光学薄膜理论基础2

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《光学薄膜设计理论》课件

《光学薄膜设计理论》课件

总结词
随着光电器件的发展,光学薄膜的应用领域也在不断 扩展。新型光电器件对光学薄膜的要求更高,需要不 断探索新的应用领域和场景。
详细描述
光学薄膜在新型光电器件中具有广泛的应用前景。例 如,在激光器、太阳能电池、光电传感器等领域中, 光学薄膜可以起到增益介质、反射镜、滤光片、保护 膜等作用。此外,随着光电器件的微型化和集成化发 展,光学薄膜的应用场景也在不断扩展,如光子晶体 、微纳光学器件等。这些新型光电器件的发展将进一 步推动光学薄膜技术的进步和应用领域的拓展。
薄膜的均质膜系法
总结词
将多层薄膜视为一个整体,并使用均质膜系法来计算反射、透射和吸收系数的方 法。
详细描述
均质膜系法是一种更精确的光学薄膜设计方法。它将多层薄膜视为一个整体,并 使用均质膜系法来计算反射、透射和吸收系数。这种方法适用于薄膜层数较多、 折射率变化较大的情况,能够更准确地模拟薄膜的光学性能。
光的波动理论概述
光的波动理论认为光是一种波动现象,具有振动 、传播和干涉等特性。
波动方程的推导
通过麦克斯韦方程组推导出波动方程,描述光波 在介质中的传播规律。
波前的概念
光的波动理论中引入了波前的概念,用于描述光 波的相位和振幅。
光的干涉理论
光的干涉现象
光的干涉是指两束或多束相干光波在空间某一点叠加时,产生明 暗相间的干涉条纹的现象。
按制备方法分类
03
物理气相沉积、化学气相沉积、溶胶-凝胶法等。
光学薄膜的应用
光学仪器
照相机、望远镜、显微镜等。
光电子
激光器、光探测器、光放大器等。
通信
光纤、光波导、光放大器等。
摄影
滤镜、镜头镀膜等。
02
光学薄膜设计基础

光学薄膜原理

光学薄膜原理

Maxwell’s equations
D E B mH j E
H j D t
E m H
t
•D
•B 0
波动方程
2E

m
2E 2t
2H

m
2H 2t
折射率:refractive index
N c/v
m

0 m0
N
c os
(k Etian )
p (k Etian )
S-
H
i 0
E
i 0
×
r

×
×
s polarization
Ei tan

Ei
Hi tan

Hi
cos

N (r Ei ) cos

N
cos (k

Ei tan
)


s
(k

Ei tan
)
s N cos p N / cos
1
2
第一章
光学薄膜设计的理论基础
第一节 电磁波及其传播
远红外线 中红外线 近红外线 可见光区 近紫外 远紫外
x射线
γ射线
9~600mm 1.0nm~8mm 0.7~1.0mm 0.4~0.7mm 0.2~0.4mm 0.03~0.2mm 0.1nm~0.03mm
1.0pm~0.1nm
0.15~0.01ev 1.2~0.15ev 1.8~1.2ev 3.1~1.8ev 6.2~3.1ev 41.4~6.2ev 12000~42ev
2.复折射率 N: ---磁场幅值与电场幅值之比
H=N (k×E) 或 N H c n ik (2) kE v

光学薄膜基础理论

光学薄膜基础理论

n0 cos1 N1 cos0 n0 cos1 N1 cos0
可见rs、rp都是复数,rs rs eis 和rp rp ei p的
辐角是反射的位相变化,反射率由模的平方确定
波长为 546nm的 光入射到金 属Ag和Cu 上的情形
第二种介质为吸收时的情况
不管入射角如何,反射光的位相变化不 再是00或1800而是它们中间的某一角度, 同时s—分量和P—分量之间有一个不为0的 相对位相差, 因而当入射光为线偏振光在吸 收介质上反射后通常成为椭圆偏振光, 正 是基于这种认识,利用反射光的椭圆偏振 测量就可确定吸收介质的光学常数。
η2/Y。由于λ/2和λ/4的光学厚度的膜层组成的膜系比较简
单,所以膜系设计常常用指定波长1/4的倍数来表示,一般
只用两种或三种不同的膜料构造膜系, λ/4光学厚度的常用
缩写符号是H、M、L分别表示高、中、低折射率。
λ/2和λ/4的光学厚度
当膜层的光学厚度为λ/2时
cos
i sin
i
sin cos
sin0
ik1
可 见1为 复 数, 除0 1 0时 ,1不 再 为折 射 角 ;
当0
1
0时 ,rp
rs
n0 n1 ik1 n0 n1 ik
第二种介质为吸收时的情况
当0 0时情况要复杂的多
rs
rs
eis
n0 cos0 n0 cos0
N1 cos1 N1 cos1
rp
rp
ei p
负向行进的波位相因子应乘以ei
单层膜的反射
在膜层内E和H在边界a上的值为:
E1a
E1bei ,即k
E1a
1 2
Hb
1

薄膜光学

薄膜光学

N0 N1 cos cos 0 1 当 分 子 为 零 反 射 为 零这 ,一 入 射 角 称 为 布 儒特 斯角 N0 N1 又根据折射定律 N 0 sin 0 N1 sin 1 cos 0 cos1 N1 得 到t an 0 ; 0 布 儒 斯 特 角 N0
对于任何闭合的假想面(叫高斯面),通过假 想面的电场通量与该面所包围的净电荷之间的 关系:
0 E d S q
薄 膜 光 学——基础理论
磁学的高斯定律
对于任何闭合的假想面(叫高斯面),通过假 想面的磁场通量为0:
B d S 0
薄 膜 光 学——基础理论 法拉第电磁感应定律
r H
由麦克斯韦方程: 4 1 D 4 i j E E c c t c c 4 H i N2E E i c c H
薄 膜 光 学——基础理论
平面电磁波理论——E和H的关系
比较可得 ( 1): N E r H; 同 理 E可 得 : H N r E ;这说明 r、 E、 H三 个 量 相 互 垂 直 电磁波是横波 E , 、 H不 但 垂 直 , 而 且 数 值 还 间有
薄 膜 光 学——基础理论
平面电磁波理论
整理后可得: E
2
2 E
c
2
4 E 2 1 2 t c t
设它的解: E E0e
2
i t x

v

2 带入(1)中
c 4 整理得到:2 i v
薄 膜 光 学——基础理论
薄 膜 光 学——基础理论
麦克斯韦方程组
E——电场强度
D——电位移矢量 H——磁场强度 B——磁感应强度 μ——磁导率 D =ε E B =μ H

薄膜光学与薄膜技术_第01篇-01-薄膜光学的理论基础

薄膜光学与薄膜技术_第01篇-01-薄膜光学的理论基础

c r 0r 0n2
(1-5)
式中n表示介质的折射率,均匀介质取常数值。 (2)对于各向同性线性非均匀介质,介质
非导电 s = 0, r 为实函数,则有
r r 0r r 0n2 r (1-6)
非均匀介质折射率n随空间变量变化。
k = w me
(1-25)
则方程(1-22)和方程(1-23)就化为理想介 质中的复矢量波动方程。
薄膜光学与薄膜技术基础
波数 k 也称之为空间角频率。波数 k 与
波速 u 及角频率 w之间的关系为
k = w me = w = wn uc
(1-26)
式中
u= 1 = c me n
(1-27)
为光波在介质中的传播速度,c为真空中的光
界面上的自由电流面密度复振幅矢量。如果
把边界条件写成标量形式,有
ìïïíïïî
E%1t H%1t
= -
E%2t H%2t
=
J%s
(1-18)
式中 E%1t 、E%2t 和 、 H%1t H%2t 分别表示介质1和介质2分 界面上电场和磁场复振幅矢量的切向分量。J%s 为分界面上 p2 2 4 2 2

n

1 2
p2 1 4 2 2
(1-11)
式中 n 称之为导电介质的折射率,a 称之为消
光系数。由式(1-11)可以看出,导电介质
的折射率和消光系数是光波频率的函数,所
以光波在导电介质中传播或在导电介质表面
CsI
KI CsBr
BaF2
KBr
CaF2
KCI
SiO2
NaCI
NaF
0.8 100 200

《光学薄膜膜系设计》课件

《光学薄膜膜系设计》课件

,常用的测量方法有光谱椭偏仪法和光谱反射法等。
03
光学薄膜设计方法
膜系设计的基本原则
光学性能原则
薄膜的光学性能应满足设计要求,如 反射、透射、偏振等特性。
物理化学稳定性原则
薄膜应具有优良的物理和化学稳定性 ,能够经受环境因素的影响,如温度 、湿度、紫外线等。
机械强度原则
薄膜应具有足够的机械强度,能够承 受加工和使用过程中的应力。
干涉色散
由于薄膜干涉作用,不同波长的光 波会产生不同的相位差,导致不同 的干涉效果,从而产生色散现象。
薄膜的光学常数
光学常数定义
01
描述介质对光波的折射率、消光系数等光学性质的一组参数。
薄膜的光学常数
02
对于光学薄膜,其光学常数包括折射率、消光系数、热光系数
等。
光学常数测量
03
通过测量光波在薄膜中的传播特性,可以获得薄膜的光学常数
反射膜的应用案例
总结词
反射膜主要用于将特定波段的光反射回原介质,常用于聚光镜、太阳能集热器等领域。
详细描述
反射膜具有高反射率和宽光谱特性,被广泛应用于太阳能利用和照明工程中。通过将反 射膜镀在金属镜面上,可以大大提高光的反射效率,从而实现高效聚光和散热。此外,
反射膜还用于制作装饰性和广告用反射镜面。
干涉现象
当两束或多束相干光波相遇时,会因相位差而产生明暗相间的干 涉条纹。
干涉条件
为了产生稳定的干涉现象,需要满足相干波源、相同频率、相同 方向和相同振动情况等条件。
薄膜的干涉效应
薄膜干涉原理
当光波入射到薄膜表面时,会因 反射和折射而产生干涉现象。
薄膜干涉类型
根据光波在薄膜中传播路径的不同 ,可分为前表面反射干涉和后表面 反射干涉。

第三章 薄膜光学基础理论1

第三章 薄膜光学基础理论1


S
D ds d


S
B ds 0
B ds L E dl t S D j ds L H dl t S
波动方程的解
麦克斯韦方程的微分形式:
(1) (2) (3) (4)
对4式两端对时间求导数,则
N 2 H =i E (13) 2 c
(15)
H z H y ( H ) x = y z 2 N 2 N = i s0 y H z i s0 z H y
2 N = i (S0 H ) x
2 N (S0 H ) y
N 2 将(13)式 H =i E 代入(16)式, 2 c
i t 2 nx


说明在导电介质( 0,因而k 0)是一个衰减波, 消光系数k 是介质吸收电磁波能量的度量。 时,振幅衰减到原来的1 e 2 k 【介质内产生的电流将波的能量转换为热能】 当x =
光学导纳
对 E E0 e
2 kx
e
i t 2 nx
S EH
E E0e
H H 0e
i t x

= E eit x E eit
0 0
i t
:电振动的初相;实数部分 E E0 cos(t ) : 磁振动的初相;实数部分 H H 0 cos(t )
坡印廷矢量:
瞬时值忽大忽小 一个周期的平均值是定值 定义坡印廷矢量的平均值为光强度I
1 T I E0 H 0 cos(t ) cos(t ) d t T 0 1 = E0 H 0 cos( ) 2 ( EH * )的实数部分为 Re( EH * )= Re E0 eit H 0 e it E0 H 0 cos( ) I 1 Re( EH * ) 2

薄膜光学技术_第02章 03 中性分光膜

薄膜光学技术_第02章 03 中性分光膜

1.68
22
多层分光膜G/ (HL) 8 /G 45度入射
基片折射率1.66, 2.38,1.35
23
例题
在硅基底(折射率3.5)上镀3微米到5微米的 分光膜,角度为45,分光比为1:1,材料为硫 化锌和氟化镁,计算4微米处的反射率?
多层分光膜 G/(HL)82H/G 45度入射 基片折射率3.5, 膜层折射率2.38,1.35 设计波长4600
25

M
p

M HpM Lp


c os H
i Hp sin H cos L
8
i

Hp
sin L

iHp sin H cos H iLp sin L cos L

Ms
M Hs M Ls


c os H
iHs sin H
i Hs

0
1 2 90o
所以有: n1 cos 1 n2 cos 2
又因为: n1 sin 2 n2 sin 1
消去θ2,得Rp=0的入射角θ1=θB
B arctgn2 n1
θB叫布儒斯特角或偏振角。 20
增加S偏振 光的反射率 H,L同时满足布儒斯特角, nH nL 对p分量有效折射率相等: cos H cos L 并符合折射定律: nH sin H nL sin L ns sin s
sin H
c os L
cos H iLs sin L
i Hs
sin
L
8
cosL
Yp

Cp Bp
, Ys

Cs Bs
Rs
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等效介质的等效光学导纳
i sin 1 1 1 cos 1 1 (k0 E0 ) (k0 E2 ) Y i sin 2 cos 1 1 1 i sin 1 1 B cos 1 1 令 , 则上式可改写为: C i sin 2 cos 1 1 1 1 B (k0 E0 ) (k0 E2 ) 解得 Y C B Y C i cos sin 1 1 1 矩阵 称为该膜层的特征矩阵,由薄层参数唯一确定, i1 sin 1 cos 1 它包含了薄膜的全部有用参数,其中 P 分量:1 2
1 k0 E12 2 写成矩阵形式: 1 k0 E12 2 1 21 k0 E2 1 H2 21
k E k E (4)综合( 2)和( 3),建立 0 0 与 0 2 的数值关系 H0 H2 1 1 k 0 E12 2 21 k 0 E 2 将(3)中的矩阵 1 1 k E H 2 12 0 21 2 i i k E e e k 0 E12 可得 带入(2)中的矩阵 0 0 i i 1e k 0 E12 H 0 1e 1 1 i i i k 0 E0 e e 2 21 k 0 E 2 cos 1 sin 1 k 0 E 2 1 i i 1 1 1e H 2 i sin H 0 1e cos 1 H 2 1 1 21 2 上式就把入射界面的 E0 和H 0的切向分量与透过最后 界面的E2 和H 2的切向分量 联系起来。
推导
等效介质的等效光学导纳
( 1)用E和H的切向分量在界面两侧连续的边界条件写出在界面1上:
E0 E11 , E0 E11 E0 E0 E0 E11 E11 E11 H0 H0 H0 H11 H11 H11 于是,可得: k0 E0 k0 ( E11 E11 ) H 0 H11 1 (k0 E11 ) 1 (k0 E11 ) 1 (k0 E11 k0 E11 )
0
图1 多层膜的等效界面
等效介质:薄膜系统和基底组合而成。 将入射介质和等效介质之间的界面称为等效界面,即等效界面两 侧分别是入射介质和等效介质。 入射介质的折射率仍旧是N0,等效介质具有等效光学导纳Y。因 此,整个薄膜系统的反射率就是等效界面的反射率,等效界面的 2 反射率计算公式为: Y R 0 0 Y

N1d1 cos 1;对于(TM 波)
N1 ,对于(TE波) S 分量:1 N1 cos 1。以后我们将 cos 1
会看到,在分析薄膜特性是,这一矩阵是非常有用的。
单层介质膜的光学特性
i cos sin B 1 1 1 矩阵 1 C 2 i sin cos 1 1 1 定义为基底和膜层组合的特征矩阵。 进而就可以求得单层介质膜的反射率。 我们把 2
Y C
B

故振幅反射系数为: 能量反射率为:
( 4)
B 由 C 矩阵的表达式可以知道,当薄膜的有效光学厚度为1/4波长的整数
倍时,即
或其位相厚度为
2
的整数倍时,即
单层介质膜的光学特性
在参考波长处会出现一系列的极值。(a)对于厚度为 0 4 的 奇数倍,即m=1,3,5….的情形,有:
( 3)
当膜层参数已知后,其矩阵元就确定了,便可以求出等效光学导纳Y, N1d1 cos 1叫做薄膜的有效位相厚度,把N1d1 cos 叫做

薄膜的有效光学厚度。
讨论
单层介质膜的光学特性
i B cos1 sin 1 1 1 C 2 i sin cos1 1 1
(2)在界面1, 2的内侧,不同纵坐标、相同横坐标的两点,只要改变波的位相因子, 就可确定它们在同一瞬时的状况。正向行进的波的位相因子应乘以 exp(i 1 ), 而负 向行进的波的位相因子应乘以 exp(i 1 ),其中
i i 即:E12 E11 e , E12 E11 e , 所以 k0 E0 k0 ( E11 E11 ) (k0 E12 )ei (k0 E12 )e i H 0 1 (k0 E11 k0 E11 ) (k0 E12 )1ei (k0 E12 )1e i
计算可得
这通常称为四分之一波长法则。此时,
(b)而对于厚度为0 4 的偶数倍,即m=2,4,6….的情形,有:
单层薄膜的等效界面
单层薄膜的两个界面在数学上可以用一个等效的界面来表示,如 图2。膜层和基底组合的导纳是Y。
根据边界条件,在等效 界面两侧的电场、磁场 强度的切向分量连续, 即:
/ E0 E 2 , / H0 H2 / / 等效介质的光学导纳定 义为Y H 2 E2 H 0 E(已将前两式代入)。 0
首先,根据界面1上的边界条件,建立E0、H0与E11+、 E11-的联系; 然后,根据平面电磁波传播规律,找出E11+、 E11-与E12+、 E12-的关 系,从而建立E0、H0与E12+、 E12- 的联系; 之后,再根据界面2上的边界条件,找出E12+、 E12-与E2、H2的关系, 从而建立E0、H0与E2、H2的联系(具体的数值关系与膜系和基底的 参数N1 、 N2、d1等有关); 最后,基于等效界面思想,结合等效介质的等效光学导纳Y和基底 光学导纳的定义式,最终建立Y与膜系和基底的参数的关系。
复习
光学导纳 修正导纳 菲涅尔公式
Y H k0 E N 0 / 0
r
N cos
N 0 / 0 Ny0
TE波: s N cos TM波: p
0 S 1S 0 S 1S 20S tS 0 S 1S
rS
单一界面的反射率和透射率
2

n1d1 cos 1。
等效介质的等效光学导纳
k0 E0 e i e i k0 E12 写成矩阵形式: i i e e H k E 1 0 12 0 1 (3)同理,根据E和H的切向分量在界面 2两侧连续可写出在界面 2上: E12 E12 E2 k0 ( E12 E12 ) k0 E12 k0 E12 k0 E2 H12 H12 H 2 1 (k0 E12 ) 1 ( k0 E12 ) 1 (k0 E12 ) 1 (k0 E12 )H0 H 2 1 1 于是,可得: k0 E12 (k0 E2 ) H2 2 21 1 1 k0 E12 (k0 E2 ) H2 2 21
2 2
Hale Waihona Puke 1s 2 401 t 2 0 s 0 1
第二章 光学薄膜理论基础
主要内容
等效界面思想 单层薄膜的等效界面 等效介质的等效光学导纳 单层介质膜的光学特性 多层介质膜的光学特性 吸收薄膜的光学特性
等效界面思想
等效界面思想:任意光学多层膜,无论是介质薄膜或是金 属薄膜组合,都可以用一虚拟的等效界面代替,而且等效 界面的导纳为 Y H 0 E ,如图1所示。
等效介质的等效光学导纳
等效介质的等效光学导纳
(5)运用等效界面思想, 建立Y与膜系和基底参数 的的关系 对于介质(基底)有: 2 H 2 2 (k 0 E 2 ); ' ' 又根据等效界面思想, 对于等效介质有: H 2 Y (k 0 E 2 ),根据边界条件(针对 ' ' 等效界面),有 H 2 H 0 , E 2 E0 , 将其带入上式可得: H 0 Y (k 0 E0 ); i k E cos 1 sin 1 k 0 E 2 将H 2 和H 0带入(4)的矩阵 0 0 1 ,即可得 H 0 i1 sin 1 cos 1 H 2 i k 0 E0 cos 1 sin 1 k 0 E 2 1 Y (k 0 E0 ) i1 sin 1 cos 1 2 (k 0 E 2 ) i 1 1 cos 1 sin 1 (k 0 E0 ) (k 0 E2 ) 1 2 Y i sin cos 1 1 1
2
0 P 1P 0 P 1P 20 P cos 0 tP 0 P 1P cos 1
rP

E I 2 R r r 2 r 0 1 0 1 Ii Ei 0 1 0 1 N cos 1 Et I T t 1 I i N 0 cos 0 Ei
式中
/ / H2 , E2
图2 单层薄膜的等效界面
根据边界条件可以知道:Y=H0/E0。于是如同单一界面的情形, 2 单层膜的反射率可表示为: 0 Y
R
0 Y
等效介质的等效光学导纳
只要确定了组合导纳Y,就可以方便地计算单层膜的反射和 透射特性。因此问题就归结为求取入射界面上的H0和E0的比 值。下面推导组合导纳的表达式。
图3 单层薄膜的电场
如图3在薄膜上下界面上都有无数次反射,为便于处理,我 们归并所有同方向的波,正方向取+号,负方向取–号。 E11 和E12 是指在界面 1和2上的E1,符号E11 和E12 ,H11 和H12 等具有
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