锗的性质
锗元素的性质及应用

锗元素的性质及应用锗是一种灰白色的金属元素,化学符号为Ge,原子序数为32,在周期表中属于碳族元素。
锗的性质及应用主要表现在以下几个方面:1. 物理性质:锗具有比较高的熔点(937.4)和沸点(2830),相对密度为5.32g/cm³。
它是一种半导体材料,具有优良的电导率,在室温下电导率约为电解质的10⁻⁴倍。
2. 化学性质:锗具有较强的化学惰性,不溶于大部分常见的酸和碱溶液。
然而,在浓硝酸和浓氢氟酸中,锗会被氧化为Ge(IV)的离子形式。
此外,锗能与氧气发生反应生成氧化锗(GeO₂)。
3. 热稳定性:锗的热稳定性较好,它可以在高温下长时间保持物理和化学属性的稳定性。
这使得锗常常被用于一些高温工艺中,如制造高温热电偶和热敏元件。
4. 半导体性质:由于锗是一种半导体材料,它可以在一定条件下改变其导电性能。
这种特性使锗广泛应用于电子学领域,包括传感器、集成电路和光电器件等。
5. 光学性质:锗具有优良的光学特性,它对紫外线和红外线的透过率较高,并且具有较大的折射率。
这使得锗被广泛应用于光学设备和仪器中,如光学透镜、光纤和红外传感器等。
锗的应用领域如下:1. 半导体器件:由于锗是一种半导体材料,它被广泛用于制造半导体器件,如二极管和晶体管等。
锗材料可以用于高速电子元件和集成电路,具有较高的工作温度和电导率。
2. 光电领域:由于锗材料具有优良的光学特性,它可用于红外传感器和红外探测器等光电器件。
锗还可以用于制造激光器和光电耦合器等设备,广泛应用于通信和传感技术领域。
3. 热敏材料:由于锗的热稳定性较好,它可以用于制造热敏元件,如温度传感器和热电偶等。
由于锗材料对温度的响应较快,因此常用于测量高温环境中的温度变化。
4. 医学应用:锗材料在医学领域也有一定的应用。
锗纳米颗粒可以用于制造抗肿瘤药物,具有较高的生物相容性。
此外,锗材料还可以用于制备人工骨骼和关节假体等医疗器械。
5. 其他应用:锗材料还可以用于制造合金材料,如铁锗合金和银锗合金等。
锗的性质

锗在室温下是稳定的,但也会生成GeO单层膜,时间长了会逐渐变成GeO2单层膜。
而当锗的表面吸附了水蒸气便破坏了氧化膜的钝化性质,而生成厚的氧化物。
锗在较高温度下便氧化,且伴随有失重的现象,原因是生成了GeO,因其有较强的挥发性。
研究者研究了锗表面氧化的过程,先在600℃时用CO还原锗,以排除锗表面的结合氧或吸附氧。
再在25~400℃,10kPa的氧压下氧化锗,仅1min即形成了第一氧化层。
当温度超过250℃很快形成第二氧化层。
再升高温度,氧化速度显著变慢。
在400℃氧化3h,形成厚度为1.75nm的GeO2膜。
锗在不同溶剂中的腐蚀溶解行为不同。
n型锗的溶解电位比p型略正,所以在相同溶液中前者的溶解速度较快。
锗易溶于加氧化剂的热酸、热碱和H2O2中。
难溶于稀硫酸、盐酸和冷碱液。
锗在100℃的水中是不溶的,而在室温下饱和氧的水中,溶解速度接近1ug/(cm.h)。
1.H2O2对锗的溶解室温下3%的H2O2能缓慢地溶解块状的锗,升温到90~100℃时溶解速度加快。
n型锗在100℃的H2O2中的溶解速度受H2O2浓度的影响。
(1)锗被氧化为GeO,在表面形成单层GeOGe+H2O2=GeO(2)进一步氧化为GeO2GeO+H2O2=GeO2+H2O(3)GeO2+H2O=H2GeO3当溶液中有碱存在时,锗酸与碱作用生成锗酸钠,而加速锗的溶解。
H2GeO3+NaOH=Na2GeO3+2H2O2.锗在硫酸中的溶解90℃时浓硫酸与块状锗有微量反应,历时一周锗的损失量为1%。
3.锗在硝酸中的溶解浓硝酸能腐蚀块状锗的表面。
锗在硝酸中的溶解速度受硝酸的浓度、搅拌速度、温度等因素的影响。
4.锗与碱液的作用氢氧化钠和氢氧化钾水溶液与锗的作用很慢,但是熔融的氢氧化钠、氢氧化钾、Na2CO3、Na2O2、NaB4O7能迅速地溶解各种形态的锗,生成碱金属的锗酸盐。
5.锗在某些盐溶液中的溶解锗可溶于某些电解质溶液,如硫酸钠、钾的氯化物、硝酸盐、氯化铯、氯化镧等。
锗晶体-介绍

锗晶体介绍:锗的物理性质锗的物理性质锗是银白色晶体(粉末状呈暗蓝色),熔点937.4℃,沸点2830℃,密度5.35g/cm³,莫氏硬度6.0~6.5,室温下,晶态锗性脆,可塑性很小。
锗具有半导体性质,在高纯锗中掺入三价元素(如铟、镓、硼)、得到P型锗半导体;掺入五价元素(如锑、砷、磷),得到N型锗半导体。
化合价为+2和+4。
第一电离能7.899电子伏特。
锗有着良好的半导体性质,如高电子迁移率和高空穴迁移率等。
晶体结构:晶胞为面心立方晶胞,每个晶胞含有四个金属原子。
据X射线研究证明,锗晶体里的原子排列与金刚石差不多。
结构决定性能,所以锗与金刚石一样硬而且脆。
锗的化学性质锗的化学性质锗化学性质稳定,不溶于水、盐酸、稀苛性碱溶液。
在常温下不与空气或水蒸气作用,但在600~700℃时,与氧气反应能很快生成二氧化锗。
在加热情况下,锗能在氧气、氯气和溴蒸气中燃烧。
锗与盐酸、稀硫酸不起作用,但浓硫酸在加热时,锗会缓慢溶解。
在硝酸、王水中,锗易溶解。
碱溶液与锗的作用很弱,但熔融的碱在空气中,能使锗迅速溶解。
锗易溶于熔融的氢氧化钠或氢氧化钾,生成锗酸钠或锗酸钾。
在过氧化氢、次氯酸钠等氧化剂存在下,锗能溶解在碱性溶液中,生成锗酸盐。
锗的氧化态为+2和+4。
锗与碳不起作用,所以在石墨坩埚中熔化,不会被碳所污染。
光学级锗晶体(单晶和多晶)是目前红外透射材料中应用最广泛的材料之一。
它具有宽的红外透射波段(可在3~5μm和8~12μm两波段使用),机械强度高,不易潮解,化学性能稳定等特点,因而是制作红外光学透镜和窗口的良好材料,多数用于热像仪和低功率CO2激光器窗口。
但在使用中,仍要求锗晶体的直径要足够大,透过率要高以及折射率均匀性要好,成本要低。
随着科技的不断进步,激光以及红外技术得到了极其迅猛的发展,光学级锗晶体(单晶和多晶)是目前红外透射材料中应用最广泛的材料之一,因其在红外光学中的卓越性能引起了红外光学行业的重视,它具有宽的红外透射波段(可在3~5μm和8~12μm两波段使用),是制作红外光学透镜和窗口的良好材料,多数用于热像仪和低功率CO2激光器窗口。
锗知识

立志当早,存高远锗知识锗为银灰色金属,密度5.35 克,熔点937.4℃,沸点2830℃。
室温下,晶态锗性脆,可塑性很小。
锗的化学性质稳定,常温下锗在空气中不被氧化,但在加热时,锗能在氧气、氯气和溴蒸气中燃烧。
锗不与水作用,不溶于盐酸和稀硫酸,硝酸和热的浓硫酸能将金属锗氧化为二氧化锗,锗还溶于王水。
锗易溶于熔融的氢氧化钠或氢氧化钾,生成锗酸钠或锗酸钾。
在过氧化氢、次氯酸钠等氧化剂存在下,锗能溶解在碱性溶液中,生成锗酸盐。
锗具有半导体性质,在高纯锗中掺入三价元素(如铟、镓、硼)、得到P 型锗半导体;掺入五价元素(如锑、砷、磷),得到N 型锗半导体。
锗通常以分散状态存在于其他矿物中,独立的矿物很少。
可从含锗的氧化铅锌矿、闪锌矿和煤灰中回收锗。
锗的提取方法是首先将锗的富集物用浓盐酸氯化,制取四氯化锗,再用盐酸溶剂萃取法除去主要的杂质砷,然后经石英塔两次精馏提纯,再经高纯盐酸洗涤,可得到高纯四氯化锗,用高纯水使四氯化锗水解,得到高纯二氧化锗。
一些杂质会进入水解母液,所以水解过程也是提纯过程。
纯二氧化锗经烘干煅烧,在还原炉的石英管内用氢气于650-680℃还原得到金属锗。
锗在电子工业中的用途已逐渐被硅代替。
但由于锗的电子和空穴迁移率较硅高,在高速开关电路方面,锗比硅的性能好。
锗主要用来生产低功率半导体二极管三极管,锗在红外器件、γ辐射探测器方面有着新的用途,金属锗能让2-15 微米的红外线通过,又和玻璃一样易被抛光,能有效地抵制大气的腐蚀,可用以制造红外窗口、三棱镜和红外光学透镜材料。
锗还与铌形成化合物,用作超导材料。
用氧化锗制造的玻璃有较高的折射率和色散性能,可用于广角照像镜头和显微镜。
锗及其化合物

锗及其化合物锗(旧译作鈤)是一种化学元素,它的化学符号是Ge,原子序数是32,原子量72.64。
在化学元素周期表中位于第4周期、第IVA族。
锗单质是一种灰白色准金属,有光泽,质硬,属于碳族,化学性质与同族的锡与硅相近,不溶于水、盐酸、稀苛性碱溶液,溶于王水、浓硝酸或硫酸,具有两性,故溶于熔融的碱、过氧化碱、碱金属硝酸盐或碳酸盐,在空气中较稳定,在自然界中,锗共有五种同位素:70,72,73,74,76,在700℃以上与氧作用生成GeO2,在1000℃以上与氢作用,细粉锗能在氯或溴中燃烧,锗是优良半导体,可作高频率电流的检波和交流电的整流用,此外,可用于红外光材料、精密仪器、催化剂。
锗的化合物可用以制造荧光板和各种折射率高的玻璃。
锗、锡和铅在元素周期表中是同属一族,后两者早被古代人们发现并利用,而锗长时期以来没有被工业规模的开采。
这并不是由于锗在地壳中的含量少,而是因为它是地壳中最分散的元素之一,含锗的矿石是很少的。
锗粉末状呈暗蓝色,结晶状,为银白色脆金属。
化合价+2和+4。
第一电离能7.899电子伏特,是一种稀有金属,重要的半导体材料,不溶于水。
基本信息锗化学性质稳定,常温下不与空气或水蒸汽作用,但在600~700℃时,很快生成二氧化锗。
与盐酸、稀硫酸不起作用。
浓硫酸在加热时,锗会缓慢溶解。
在硝酸、王水中,锗易溶解。
碱溶液与锗的作用很弱,但熔融的碱在空气中,能使锗迅速溶解。
锗与碳不起作用,所以在石墨坩埚中熔化,不会被碳所污染。
锗在元素周期表上的位置正好夹在金属与非金属之间,因此具有许多类似于非金属的性质,这在化学上称为“亚金属”,外层电子排布为4s²4p²。
但它的化学性质类似于临近族的元素,尤其是砷和锑。
化学上或毒物学上重要的锗化合物很少。
锗的二氧化物,一种微溶于水的白色粉末,形成锗酸,这类似于硅酸。
四氯化锗是一种不稳定的液体,四氟化锗是一种气体,它们很容易在水中水解。
氢化锗(锗烷)是一种相对稳定的气体。
中国的锗储量

中国的锗储量
摘要:
I.锗的概述
- 锗的基本概念与性质
- 锗的用途与重要性
II.中国的锗储量概述
- 锗在中国的分布情况
- 锗在中国的储量及排名
III.中国锗储量的特点
- 锗矿床类型及特点
- 锗资源开发利用现状
IV.我国锗产业的发展前景
- 锗资源开发的政策支持
- 锗产业的发展趋势及挑战
正文:
【I.锗的概述】
锗是一种银白色半导体元素,具有金属性和非金属性,是半导体材料、光纤通信材料、新能源材料等重要领域不可或缺的元素。
锗的应用范围广泛,涉及到电子信息、航空航天、国防、新能源等多个高新技术领域,具有极高的经济价值和战略价值。
【II.中国的锗储量概述】
我国锗资源丰富,主要分布在云南、内蒙古、广东、福建、湖南等地。
根据相关数据显示,中国的锗储量约占全球锗储量的24%,位居世界第二,仅次于美国。
【III.中国锗储量的特点】
我国的锗矿床主要为铅锌矿床伴生锗矿床和独立锗矿床。
其中,独立锗矿床主要分布在云南、内蒙古等地,具有矿床规模大、品位高、易开采的特点。
目前,我国锗资源开发利用主要以伴生矿为主,独立矿床的开发利用尚处于初级阶段。
【IV.我国锗产业的发展前景】
近年来,随着国家对战略性新兴产业的支持,我国锗产业得到了快速发展。
政府出台了一系列政策措施,鼓励企业加大锗资源勘查开发投入,促进锗产业转型升级。
然而,我国锗产业仍面临技术创新能力不足、资源开发利用效率低、产业链不完善等问题。
锗开启人体健康的钥匙

锗开启人体健康的钥匙锗是一种化学元素,其符号为Ge,原子序数为32。
它是一个稀有的金属元素,具有多种特殊性质。
锗在人体健康中扮演着重要的角色,被认为是开启健康的钥匙。
本文将介绍锗在人体中的作用以及如何获得足够的锗。
一、锗在人体中的作用锗在人体中具有多种重要的作用。
首先,锗可以增强免疫系统功能。
研究表明,锗可以提高人体的免疫力,增强抵抗力,预防疾病的发生。
其次,锗还可以抗氧化。
氧化是导致许多疾病和衰老的原因之一,而锗具有抗氧化的特性,可以延缓细胞的老化过程,保护人体健康。
此外,锗还有助于促进新陈代谢和改善睡眠质量,对神经系统和心血管系统也有益处。
二、如何获得足够的锗虽然锗在自然界中存在,但它的含量相对较少。
为了获得足够的锗以维持人体健康,可以通过以下方法获取。
1. 饮食摄入锗一些食物中含有较高的锗含量,比如燕麦、大麦、黑豆、黑木耳等。
在日常饮食中增加这些食物的摄入量,可以提高人体摄入锗的量。
2. 矿泉水中的锗一些矿泉水中含有较高的锗含量,可以通过饮用这些矿泉水来增加锗的摄入量。
当然,在选择饮用水时,也应该注意矿泉水的质量和安全性。
3. 锗补充剂如果饮食中获得的锗量仍然不足,可以考虑使用锗补充剂。
锗补充剂可以提供稳定的锗摄入量,但在使用补充剂时应该咨询医生的建议,合理控制用量。
4. 控制环境中的锗锗还广泛应用于某些工业和科技领域。
在一些职业环境中,锗的接触可能会超过正常水平,从而对人体健康产生负面影响。
因此,需要加强环境管理和锗污染的控制,减少人体暴露于过量锗的风险。
结语锗在人体健康中扮演着重要的角色,其免疫增强、抗氧化和促进新陈代谢的特性对人体非常有益。
通过合理的饮食摄入、选择矿泉水、使用补充剂以及控制环境锗的接触,我们可以获得足够的锗来维持人体健康。
抓住锗这把开启健康之门的钥匙,我们就能够享受更健康、更幸福的生活。
化学元素知识:锗-半导体器件和红外线技术的重要元素

化学元素知识:锗-半导体器件和红外线技术的重要元素锗是一种重要的化学元素,其在半导体器件和红外线技术中发挥着重要作用。
本文将从锗的基本性质、历史发展背景、半导体器件和红外线技术中的应用等方面,详细介绍锗的重要性和应用前景。
一、锗的基本性质锗是一个类似于硅的化学元素,其原子序数为32,位于碳族元素中间。
锗的化学代码为Ge,密度为5.323 g/cm³,熔点为938.25℃,沸点为2,830℃。
锗是一种灰色的金属,具有特殊的导电能力。
它的电导率比金属小,但比半导体大,因此,锗常用于制作半导体器件。
锗是一种丰富的元素,广泛存在于地壳中。
在自然界中,锗主要存在于锗铜矿、锗铅矿等硫化物中。
锗的化学性质与硅非常相似,也是一种不活泼的元素,不容易与其他元素发生化学反应。
二、历史发展背景锗的发现与研究一直伴随着人类的科学发展历程。
早在19世纪70年代,德国化学家Weilandt曾经从某种银矿中提取得锗。
后来,K. Winkler在1886年从一个硅铝矿物中分离出了纯的锗。
由于它的特殊电学性质,锗很快就被用于半导体器件中。
20世纪50年代,随着晶体管和集成电路的发明,半导体技术得到了快速发展。
而锗正式成为半导体器件的重要组成部分,从而促进了半导体行业的迅速崛起。
三、锗在半导体器件中的应用半导体器件是指在一定温度下,导电性介于导体和绝缘体之间的材料。
因其具有电子、光学、热学等多种性质,在现代电子技术、通信技术、计算机科学等领域得到了广泛的应用。
早期的半导体器件使用的是锗材料,此后,由于硅的晶体结构更稳定,更容易控制制备过程,硅也逐渐成为了半导体器件的主要材料。
但锗在一些特殊应用场合中还是无可替代的。
锗的光电性能优越,可以在高频率下运行,因此,锗通常用于制造微波移相器、高频变阻器和放大器等设备。
锗管是最早的半导体器件之一。
由于制造进度远远落后于晶体管,现在锗管已经较少使用了。
四、锗在红外线技术中的应用除了半导体器件,锗在红外线技术中也有着非常重要的应用。
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锗在室温下是稳定的,但也会生成GeO单层膜,时间长了会逐渐变成GeO2单层膜。
而当锗的表面吸附了水蒸气便破坏了氧化膜的钝化性质,而生成厚的氧化物。
锗在较高温度下便氧化,且伴随有失重的现象,原因是生成了GeO,因其有较强的挥发性。
研究者研究了锗表面氧化的过程,先在600℃时用CO还原锗,以排除锗表面的结合氧或吸附氧。
再在25~400℃,10kPa的氧压下氧化锗,仅1min即形成了第一氧化层。
当温度超过250℃很快形成第二氧化层。
再升高温度,氧化速度显著变慢。
在400℃氧化3h,形成厚度为1.75nm的GeO2膜。
锗在不同溶剂中的腐蚀溶解行为不同。
n型锗的溶解电位比p型略正,所以在相同溶液中前者的溶解速度较快。
锗易溶于加氧化剂的热酸、热碱和H2O2中。
难溶于稀硫酸、盐酸和冷碱液。
锗在100℃的水中是不溶的,而在室温下饱和氧的水中,溶解速度接近1ug/(cm.h)。
1.H2O2对锗的溶解
室温下3%的H2O2能缓慢地溶解块状的锗,升温到90~100℃时溶解速度加快。
n型锗在100℃的H2O2中的溶解速度受H2O2浓度的影响。
(1)锗被氧化为GeO,在表面形成单层GeO
Ge+H2O2=GeO
(2)进一步氧化为GeO2
GeO+H2O2=GeO2+H2O
(3)GeO2+H2O=H2GeO3
当溶液中有碱存在时,锗酸与碱作用生成锗酸钠,而加速锗的溶解。
H2GeO3+NaOH=Na2GeO3+2H2O
2.锗在硫酸中的溶解
90℃时浓硫酸与块状锗有微量反应,历时一周锗的损失量为1%。
3.锗在硝酸中的溶解
浓硝酸能腐蚀块状锗的表面。
锗在硝酸中的溶解速度受硝酸的浓度、搅拌速度、温度等因素的影响。
4.锗与碱液的作用
氢氧化钠和氢氧化钾水溶液与锗的作用很慢,但是熔融的氢氧化钠、氢氧化钾、Na2CO3、Na2O2、NaB4O7能迅速地溶解各种形态的锗,生成碱金属的锗酸盐。
5.锗在某些盐溶液中的溶解
锗可溶于某些电解质溶液,如硫酸钠、钾的氯化物、硝酸盐、氯化铯、氯化镧等。
与其他物质的作用
加热时粉状的锗在氯和溴中能燃烧,生产四卤化锗,加热时干燥的HCl气体能腐蚀锗。
第二节锗的氧化物
锗的氧化物有一氧化锗GeO和二氧化锗GeO2
一氧化锗
GeO在室温下是稳定的,但当温度高于550℃即被空气氧化生成GeO2,在该温度下如果缺氧,则GeO会升华。
GeO很容易被含氨的H2O2溶液氧化。
硫酸、盐酸和苛性碱对GeO不能浸蚀,而发烟硝酸可缓慢氧化GeO。
二氧化锗GeO2
单质锗或GeS在氧气中灼烧,或用浓硝酸氧化都可制得GeO2。
GeO2在氯酸、硝酸和硫酸溶液中的溶解度随酸的浓度增加而减小。
GeO2在HCl、HBr和HI 中的溶解度随酸的浓度增加而增加,酸度达到最大值后,溶解度反而减小。
GeO2易溶于NaOH,其溶解度随碱液的浓度增大而增大。
二氯化锗
在室温下GeCl2能被氧慢慢氧化成GeO2和GeCl4。
GeCl2与Cl2、Br2容易反应,与Cl2作用生成GeCl4。
GeCl2为不稳定化合物,稍微加热就分解为GeCl4与金属锗。
它与干的氧气作用生成GeCl4和GeO2。
采用GeCl4氢还原能外延生长锗单晶膜,此种外延膜有较高的纯度,晶体完整性好,可用于制造光敏和光电元件。