列和控制信号的传递,TFT LCD可以呈现出清晰、亮丽的图像。
低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示技术(LTPSTFT

低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示技术(LTPS TFT北方彩晶集团谷至华2005年1月由于多晶硅电学性能上的优势,可以实现玻璃基板上的驱动集成(CHIP ON GLASS 简写COG),系统集成(SYSTEM ON GLASS 简写SOG),可以现实更高分辨率,更快的响应速度,稳定性,可靠性更高的显示器件,低温多晶硅是TFT-LCD产业发展的方向。
该领域涉及主要产品及技术主要产品:手机、数码相机、便携视听产品,车载移动终端,高级计算机显示器等。
技术:低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示器(Lp-Si TFT-LCD)技术涉及集成电路设计、信号转换、薄膜技术、液晶显示技术、激光技术、界面处理技术等,低温多晶硅薄膜晶体管液晶显示器是目前世界上最新的技术,代表了一个国家的平板显示产业的技术水平。
1.技术及产品发展现状LTPS TFT物理电学特性较a-Si TFT性能更加优异,具有更高的集成度,可以实现驱动电路的集成,甚至计算机系统的集成,外接元件大量减少,器件的性能得到大幅度提升,更加稳定,更加可靠,而器件的成本会更加低。
是平板显示技术的发展方向。
但是由于技术难度比较大,特别是大面积激光退火技术具有非常大的工艺挑战性。
目前只有日本东芝和松下在新加坡投资的4.5五代线可以生产17英寸的多晶硅液晶显示器,其他公司基本上只能处理手机和移动终端的小尺寸的多晶硅。
多晶硅TFT-LCD还是投影显示领域的核心技术之一。
是数字化电影院建设的关键部件,在教育、办公和大屏幕投影家庭影院领域也有巨大的市场。
随着LTPS技术的逐渐成熟,在未来的10年中,LTPS将成为平板显示领域的核心技术,有机电致发光,厚膜无机电致发光都需要LTPS技术,大尺寸液晶电视也期待着LTPS的应用。
LTPS作为平板显示器产业的重大潜在核心技术受到国际上科研和产业界的高度重视。
通过对早期TFT-LCDa-Si TFT生产线改造,投入少,可以使产业迅速升级。
目前国际上3代一下的非晶硅TFT-LCD生产线基本上都已经改造成为多晶硅生产线。
TFT-LCD原理与设计

TFT-LCD原理与设计
TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器)是一种广泛使用于平板
电视、电脑显示器、手机等设备中的液晶显示技术。
其工作原理是利用薄膜晶体管和液晶分子的特性实现图像显示。
TFT-LCD的结构由多个层次组成,包括色彩滤光片、透明电极、薄膜晶体管和液晶层等。
色彩滤光片用于调节液晶层的颜色显示,透明电极用于施加电场,而薄膜晶体管则负责控制电流的流动。
这些层次协同工作,使得液晶分子在电场作用下产生偏转,并改变光的透过率,从而形成显示图像。
TFT-LCD的工作原理基于液晶的光电效应。
液晶分子具有两
种状态:向列方向对齐的“ON”态和与列方向垂直的“OFF”态。
当施加电场时,液晶分子会发生扭曲,产生向与列方向垂直的“ON”态。
通过调节电场的强弱和方向,可以控制液晶分子的
偏转程度,进而控制透过液晶层的光的亮度和颜色。
TFT-LCD还需要使用后端的驱动电路来控制薄膜晶体管的导
通和断开,以及控制液晶分子的偏转。
这些驱动电路通常由晶体管和电容器组成,能够实现高速刷新和精确的图像显示。
在TFT-LCD的设计中,需要考虑多个因素,包括像素密度、
色彩还原、亮度和对比度等。
为了提高图像质量,设计者需要选择合适的材料、优化电流和电场的控制参数,并采用高精度的光学和电子元件。
总之,TFT-LCD利用薄膜晶体管和液晶分子的特性,通过控
制电场来实现图像显示。
其设计需要考虑多个因素,以实现高质量的图像效果。
薄膜晶体管液晶显示器技术简(精品pdf)

摘要: TFT-LCD结构。
薄膜晶体管液晶显示器由显示屏、背光源及驱动电路三大核心部件组成。
TFT-LCD显示屏,包括阵列玻璃基板、彩色滤光膜以及液晶材料。
阵列玻璃基板制备工艺是:用三个光刻掩膜板,首先在玻璃基板上连续淀积ITO膜(厚20~50n m)和Cr膜(厚50~100nm),并光刻图形,然后连续淀积绝缘栅膜SiN:(厚约400n m),再本征a-Si(厚50~100n m)和n+a-Si层,并光刻图形(干法)淀积Al膜,光刻漏源电极,最后以漏源电极作掩膜,自对准刻蚀象素电极上的Cr膜和TFT源漏之间n+a-Si膜。
这就是TFT反交错结构的简单制造工艺。
下一步是:在玻璃基板上涂布聚酰亚胺取向层,用绒布沿一定方向摩擦,使取向层表面形成方向一致的微细沟道,控制液晶分子定向排列。
在保证两块玻璃基板上下取向槽沟的槽方向正交的条件下,将两块玻璃基板上下密封成一个盒,盒间隙一般只有几个微米(如10μm),然后抽真空封灌液晶材料。
彩色滤光膜(Color Filter)简称CF。
TFT-LCD的彩色显示,实际是通过阵列基板的光,照射在彩膜上,显示屏就能显示颜色。
彩色滤光膜(如同着色的玻璃纸)可以制作在透明的电极之上(透明电极和液晶层之间),也可制作在透明电极之下(透明电极和玻璃之间),上下玻璃基板与CF膜对准精度非常高,要求CF膜黑白矩阵正好对准ITO象素电极的边缘,CF膜附着在液晶盒表面,然后用两片无色偏振片夹住液晶盒。
彩色显示原理可以简述为:把TFT-LCD的一个象素点分割成红、绿、蓝(R、G、B)三基色,并对应CF膜的RGB,起光阀作用的LCD对透过CF膜的三色光量,进行平衡、调节得到所要的彩色。
穿过CF膜的入射光如果漏射,则会影响TFT-LCD的对比度,所以在间隙处要设置遮光的黑矩阵(Black Matrix)简称BM。
为了稳定性和平滑性,使用丙烯基树脂和环氧树脂制成厚0.5~2μm的保护层(oe cota)简称OC。
tft lcd原理

tft lcd原理
TFT LCD(薄膜晶体管液晶显示器)是一种广泛用于平板电脑、智能手机、电视和计算机显示器等设备的平面显示技术。
下面是TFT LCD的基本原理:
1. 液晶材料:TFT LCD的基础是液晶材料。
液晶是一种介于液体和固体之间的有机分子,它在电场的作用下能够改变光的透过性。
液晶被封装在两块平板玻璃之间,这两块平板上有透明的电极。
2. 薄膜晶体管(TFT):TFT是薄膜晶体管的缩写,它是一种用于控制液晶像素的半导体器件。
每个像素都配备了一个TFT,用于控制电流的流动,从而精确地调节液晶分子的方向和透过性。
3. 像素结构:TFT LCD的屏幕由许多微小的像素组成。
每个像素由三个亮度可调的基本颜色(红、绿、蓝)的亮度调光器组成。
这三个颜色的不同亮度组合可呈现出各种颜色。
4. 背光源:TFT LCD需要一种背光源,以照亮屏幕上的像素。
常见的背光源包括冷阴极荧光灯(CCFL)和LED。
现代的LCD大多采用LED作为背光源,因为LED背光具有更低的功耗和更长的寿命。
5. 控制电路:TFT LCD屏幕上还有一套复杂的控制电路,用于接收来自计算机或其他设备的信号,并将其转化为适合液晶显示的信号。
6. 工作原理:当电流通过TFT时,TFT会控制液晶分子的排列,调节其透明度。
通过调整每个像素中红、绿、蓝三个亮度调光器的亮度,屏幕可以呈现出几百万种不同的颜色,形成图像。
总体来说,TFT LCD的原理是通过电流控制液晶分子的排列,从而调节光的透过性,最终呈现出清晰的图像。
TFT-LCD简介

TFT-LCD 简介TFT ﹕(Thin-Film Transistors)薄膜晶体管LCD﹕(Liquid-Crystals Display)液晶显示器TFT-LCD发明于1960年经过不断的改良在1991年时成功的商业化为笔记型计算机用面板﹐从此进入TFT-LCD的世代。
TFT-LCD 结构:简单的说TFT-LCD面板的基本结构为两片玻璃基板中间夹住一层液晶。
前端LCD面板贴上彩色滤光片﹐后端TFT面板上制作薄膜晶体管(TFT) 。
当施电压于晶体管时﹐液晶转向﹐光线穿过液晶后在前端面板上产生一个画素。
背光模块位于TFT-Array面板之后负责提供光源。
彩色滤光片给予每一个画素特定的颜色。
结合每一个不同颜色的画素所呈现出的就是面板前端的影像。
TFT Pixel Element:TFT面板就是由数百万个TFT device以及ITO((In Ti Oxide),此材料为透明导电金属)区域排列如一个matrix所构成,而所谓的Array就是指数百万个排列整齐的TFT device之区域,此数百万个排列整齐的区域就是面板显示区。
下图为一TFT画素的结构不论TFT板的设计如何的变化,制程如何的简化,其结构一定需具备TFT device和控制液晶区域(光源若是穿透式的LCD,则此控制液晶的区域是使用I TO,但对于反射式的LCD是使用高反射式率的金属,如Al等)TFT device是一个开关器,其功能就是控制电子跑到ITO区域的数量,当ITO区域流进去的电子数量达到我们想要的数值后,再将TFT device关掉,此时就将电子整个关(Keep)在ITO区域.上图为各画素点指定的时间变化﹐由t1到tn闸极驱动IC持续选择开启G1﹐使得源极驱动IC以D1、D2到Dn的顺序对G1上的TFT画素充电。
tn+1时﹐闸极驱动I C再度选择G2﹐源极驱动I C再D1开始依序选择。
上图可以表达几件事情:液晶站立的角度越垂直,越多的光不会被液晶导引,不同角度的液晶站立角度会导引不同数量的光线,以上面的例子来看,液晶站立角度越大,则可以穿透的光线越弱。
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薄膜晶体管液晶显示器技术简介15英吋的TFT-LCD薄膜晶体管液晶显示器英文名是Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,TFT-LCD 是英文字头的缩写。
薄膜晶体管液晶显示器技术是一种微电子技术与液晶显示器技术巧妙结合的技术。
把单晶上进行微电子精细加工的技术,移植到在大面积玻璃上进行薄膜晶体管(TFT)阵列的加工,再将该阵列基板与另一片带彩色滤色膜的基板,利用与业已成熟的液晶显示器(LCD)技术,形成一个液晶盒,再经过后工序如偏光片贴覆等过程,最后形成液晶显示器件。
TFT-LCD(薄膜晶体管液晶显示器, Thin film transistor liquid crystal display)是多数液晶显示器的一种,它使用薄膜晶体管技术改善影象品质。
虽然TFT-LCD被统称为LCD,不过它是种主动式矩阵LCD。
它被应用在电视、平面显示器及投影机上。
简单说,TFT-LCD皮肤可视为两片玻璃基板中间夹着一层液晶,上层的玻璃基板是与彩色滤光片(Color Filter)、而下层的玻璃则有晶体管镶嵌于上。
当电流通过晶体管产生电场变化,造成液晶分子偏转,藉以改变光线的偏极性,再利用偏光片决定像素(Pixel)的明暗状态。
此外,上层玻璃因与彩色滤光片贴合,形成每个像素(Pi xel)各包含红蓝绿三颜色,这些发出红蓝绿色彩的像素便构成了皮肤上的图像画面。
TFT-LCD结构。
薄膜晶体管液晶显示器由显示屏、背光源及驱动电路三大核心部件组成。
TFT-LCD显示屏,包括阵列玻璃基板、彩色滤光膜以及液晶材料。
阵列玻璃基板制备工艺是:用三个光刻掩膜板,首先在玻璃基板上连续淀积ITO膜(厚20~50n m)和Cr膜(厚50~100nm),并光刻图形,然后连续淀积绝缘栅膜SiN:(厚约400n m),再本征a-Si(厚50~100n m)和n+a-Si层,并光刻图形(干法)淀积Al 膜,光刻漏源电极,最后以漏源电极作掩膜,自对准刻蚀象素电极上的Cr膜和TFT源漏之间n+a-Si膜。
这就是TFT反交错结构的简单制造工艺。
下一步是:在玻璃基板上涂布聚酰亚胺取向层,用绒布沿一定方向摩擦,使取向层表面形成方向一致的微细沟道,控制液晶分子定向排列。
在保证两块玻璃基板上下取向槽沟的槽方向正交的条件下,将两块玻璃基板上下密封成一个盒,盒间隙一般只有几个微米(如10μm),然后抽真空封灌液晶材料。
彩色滤光膜(Color Filter)简称CF。
TFT-LCD的彩色显示,实际是通过阵列基板的光,照射在彩膜上,显示屏就能显示颜色。
彩色滤光膜(如同着色的玻璃纸)可以制作在透明的电极之上(透明电极和液晶层之间),也可制作在透明电极之下(透明电极和玻璃之间),上下玻璃基板与CF膜对准精度非常高,要求CF膜黑白矩阵正好对准ITO象素电极的边缘,CF膜附着在液晶盒表面,然后用两片无色偏振片夹住液晶盒。
彩色显示原理可以简述为:把TFT-LCD的一个象素点分割成红、绿、蓝(R、G、B)三基色,并对应CF膜的RGB,起光阀作用的LCD对透过CF膜的三色光量,进行平衡、调节得到所要的彩色。
穿过CF膜的入射光如果漏射,则会影响TFT-LCD的对比度,所以在间隙处要设置遮光的黑矩阵(B lack Matrix)简称BM。
为了稳定性和平滑性,使用丙烯基树脂和环氧树脂制成厚0.5~2μm的保护层(oe cota)简称OC。
然后在这个保护层上面形成共用电极,即透明电极膜。
BM层通常是由金属铬(Cr)制作,为了降低表面反射,也有用氧化铬(CrOx)或树脂。
金属铬厚度约为1000~1500埃,用树脂、染料或颜料,作为着色层来着色。
每个象素点的着色图形,因TFT-LCD的用途而不同。
如可按条形、玛赛克形、三角形等排列。
CF膜的特性用透过率、色纯度、对比度以及低反射化表示,所以对CF膜的要求是:高透过率和色纯度;高对比度和平整性以及极低的扩散反射。
一.磁控溅射(MCS)溅射是指在反应室中,被电离的正离子在暗区电场的加速下撞击阴极靶,使靶材溅射而淀积在基板上形成薄膜。
磁控溅射(MCS)则是指在阴极靶背后加装磁场,使二次电子在洛仑兹力的作用下被束缚在靶表面。
延长二次电子运动轨迹,使产生更多的正离子来轰击靶,同时消耗了电子能量,具有淀积速率高和温度低两大优点。
MCS 在TFT-LCD 生产中,用于淀积栅电极,源/漏电极和铟锡氧化物(ITO)像素电极。
也用于彩色滤光片(CF)中的淀积,如黑色矩阵和ITO 共用电极的淀积。
淀积的材料则用Ta, Cr, MoTa, MoW, MoAlNd 等。
对淀积工艺的要求是:电阻率低,厚度均匀,光滑,和底层粘附好,台阶覆盖好,应力小,沾污少,不形成小丘,电迁移率小,不起弧等。
目前TFT-LCD 生产使用的MCS 设备供应商有ULVAC,Unaxis, AKT 等公司。
其中ULVAC 公司在2006 年占全部市场的94%。
靶的供应商则有NIKKO 公司。
一条7 代生产线就需要8 台MCS 设备。
每台的价格大约为1050 万美元。
目前TFT-LCD 生产使用的MCS 设备供应商有ULVAC,Unaxis, AKT 等公司。
其中ULVAC 公司在2006 年占全部市场的94%。
靶的供应商则有NIKKO 公司。
一条7 代生产线就需要8 台MCS 设备。
每台的价格大约为1050 万美元。
液晶材料。
据不完全统计,可以作液晶材料的高分子化合物,已超过1万种。
用一种液晶材料通常很难满足器件要求的温度范围、弹性系数、介电常数、折射率各向异性以及粘度等主要技术指标,工程上必须用混合液晶来调制物理性能。
常用的具有代表性的液晶材料,按分子排列方向不同可分成三大类:一类是向列相液晶。
这种液晶材料,分子长轴平行,分子除转动滑动外,还可以上下移动;二是胆甾相液晶。
这种液晶材料,分子在不同的平面上取向,在同一平面上,分子长轴平行各平面的指向矢,并逐层扭转呈螺旋变化;三是近相晶液晶。
这种液晶材料,分子排列为层状,各层的分子长轴平行,可以相互平行移动,但分子在层与层之间不能自由滑动。
液晶材料的主要特点是:具有细长分子结构,在和分子指向矢垂直和平行两个方向,其层电率、介电常数、折射率均不相同,并随温度和驱动频率等外界条件而变化。
另外,折射率各向异性大,在产生同样光学效应的情况下,可以使液晶盒变薄。
相同电压下的电场强度就能加快液晶盒的响应速度。
TFT-LCD背光源。
液晶本身并不发光,外部必须施加照射光,这种外部照射光称为背光源。
液晶显示器的背光源,按液晶显示面与光源的相对位置,大体上可分为边缘式、直下式和自发光式三种。
白炽灯、白卤素灯为点光源,荧光灯(热阴极、冷阴极)为线光源,电致发光(EL)以及矩阵式发光二极管为面光源。
边缘式背光源是在显示区的侧面,装配线光源的荧光灯。
为了确保显示区亮度的均匀性,边缘式背光源均采取集光和导光措施。
集光是为有效地使入射光能从一个侧面射出去,导光是将集光射出的光进行反射,使之成为平面光源;直下式背光源是在显示区的正下方,装配1只或几只并排的冷阴极灯,在冷阴极灯的上面同时装配漫散射板,以消除冷阴极灯造成的斑点;自发光式背光源是在显示区的下方,装配电致发光板。
电致发光为面发光,可整面均匀发光且没有斑点,发光颜色为绿、蓝、白,亮度为30~100尼特。
TFT-LCD背光源的发展趋势是:大画面、高亮度、广视角以及薄型化、轻量化、低功耗化和低价格化。
TFT-LCD驱动电路。
为了显示任意图形,TFT-LCD用m×n点排列的逐行扫描矩阵显示。
在设计驱动电路时,首先要考虑液晶电解会使液晶材料变质,为确保寿命一般都采用交流驱动方式。
已经形成的驱动方式有:电压选择方式、斜坡方式、DAC方式和模拟方式等。
由于TFT-LCD主要用于笔记本电脑,所以驱动电路大致分成:信号控制电路、电源电路、灰度电压电路、公用电极驱动电路、数据线驱动电路和寻址线驱动电路(栅极驱动I C)。
上述驱动电路的主要功能是:信号控制电路将数字信号、控制信号以及时钟信号供给数字IC,并把控制信号和时钟信号供给栅极驱动IC;电源电路将需要的电源电压供给数字IC和栅极驱动IC;灰度电压电路将数字驱动电路产生的10个灰度电压各自供给数据驱动;公用电极驱动电路将公用电压供给相对于象素电极的共用电极;数据线驱动电路将信号控制电路送来的RGB信号的各6个比特显示数据以及时钟信号,定时顺序锁存并续进内部,然后此显示数据以6比特DA变换器转换成模拟信号,再由输出电路变换成阻抗,供给液晶屏的数据线;栅极驱动电路将信号控制电路送来的时钟信号,通过移位寄存器转换动作,将输出电路切换成ON/OFF电压,并顺次加到液晶屏上。
最后,将驱动电路装配在TAB(自动焊接柔性线路板)上,用ACF(各向异性导电胶膜)、TCP(驱动电路柔性引带)与液晶显示屏相连接。
TFT-LCD工作原理。
首先介绍显示原理。
液晶显示的原理基于液晶的透光率随其所施电压大小而变化的特性。
当光通过上偏振片后,变成线性偏振光,偏振方向与偏振片振动方向一致,与上下玻璃基板上面液晶分子排列顺序一致。
当光通过液晶层时,由于受液晶折射,线性偏振光被分解为两束光。
又由于这两束光传播速度不同(相位相同),因而当两束光合成后,必然使振光的振动方向发生变化。
通过液晶层的光,则被逐渐扭曲。
当光达到下偏振片时,其光轴振动方向被扭曲了90度,且与下偏振片的振动方向保持一致。
这样,光线通过下偏振片形成亮场。
加上电压以后,液晶在电场作用下取向,扭曲消失。
这时,通过上偏振片的线性偏振光,在液晶层不再旋转,无法通过下偏振片而形成暗场。
可见液晶本身不发光,在外光源的调制下,才能显示,在整个显示过程中,液晶起到一个电压控制的光阀作用。
TFT-LCD的工作原理则可简述为:当栅极正向电压大于施加电压时,漏源电极导通,当栅极正向电压等于0或负电压时,漏源电极断开。
漏电极与ITO象素电极连结,源电极与源线(列电极)连结,栅极与栅线(行电极)连结。
这就是TFT-LCD的简单工作原理。
TFT-LCD的关键技术。
TFT-LCD的关键技术很多,主要有以下几个大的方面:一是提高开口率技术。
开口率指TFT-LCD显示屏光透过部分和不透过部分之比,开口率越大,亮度越高。
影响开口率的主要是栅和源总线宽度、TFT尺寸、上下基板对盒精度、存贮电容尺寸及黑矩阵尺寸等。
为了提高开口率,采取的办法是:将黑白矩阵和彩膜都做在TFT基板上,此办法避免了对盒精度引起的开口率下降,但成品率不是很高,成本也会相应加大。
另外就是栅源总线,采用集成电路微加工技术。
90年代TFT矩阵微加工约10μm,开口率为35%,微加工达到5μm时,开口率为80%。