TiO2薄膜的结构及性能研究

TiO2薄膜的结构及性能研究
TiO2薄膜的结构及性能研究

钛氧膜的结构及性能研究

摘要:主要介绍关于钛氧膜的能带结构,晶体结构以及钛氧膜的生物相容性能和表面活性等问题,还有钛氧膜的化学处理方法。

关键字:钛氧膜结构生物相容性表面活性

TiO2有独特的光学、电学及化学性质,已广泛用于电子、光学和医学等方面。例如,作为氧传感器用于湿敏、压敏元件及汽车尾气传感器;作为光催化剂,可实现有机物的光催化降解,具有杀菌、消毒和处理污水等作用;利用其亲水亲油的“双亲”特性,可使镀有钛氧膜的物体具有自清洁作用,从而达到防污、防雾、易洗、易干等目的;而金红石相钛氧膜是很好的人工心脏瓣膜材料。对于TiO2的研究主要集中在制备、结构、性能和应用等方面。在TiO2性能方面的研究,尤以对其生物相容性和光催化性能的研究最为丰富。

Ti-O膜作为生物活性材料在生物体内可以长期稳定存在且不与生物组织发生物化反应,即具有良好的生物相容性,但其缺点在于植入生物体内后,不能有效地在材料表面形成有正常的细胞并维持长期的活性。国内外很多的研究者采用各种表面改性工艺方法,对材料表面进行生物活化或有机/无机复合等使材料表面挂带—COOH、—OH、—NH2等反应性基团,然后通过形成共价键使生物分子如蛋白质、多肽、酶和细胞生长因子等固定在材料表面,充当邻近细胞、基质的配基或受体,在材料表面形成一个能与生物体相适应的过渡层,以达到活化钛氧膜表面的效果。目前,对钛氧膜的表面改性方法主要包括离子表面注入法,碱处理以及酸活化处理等方法。

1 氧化钛的能带结构与晶体结构

1.1氧化钛的能带结构

氧化钛的能带结构如图1-1所示[1]。以金红石相为例,锐钛矿相的结构基本与其一致。氧化钛能带结构是沿布里渊区的高对称结构,3d轨道分裂为e g与t2g 两个亚层,但它们全是空的轨道,电子占据s和p能级;费米能级处于s、p能带和t2g能带之间;最低的两个价带相应于O2s能级。接下来6个价带相应于O2s 能级,最低的导带是由O3p产生生的,更高的导带能级是由O3p产生的。利用能带结构模型计算氧化钛晶体的禁带宽度为3.0(金红石相)、3.2(锐钛矿相)。

图2-1 氧化钛的能带结构

1.2氧化钛的晶体结构

氧化钛有三种晶体结构:金红石、锐钛矿和板钛矿型。这些结构的共同点是,其组成结构基本单位是TiO6八面体。这些结构的区别在于,是由TiO6八面体通过共用顶点还是共边组成骨架。锐钛矿结构是由TiO6八面体共边组成,而金红石和板钛矿结构则是由TiO6八面体共顶点且共边组成。锐钛矿实际上可以看做是一种四面体结构,而金红石和板钛矿则是晶格稍有畸变的八面体结构。

金红石是氧化钛的高温相,性质较稳定,氧离子作六方最紧密堆积,其中Ti4+位于八面体空隙中,配位数为6;Ti4+处于O2-围成的近似八面体的中心,O2-处于Ti4+围成的近似等边三角形的中心,配位数为3。在[001]方向,每个[TiO6]八面体有两条棱与其上下相邻的两个[TiO6]八面体共用,从而形成沿从轴方向延伸的比较稳定的[TiO6]八面体链,链间则以[TiO6]八面体共用角顶相连接,结构图如图1-2所示。

图2-2金红石型晶体结构图

锐钛矿型氧化钛氧离子作立方最紧密堆积,钛离子位于八面体的空隙中,其

配位数为6。锐钛矿型氧化钛的Ti-Ti键距比金红石的大,Ti-O键距小于金红石型。这些结构上的差异导致了两种晶型有不同的质量密度及电子能带结构。锐钛矿型的质量密度略小于金红石型,禁带宽度略大于金红石型,其结构图如图1-3所示。

图2-3 锐钛矿型晶体结构图

2 钛氧膜的生物相容性研究

2.1生物医用材料

生物医用材料是一类具有特殊性能、特种功能,用来对生物体进行诊断、治疗、修复或替换其病损组织、器官或增进其功能的材料。这些材料通过长期植入、短期植入、表面修复分别用于硬组织和软组织修复与替换。其研究是介于生物学、医学、材料学和化学之间的交叉性边缘学科,具有知识、技术密集的特点。生物医用材料由于直接用于人体或与人体健康密切相关,对其使用有严格要求。首先要求具有较好的生物相容性,对人体无毒和无过敏反应,对机体无免疫排异反应。种植体不致引起周围组织产生局部或全身性反应,由于生物医用材料必须和血液接触,因此它应具有抗凝血和抗血栓性能,不会引起血液凝固和溶血现象。其次要满足相应的力学性能,这就要求它应有良好的抗拉强度、压缩强度、弯曲强度、剪切强度及合适的弹性模量和硬度较好的耐磨损、耐疲劳等性能。再者材料的加工成形、价格适当、操作方便、便于消毒灭菌也是必须考虑的。对于不同用途的材料,其要求各有侧重。

2.2 钛氧膜的生物活性

按ISO(I0993)的解释,所谓生物相容性是指:生命体组织对非活性材料产生反应的一种性能。一般是指材料与宿主之间的相容性,包括组织相容性和血液相容性。

关于血液相容性,通常是从其抗凝血能力和不损伤血液成份功能两方面来考虑。前者即为材料表面抑制血管内血液形成血栓的能力,后者即为材料对血液不产生溶血(红细胞破坏),不引起血小板机能降低,不引起白细胞暂时性减少,不

引起白细胞功能下降,不引起补体激活等血液生理功能的影响。除此,还考虑不致使血浆蛋白变性,不影响血液中存在的各种酶的活性,不改变血液中电解质浓度,不引起有害免疫反应等问题。

组织相容性(Tissue-compatibility)是指材料与生物活体组织及体液接触后,不引起细胞、组织的功能下降,组织不发生炎症、癌变以及排异反应等[10]。应用的条件不同,对材料组织相容性的要求不同。材料与生物体的相互作用情况决定了材料组织相容性的程度。材料对组织相容性的影响包含着两种特征尺度水平上的因素。一是微观分子水平,这类影响主要表现为材料表面的化学组成、形态结构、电荷性质及其分布等等。另一个是宏观尺度水平,这类影响包括材料的物理力学性质、材料的宏观形态尺寸等。而且,这类大尺度上的效应比分子尺度上发生的化学效应更为重要。生物系统对生物相容性的影响包括生物体种类、植入部位、受体的健康状况、埋植留存时间、使用的生理环境等。一般说来,材料与生物体相互作用的反应主要集中于固体生物材料与体液接触形成的固-液界面上。依据材料与生物体的相互作用关系,设计组织相容性材料(Tissue-compatibility Materials)时应兼顾以上几个方面因素。尤其是材料的宏观形态、尺寸、表面形貌不容忽视。在许多场合,这些因素直接决定了材料组织相容性[11~12]。

总之,材料的组织相容性,不但要考虑材料固有的表面化学结构的相容性,而且,材料的宏观结构,表面拓扑结构也是极为重要的。

3表面改性对钛氧膜生物相容性的影响

材料表面改性是生物材料研究的永久性课题。因为材料与生物体之间的接触是通过材料表面与生物体相互接触的,所以为了获得一个具有良好生物相容性的材料,对材料进行表面改性是非常重要的。材料表面结构与成分、表面形貌、表面能、亲疏水性、荷电性等都能影响材料与生物体的相互作用,通过表面改性处理改变材料表面特征,材料与血液之间的相互作用也会被改变。通过对传统材料进行表面化学处理、表面物理改性和表面生物改性,提高材料的生物相容性,研究制备能够满足人们需要的生物医用材料。

3.1 钛氧膜表面生物化

表面生物化是目前研究热点之一,所谓材料表面生物化,是将材料基质或表面,进行一系列生物化处理,使材料内含生理活性物质,带有一定的生物活性,再进一步使材料整体生理活性物质化,最终达到材料本身具有生命性质而与机体产生生物性结合。钛氧膜的表面生物化可通过以下方式实现:改变材料表面结构与形貌、亲疏水性、荷电性、表面能等而导致所期望的生物分子在材料表面的选择性吸附,以及粘附生长有利于抗凝血的内皮细胞等,进而发展具有表面活性的材料,通过生物识别的途径,更好的提高其生物相容性。

3.2钛氧膜的生物活化

钛基生物材料具有良好的机械力学性能以及优秀的生物相容性,被广泛应用于人体硬组织修复。对于硬组织修复材料,一般要求表面具有良好的生物活性,即种植体植入人体后,在材料表面形成一层具有生物活性的含碳酸根离子的羟基磷灰石(HA),最终在种植体与周围的骨组织之间形成分子水平的化学键合[20]。由于表面自然形成的氧化膜成钝态,钛及钛基合金材料诱导生成HA的能力非常低,甚至不能诱导。

为了提高钛基生物材料的活性,必须对其活化处理。活化的基本思路有两条:(1)是在钛表面涂覆生物活性涂层(如磷酸盐);(2)是表面改性使原钝化态氧化膜转化为活化态氧化膜或其它活性膜(如钛酸膜、Ca+Ti膜等)。

第一种思路的实质是钛与骨组织经过所涂覆的HA涂层形成直接的键性结合,其活性是通过外加的活性涂层所反应出来的。采用这种思路的方法一般是物理方法[21],主要包括:等离子体喷涂、磁控溅射、离子束溅射和脉冲激光法等。这些物理沉积技术利用成熟的表面沉积工艺,可以方便地在钛金属表面获得致密的生物活性陶瓷涂层,已经得到较广泛的应用。第二种思路的目的则是让表面二氧化钛在生理环境下形成钛凝胶,使之具有生物活性。其活性机理可这样理解:钛凝胶富含TiOH,即碱性羟基(OH),在生理溶液中,高度水合的钛胶迅速水解,而生理溶液的pH值大约等于7,大于二氧化钛溶胶的等电点(pzc),pH=6.2~6.8,因此水解后表面带负电。Ca2+离子在OH-离子和具负电性的表面的共同作用下首先被吸附于表面,而后Ca2+离子吸附PO43-离子。Ca2+、PO43-的富集增加了局部过饱和度,产生异相成核,结晶生长为类骨磷灰石。因此,在钛金属表面涂覆一层富含Ti-OH基团的钛凝胶,可以获得良好的生物活性[21]。

3.3 钛氧膜的活化处理

钛氧膜是一种致密的钝化薄膜,对薄膜表面进行处理,可以在其表面挂带生物活性基团,为下一步固定生物分子提供反应位点。通常认为,表面钛羟基在这一过程中起着重要作用,可以通过物理化学或者电化学表面改性的方法改变钛表面氧化钛膜的结构,化学成份等可赋予钛金属及氧化钛生物活性,从而在体内实现材料与组织,血液间的生物活性结合。

本综述主要介绍以下两类方法对钛氧膜进行表面活化处理:化学处理方法以及等离子体注入方法。前一种方法是在钛氧膜的表面形成-OH基团,后一种方法是在钛氧膜的表面形成-NH2基团。

3.3.1 化学处理方法

与其他金属氧化物相比,Ti-O键极性较大,钛氧膜表面Ti-O键极化显著。因Ti-O膜表面易形成羟基,可以通过化学处理方法活化Ti-O膜,使其表面产生羟基

基团[22]。

本综述简单介绍两种化学处理方法对钛氧膜进行表面活化处理。

1)碱活化处理法

将小块的表面洁净的钛氧膜样品,分别用丙酮、酒精、双蒸水超声各清洗1遍每次清洗洗时间为3分钟。利用万分之一级电子天平称取适量分析纯NaOH 固体,将其溶解在双蒸水中,配制成所需浓度的NaOH溶液。然后将样品浸泡在配制好的溶液中,在不同温度条件下振荡处理。

2)酸活化处理法

将小块的表面洁净的钛氧膜样品,分别用丙酮、酒精、双蒸水超声各清洗1遍,每次清洗时间为3分钟。将浓度为37%的溶液与98%的浓硫酸按一定体积比进行混合,将样品浸泡其中,利用沸水水浴加热2h,取出用蒸馏水冲洗后,放入干燥箱干燥备用。

化学处理方法中酸、碱活化处理均可使晶体结构的钛氧膜材料表面生成-OH 基团,不同结构的TiO2活化能力强弱顺序为:混合晶型>锐钛矿型>不饱和晶型>金红石型。碱处理过程中,活化处理时间对活化效果影响不显著;处理温度越高,获得-OH基团越容易;处理碱溶液浓度越高,获得-OH基团越容易。酸处理过程中,混合处理液中硫酸与双氧水的体积比不同,使得样品表面获得羟基的难易程度也稍有不同。V H2SO4:V H2O2为7:3时更易产生-OH,但改善程度有限。活化处理后,活性基团可较长时间内存在于Ti-O薄膜表面,稳定性较好。

4 总结

1)TiO2以其独特的光学、电学和生物性能而被广泛的应用在电子、光学和医学领域。对于TiO2薄膜的研究主要集中在制备、结构、性能和应用等方面。近年来,尤以对其生物相容性和光催化性能的研究最为丰富。

2)作为一类被广泛应用的生物医用材料,TiO2薄膜拥有良好的生物相容性,但是生物活性不足,被认为是一种生物惰性材料。

3)通过表面改性,可以大大提高钛氧膜生物活性以及生物相容性;表面改性大体包括表面生物,表面化学处理和高能离子注入等技术。

4)晶体类型、晶粒度、温度以及钛氧膜的基本状况均会对钛氧膜的光催化性能造成一定的影响。我们可以采用掺杂、表面光敏化和半导体复合的技术来改善钛氧膜的光催化性能。

参考文献

[1]高镰,郑珊,张青红.纳米氧化钦光催化材料及应用北京化学工业出版社材料科学与工程出版中心.2002

[2]Negishi N,Ibusuki T.Applied Surface Science,1997,121/122:417~420

[3]Ichikawa S,Doi R.Thin Solid Films,1997,292:130~134

[4]B attiston G A,Gerbasi R, Porchia Metal.Thin Solid Films,1994,239:186~191

[5]Rao N K,Murthy M A,Mohan S.Thin Solid Films,1989,176:181

[6]黄剑锋.溶胶-凝胶原理与技术[M].北京:化学工业出版社,2005.116

[7]张松,李琪,乔庆东.半导体复合TiO2纳米光催化剂[J].化学通报,2004,(4):295[8]于向阳,程继健,柱永娟.TiO2光催化薄膜的制备法[J].玻璃与搪瓷,2001,29(1):3

[9]张伟伟,陈玉清.TiCl4乙醇溶液溶胶-凝胶转变过程的研究[J].陶瓷学报,2004,25(4):235[10]S.D.Bruck, Inter J.Artificial Organs,1990,13:469-471

[11]W ang Dong-An,CHEN Bao-Lin,JI Jian ,FENG Lin-Xian ,American Chemical Society,Bioconjugate Chem,2002,13(4):792-803.(SCI)

[12]Chen Bao-Lin,J.Hulunbeier College〔J〕,2003,11(4):50-3

[13]Norbert Weber et al. Homocompatibility of heparin-coated surfaces and the role of selective Plasma Protein adsorption. Biomaterials,2002,23:429-439

[14]Pitt W G,Grasel T G,Cooper S L.Albumin adsorption on alkyl chain derivatized polyurethanes: 11.the effect of alkyl chain length.J Biomed Mater Res,1988,9:36-46

[15]Bouaziz A,Richert A et al.Morphological aspects of endothelial cells cultured in the absence of fetal calf serum. Biomaterials,1996,17:2281

[16]Kawamoto Y,et al.Endothelial Cell on plasma-treated segmented-polyurethane,Adhesion strength,antithrombogenieity and cultivation tubes. J Mater Sci Mater in med,1997,8:551 [17]Y.Suzukia. Ion implantation into collagen for the substrate ofsmall diameter Artificial grafts.

Nuclear Instruments and Methods in Physics Research section B:1997,127-128:1019-1022 [18]Hubbell JA,Massia AP. Endothelial cell-Selective materia1s for tissue engineering in the vaseular graft via a new receptor. Bio/Teehnology,1991,9:568-720

[19]Thornton S C,Mueller S N and Levine E M. Human endothelial cells. Use of heParin in cloning and long-term serial cultivation. Science,1983,222:623-625

[20]Henchl L,[J].Biomaterial,1998,19:1419-1423

[21]吴进明.[J].硅酸盐学报,2003,31(7):692-697

[22]王露.钛氧膜表面纤连蛋白的固定及内皮细胞生长行为研究.成都:西南交通大学,硕士,2006

[23]白薇,陈治清,张敏等.氨基注入钛表面及其微观分析.华西口腔医学杂志.2003.21(1):22-24

[24]李新昌.不同结构氧化钛薄膜的表面活化及其对生物相容性的影响.成都:西南交通大学,硕士,2005

[25]菅盘铭,夏亚穆,李德宏,等.掺杂TiO2纳米粉的合成、表征及催化性能研究[J].催

化学报,2001,22(2):161-164

[26]Gesenhues U. Calcination of metatianjum acid to titanium dioxide white pigments[J]. Chem Eng Techn,2001,24(7):685

[27]何建波,张鑫,魏凤玉,等. TiO2薄膜晶相组成对苯胺光催化降解的影响[J].应用化学了,1999,16(5):57

[28]Jing L Q,Xu Z L. The surface properties and photocatalytic activities of ZnO ultrafine particles [J] Appl Surf Sci,2001,180(324):308

[29]陈崧哲,张彭义,祝万鹏,等.不同基材上TiO2膜的表征和光催化活性评价[J].催化学报,2004,25(8):641

[30]卢萍,姚明明,张颖,等.过渡金属离子的掺杂对TiO2光催化活性的影响[J].感光科学与光化学,2002,20(3):185

[31]陈俊涛,李新军,杨莹等.稀土元素掺杂对TiO2薄膜光催化性能的影响[J].中国稀土学报,2003,21:67

[32]李晓红,颜秀茹,张月萍等. TiO2/SnO2复合光催化剂的制备及光催化降解敌敌畏[J].

应用化学,2001,18(1):32

中国矿业大学

科研创新报告

姓名:万伟

学号:14085591

班级:成型08-2

学院:材料科学与工程学院

专业:材料成型及控制工程

题目:钛氧膜的结构及性能研究

指导教师:王鹏

导师评语:

导师签名:

类金刚石薄膜的分子动力学研究

Material Sciences 材料科学, 2014, 4, 145-151 Published Online July 2014 in Hans. https://www.360docs.net/doc/5b10438555.html,/journal/ms https://www.360docs.net/doc/5b10438555.html,/10.12677/ms.2014.44022 The Molecular Dynamics Simulation on the Diamond-Like Carbon Films Minyong Du1, Ming Zhang1*, Jizhou Wei1, Haoliang Deng1, Shangjie Chu1, Kun Ren2 1College of Materials Science and Engineering, BeiJing University of Technology, Beijing 2College of EE and CE, Beijing University of Technology, Beijing Email: duminyong@https://www.360docs.net/doc/5b10438555.html,, *mzhang@https://www.360docs.net/doc/5b10438555.html, Received: May 28th, 2014; revised: Jun. 25th, 2014; accepted: Jul. 4th, 2014 Copyright ? 2014 by authors and Hans Publishers Inc. This work is licensed under the Creative Commons Attribution International License (CC BY). https://www.360docs.net/doc/5b10438555.html,/licenses/by/4.0/ Abstract The research and application of the diamond-like carbon films are very extensive since it was found due to the superior properties. Therefore, we had begun to study using molecular simula-tion methods in order to get better properties and explore better structure as early as the 1980s. In this background, the paper describes the development of the case of the diamond-like carbon films’ study, and gives a brief summary for the representative study of each period. Then, we point out some of the key issues that the diamond-like simulation faces and give the prospect for its fu-ture development at the end of this paper. Keywords Diamond-Like Carbon Films, Molecular Dynamics Simulation, Interatomic Potentials 类金刚石薄膜的分子动力学研究 杜敏永1,张铭1*,魏纪周1,邓浩亮1,楚上杰1,任坤2 1北京工业大学,材料科学与工程学院,北京 2北京工业大学,电子信息与工程学院,北京 Email: duminyong@https://www.360docs.net/doc/5b10438555.html,, *mzhang@https://www.360docs.net/doc/5b10438555.html, 收稿日期:2014年5月28日;修回日期:2014年6月25日;录用日期:2014年7月4日 *通讯作者。

类金刚石薄膜界面结合力的改善技术

类金刚石薄膜界面结合力的改善技术 赵洋1 (1.西南大学材料科学与工程学院,重庆400715) [摘要] 本文对当前国内外改善DLC薄膜界面结合力的技术进行了综述,包括改善沉积工艺、掺杂、过渡层设计等,为改善DLC薄膜结合力提供依据。 [关键词]类金刚石薄膜;内应力;结合力 technology of improving the interfacial adhesion of DLC films Zhao Yang1 (1.School of Materials Science and Engineering,Southwest University,Chongqing 400715,China;) [Abstract] Current domestic and international technology of improving the interfacial adhesion of DLC films are summarized in this paper in order to supply the accordance of improving the adhesion,which includes the changing of deposition parameters, doping, interlayers, and so on. [Key words] DLC films; intrinsic force;adhesion 1 引言 类金刚石薄膜(DLC),具有类似于天然金刚石的性质,是一种新型的硬质润滑功能薄膜材料[1],薄膜中的碳原子部分处于sp2杂化状态,部分处于sp3杂化状态,同时也有极少数处于sp1杂化状态[2]。由于具有优良的光、电和力学特性, 在工业上具有广泛的应用前景[3~4], 近年来DLC膜在许多方面已得到了工业化应用, 如在切削刀具, 自动化机械零部件等的表面涂层处理上。 然而,DLC膜的一个致命弱点是内部应力很高, 有些DLC膜应力高达10G Pa,使得薄膜的结合力特性较差、不易厚膜化,从而极大地限制了它的应用范围。这主要是由于DLC薄膜在沉积过程中,离子对基体表面的轰击和注入,使得膜基之间存在较大的应力,再加上本身具有的化学惰性, 难以与基体形成化学健合, 使得其与一些常用的衬底材料难于形成强固的粘合层。为改善DLC薄膜的特性,尤其是界面结合力,许多科研工作人员从多方面进行了探索和研究。目前,国内外改善DLC薄膜界面结合强度主要是从本征应力和界面应力的控制两方面来着手。其中,通过改变工艺参数、掺杂第三元素[5]、引入中间过渡层或进行退火后处理[6]等方式来改善DLC膜结合力是目前技术研究的热点。 2 DLC结合力改善技术

压电薄膜材料的性能与性能特点

压电薄膜材料的性能与性能特点 压电材料是实现机械能与电能相互转换的功能材料,它的发展有着十分悠久的历史。自19世纪80年代从CURIE 兄弟在石英晶体上发现了压电效应后,压电材料开始引起人们的广泛注意,随着研究深入,不断涌现出大量的压电材料,如压电功能陶瓷材料、压电薄膜、压电复合材料等。这些材料有着十分广泛的用途,在电、磁、声、光、热、湿、气、力等功能转换器件中发挥着重要的作用。 PVDF压电薄膜 PVDF压电薄膜即聚偏氟乙烯压电薄膜,在1969年,日本人发现了高分子材料聚偏氟乙烯(polyvinylidene fluoride polymer) 简称PVDF,具有极强的压电效应。 PVDF薄膜主要有二种晶型即α型和β型,α型晶体不具有压电性,但PVDF膜经滚延拉伸后,原来薄膜中的α型晶体变成β型晶体结构。拉伸极化后的PVDF 薄膜在承受一定方向的外力或变形时,材料的极化面就会产生一定的电荷,即压电效应。 与压电陶瓷和压电晶体相比,压电薄膜主要有以下优点: (1)质量轻,它的密度只有常用的压电陶瓷PZT的四分之一,粘贴在被测物体上对原结构几乎不产生影响,高弹性柔顺性,可以加工成特定形状可以与任意被测表面完全贴合,机械强度高,抗冲击; (2)高电压输出,在同样受力条件下,输出电压比压电陶瓷高10倍; (3)高介电强度,可以耐受强电场的作用(75V/um),此时大部分压电陶瓷已经退极化了; (4)声阻抗低,仅为压电陶瓷PZT的十分之一,与水、人体组织以及粘胶体相接近;(5)频响宽,从10-3Hz到109均能转换机电效应,而且振动模式单纯。 因此在力学中可以测量应力和应变,在振动中可以制作加速度计和振动模态传感器,在声学上可以制作声辐射模态传感器和超声换能器以及用在主动控制中,在机器人研究中可以

金刚石薄膜的性能研究

金刚石薄膜的性能研究 金刚石薄膜的应用 由于金刚石的优异性质,加上CVD法大大降低了金刚石的生产成本而CVD金刚石薄膜的品质逐渐赶上甚至在一些方面超过天然金刚石而使得金刚石薄膜广泛地用于工业的许多领域: 1 工具领域 随着汽车、航空和航天工业的发展以及对材质轻量化、高比强度的要求日益提高,有色金属、碳纤维增强塑料(CFRP)、玻璃纤维增强塑料(GFRP)、纤维增强金属(FRM)以及石墨、陶瓷等新材料在工业中的应用日益广泛,因而对加工这些材料的刀具提出了更高的要求,金刚石的高硬度,耐磨损,高热导,低热膨胀系数,低摩擦系数,化学惰性等优点使得金刚石是加工非铁系材料的理想工具材料。HTHP金刚石在二十世纪60年代就被用于刀具领域,但由于其制备工艺复杂,价格昂贵,刀具种类受限而限制了其在工业上的广泛应用;将金刚石薄膜直接沉积在刀具表面,能极大地延长刀具的使用寿命,加工质量也大为提高。 2 热沉领域 目前国内半导体功率器件采用铜作热沉,在同时要求绝缘的场合采用氧化铍陶瓷。但氧化铍在制备过程中有剧毒物质产生,在发达国家已禁止使用。金刚石在室温下具有最高的热导率,是铜、银的5倍,又是良好的绝缘体,因而是大功率激光器件、微波器件、高集成电子器件的理想散热材料 采用金刚石热沉(散热片)的大功率半导体激光器已经用于光通信,在激光二极管、功率晶体管、电子封装材料等方面都有应用;金刚石热沉商品也已在国外市场出现。金刚石热沉的另一应用前景是用于正在发展之中的多芯片技术(MCMs,Multi Chip Modules),这一技术的目标是把许多超大规模集成电路芯片以三维的方式紧密排列结合成为超小型的超高性能器件,而这些芯片的散热则是该技术的关键,显然金刚石薄膜是解决这一技术难题最理想的材料。 3 光学应用领域 金刚石的光学吸收在0.22μm左右,相当于真空紫外光波段,从此位置直到毫米波段,除位于~5μm附近由于双声子吸收而造成的微弱吸收峰(吸收系数~12.3cm-1)外,不存在任何吸收峰。 金刚石膜作为光学涂层的应用前景非常好。在军事可用作红外光学窗口和透镜的涂层。在民用方面可用作在恶劣环境(如冶金,化工等)下工作的红外在线监测和控制仪器的光学元件涂层。CVD金刚石膜通常沉积温度在800~1000℃左右,大多数光学材料衬底都不允许在这样高的温度下沉积金刚石膜,因此在低温下沉

金刚石材料的功能特性研究与应用

陶瓷专题 金刚石材料的功能特性研究与应用 高 凯,李志宏 (天津大学材料科学与工程学院,天津 300072) Study and Application on Functional Properties of Diamond Materials GAO Kai,LI Zhi hong (S chool of M ater ial S cience and Engineer ing,T ianj in Univer sity,T ianj in300072,China) Abstract:Functional properties of diamo nd mater ials and its study and application recent years on w ide bandg ap semiconducto rs,ultraviolet detectors,sing le pho to n source for quantum computer,so nic surface diffusion and electronic encapsulatio n w ere reviewed in this paper,and other po tential application on func tional proper ties of the diamond materials w ere expected. Key words:Diamo nd,Functional proper ty,Study,Application 摘要:本文综述了金刚石的功能特性及其近年来在宽禁带半导体、紫外探测器、量子计算机用单光子源、声波材料和电子封装等方面的研究与应用进展,并对金刚石材料在其它功能特性方面的开发与应用前景提出了展望。 关键词:金刚石;功能特性;研究;应用 中图分类号:TB33 文献标识码:A 文章编号:1002-8935(2010)04-0009-05 金刚石是目前工业化生产的最硬材料,其前通常利用其硬度特性广泛地作为加工、研磨材料。但它除了具有高硬度之外,其许多优异特性被逐渐发现和挖掘,如室温下高热导率、极低的热膨胀系数、低的摩擦系数、良好的化学稳定性、大的禁带宽度(5 5eV)、高的声传播速度、掺杂诱导的半导体特性以及高的光学透过率,使其在机械加工、微电子器件、光学窗口及表面涂层等许多领域有着广阔的应用前景。因此,金刚石材料的功能特性研究与应用引起了人们极大的兴趣,并在很多领域取得了突破和进展。 1 在宽禁带半导体方面的研究与应用 金刚石作为一种宽禁带半导体,在光电子学中的应用前景无疑是最引人注目的。但是由于n型金刚石半导体掺杂存在着一定的困难,使制备同质结的困难加大,目前领先的依然是麻省理工学院有关于金刚石薄膜p n结的研究[1],2001年麻省理工学院的Koizumi等第一次制备了金刚石薄膜p n结,在金刚石单晶的(111)面上以同质外延生长的方法制备了两层金刚石薄膜,p型半导体使用B元素掺杂金刚石薄膜而成,n型半导体则以P元素掺杂制备,然后他们对这个装置进行了改进,在施加20V 偏压电路的情况下,装置被激发出了紫外光,并且指出,该装置可以在高温下运作。Alexo v A等[2]则在掺杂B元素后的金刚石薄膜上用同质外延法制备了一层掺杂N元素的金刚石薄膜,但是并没有详细报道此p n结的电致发光等特性。之后有关同质结的报道很不常见,估计主要是还是因为金刚石n型半导体掺杂的可重复性存在着一定的困难所致,目前报道都集中于金刚石半导体异质结上,比如,已在Si晶片上生长含B金刚石薄膜[3],或者是制备肖特基二极管(Schottky diodes)和场效应晶体管(Field effect transisto rs,FET)。 1987年化学气相沉积(CVD)法制备含B金刚石薄膜的方法并不完善,所以Geis等[4]用合成含B 金刚石单晶的方法制备了由W元素接触的首个金刚石肖特基二极管,并在700下考察了样品的性能,确定了样品具有很高的击穿场强。同一课题组的相关人员进一步考察了不同金属元素接触对金刚石肖特基二极管性能的影响[5],大量的工作表明,使用Al,Au,H g元素作为含B金刚石的表面接触元

类金刚石薄膜制备和应用

类金刚石膜调研 类金刚石薄膜发展史: 金刚石、类金刚石薄膜技术,是指利用各种光学薄膜制作技术制作接近天然金刚石和人造单晶金刚石特性(如在较宽光谱内均具有很高的光透过率--在2~15μm(微米)范围光的吸收率低到1%;具有很高的硬度、良好的导热性、耐腐蚀性以及化学稳定性高--1000℃(摄氏度)以上仍保持其化学稳定性等)的人造多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜(又称为硬碳膜、离子碳膜、或透明碳膜)的一种技术。 光学应用金刚石、类金刚石薄膜主要采用低压化学汽相沉积(CVD)技术制备。低压CVD 技术包括热丝CVD法、等离子体CVD法、离子束蒸镀法、光/激光CVD法附加活性氢激光CVD 法等。 目前,CVD法制作金刚石薄膜已取得丰硕成果,但作为红外光学薄膜应用还需进一步解决金刚石薄膜对红外光学材料的粘着性和光散射的问题。CVD法制作的金刚石薄膜与硅基片的粘着性是不错的,但是与其他材料(如锗、硫化锌等)基片的粘着性就甚差,或是根本就粘着不到一起去。对于光散射的问题,则是要求如何更好地控制金刚石薄膜表面形态和晶粒结构。理想的CVD法制造的红外光学应用的金刚石薄膜或许是一种单晶结构的膜,但是,目前使用CVD法还不能制造单晶结构的金刚石薄膜。此外,大面积薄膜的制作、膜的光洁度等技术课题以及金刚石薄膜的制作成本问题,都有待于继续研究解决。 1.1金刚石、类金刚石薄膜研究进展 自1963年在一次偶然的机会出现了不寻常的硬度和化学性能好的化学汽相沉积(CVD)碳形式的薄膜后,国外有不少研究单位开始研究金刚石薄膜的沉积工艺.1971年,艾森伯格(Aisenberg)和沙博(Chabot)等人,利用离子束蒸镀法,以石墨作薄膜材料,通过氩气弧光放电使石墨分解电离产生碳离子。碳离子经磁场聚焦成束,在比较高的真空条件下,在低压沉积室内的室温下的基片上沉积出了硬碳膜。这种硬碳膜具有近似于金刚石的一些特性-如透明度高、电阻抗大、硬度高等。当时,这种膜被人们称作i形碳。直到1976年,斯潘塞(Spencer)等人对这种应碳膜的结构进行了探讨,结果确认膜中有金刚石等数种碳系结晶,后才被人们称之为类金刚石膜。就在这一年,德贾吉恩(Derjaguin)等人利用化学转变法合成出了金刚石薄膜。从此之后,低压CVD金刚石薄膜工艺引起了人们的注意。70年代中期,前苏联

类金刚石薄膜的性能与应用

学科前沿知识讲座论文

类金刚石薄膜的性能与应用 摘要: 类金刚石膜(Diamond-like Carbon)简称DLC,是一类性质类似于金刚石如具有高硬度、高电阻率、耐腐蚀、良好的光学性能等,同时其又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳膜。作为功能薄膜和保护薄膜,其广泛应用于机械、电子、光学、医学、航天等领域中。类金刚石膜制备方法比较简单,易实现工业化,具有广泛的应用前景。 关键词:超硬材料类金刚石薄膜制备气象沉积表面工程技术引言 磨损是工程界材料功能失效的主要形式之一,由此造成的资源、能源的浪费和经济损失可用“巨大”来表示。然而,磨损是发生于机械设备零部件表面的材料流失过程,虽然不可避免,但若采取得力措施,可以提高机件的耐磨性。材料表面工程主要是利用各种表面改性技术,赋予基体材料本身所不具备的特殊的力学、物理或化学性能,如高硬度、低摩擦系数、良好的化学及高温稳定性、理想的综合机械性能及优异的摩擦学性能,从而使零部件表面体系在技术指标、可靠性、寿命和经济性等方面获得最佳效果。硬质薄膜涂层因能减少工件的摩擦和磨损,有效提高表面硬度、韧性、耐磨性和高温稳定性,大幅度提高涂层产品的使用寿命,而广泛应用于机械制造、汽车工业、纺织工业、地质钻探、模具工业、航空航天等领域。

一、超硬薄膜材料 随着材料科学和现代涂层技术的发展,应用超硬材料涂层技术改善零部件表面的机械性能和摩擦学性能是21世纪表面工程领域重要的研究方向之一。超硬薄膜是指维氏硬度在40GPa以上的硬质薄膜。到目前为止,主要有以下几种超硬薄膜: 1 金刚石薄膜 金刚石薄膜的硬度为50~100GPa(与晶体取向有关),从20世纪80年代初开始,一直受到世界各国的广泛重视,并曾于20世纪80年代中叶至90年代末形成了一个全球范围的研究热潮。金刚石膜所具有的最高硬度、最高热导率、极低摩擦系数、很高的机械强度和良好化学稳定性的优异性能组合使其成为最理想的工具和工具涂层材料。金刚石薄膜在摩擦学领域应用的突出问题,就是在载荷条件下薄膜与基体之间的粘附强度以及薄膜本身的粗糙度问题,目前,己经有针对性地开展了大量的研究工作。随着研究工作的不断深入,金刚石薄膜将会为整个人类社会带来巨大的经济效益。 2 立方氮化硼(c-BN)薄膜 立方氮化硼(c-BN)薄膜的硬度为50~80GPa,它具有与金刚石相类似的晶体结构,其物理性能也与金刚石十分相似。与金刚石相比,c-BN的显著优点是具有良好的热稳定性和化学稳定性,适用于作为超硬刀具涂层,特别是用于加工铁基合金的刀具涂层。 3 碳氮膜 碳氮膜是新近开发的超硬薄膜材料,理论预测它具有达到和

化学气相沉积金刚石薄膜及其应用进展

化学气相沉积金刚石薄膜及其应用进展 摘要:化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术。化学气相淀积法已经广泛用于提纯物质、研制新晶体、淀积各种单晶、多晶或玻璃态无机薄膜材料。本文简单综述了化学气相淀积金刚石薄膜,又简单介绍了金刚石薄膜在各工业领域内的应用进展情况,并对其发展前景作了展望。 关键词:金刚石薄膜热灯丝CVD法微波等离子体CVD法 前言金刚石在所有已知物质中具有最高的硬度,室温下有最高的热导率,对光线而言从远红外区到深紫外区完全透明,有最低的可压缩性,极佳的化学惰性,其生物兼容性超过了钛合金等等。然而由于天然金刚石数量稀少,价格昂贵,尺寸有限等因素,人们很难利用金刚石的上述优异的性能。根据天然金刚石存在的事实以及热力学数据,人们一直想通过碳的另一同素异形体——石墨来合成金刚石。但由于金刚石与石墨之间存在着巨大的能量势垒,要将石墨转化为金刚石,必须使用高温高压技术来人工合成,使得人工高温高压合成的金刚石价格昂贵。 20世纪80年代初开发的化学气相沉积(CVD)制备的金刚石薄膜,不仅成本低,质量高,而又可大面积制备,使人们大规模应用金刚石优异性质的愿望,通过CVD法合成金刚石薄膜得以实现。金刚石膜具有极其优异的物理和化学性质,如高硬度、低磨擦系数、高弹性模量、高热导、高绝缘、宽能隙和载流子的高迁移率以及这些优异性质的组合和良好的化学稳定性等,因此金刚石薄膜在各个工业领域有极其广泛的应用前景。 1金刚石薄膜制备 在低温低压下利用化学气相沉积CVD技术生长金刚石膜;含碳化合物和氢气是最主要的原料,前者提供碳源,后者提供原子态的氢,促使更多的碳转变为sp3的金刚石结构,除去未转变为金刚石的其它形态碳(sp2石墨碳或非晶碳、sp1碳)。 金刚石薄膜制备的主要CVD方法:(1)热灯丝CVD(HFCVD);(2)微波等离子体CVD(MWPCVD);(3)直流等离子体CVD(DC-CVD);(4)直流电弧等离子体射流CVD(DC-JET);(5)电子增强CVD(EACVD);(6)磁微波等离子体

塑料薄膜温室大棚结构特点-塑料薄膜温室大棚分类及性能

塑料薄膜温室大棚结构特点-塑料薄膜温室大棚分类及性能 塑料薄膜温室大棚是一种集各类大棚优势于一身的复合型大棚。塑料薄膜温室大棚外表覆盖塑料薄膜,不仅能充分的吸收阳光,更能起到很好的保温作用,使温室大棚内的作物有适宜的的温度能更好的生长。塑料薄膜温室大棚外表的塑料薄膜还具有保护作用。现在小编手上有塑料薄膜温室大棚的结构特点与分类及其性能的资料,接下来就和大家分享一下。 塑料薄膜温室大棚-简介 薄膜温室大棚的塑料薄膜由于价格低廉、使用方便,能较好地改善农作物生长发育条件、提高产量、改善品质,因而在国内外温室覆盖上得以迅速发展。 在目前,用于薄膜温室大棚的薄膜产品主要有PVC薄膜、PE薄膜和EVA薄膜。这三种是薄膜温室大棚中常用的覆盖材料。 我国农用薄膜温室大棚中塑料薄膜的总产量中,以PE薄膜占主导地位。PVC薄膜由于生产幅宽的限制和静电污染等缺点,其在薄膜温室大棚中的应用受到较大的局限。 塑料薄膜温室大棚-结构特点 ﹙1﹚结构简单由于覆盖材料的特点,塑料温室的承重结构、固膜系统、安装要求等相对简单。其承载结构采用热浸镀锌轻钢或普通钢结构,一般采用无檩体系的承重系统,纵向杆件作为系杆和连系梁使用,这样就大大简化了结构,减少了用钢量。当温室采用覆盖材料与屋面非机械性连接时,屋面仅承受重力荷载和正风压,而将风压传递至天沟和立柱也就大大优化了温室结构的受力。

﹙2﹚结构形式灵活多样由于塑料温室结构特点,加之在大型塑料温室的发展过程中,受地域、客户需求等因素影响较多,世界各国均以自己的标准为基础进行塑料温室的生产和推广。因此形成了大量不同形式、不同规格的塑料温室产品,如不同跨度、高度和屋面形状的圆拱形顶温室、双圆拱尖屋面温室、锯齿形温室、小圆拱多屋面温室等。正因为如此,迄今为止,很难对塑料温室的单体尺寸进行中总结和描述。 塑料薄膜温室大棚-分类及性能 ﹙1﹚锯齿形温室锯齿形温室根据屋面的造型,可分为3种型式,由于通风面积大,锯齿形温室的自然通风效果一般要比拱圆顶温室好,据测定,这种温室在外遮阳配合下,其自然通风效果基本能达到室内外温差 1~3℃。但这种温室天窗的密封效果往往较差,在我国夏季气温较高、冬季温度不很低的南方地区推广具有较好的经济效益,但在夏季燥热、冬季寒冷的地区不太适宜。﹙2﹚双层充气温室双层充气温室与传统的塑料薄膜温室除覆盖材料为双层充气膜外,其他几乎没有多大区别。由于采用了双层充气膜覆盖,温室的保温性能提高了30%以上,但同时温室的透光率也下降了10%左右。在我国光照充足而冬季气温较低的北方地区使用有较好的经济效益,但到长江以南使用,由于冬季光照不足,而气温又较高,双层充气的节能效果难以弥补由于透光不足而带来的损失,所以,一般不宜采用。 ﹙3﹚双层结构温室双层结构温室的目的也是为了取得双层充气温室的节能效果,但在结构处理上采

纳米金刚石薄膜的性能研究

纳米金刚石薄膜的性能研究 摘要:纳米金刚石薄膜的优异性能吸引了众多学者的关注,同时也成为CVD金刚石薄膜研究领域的新热点。它在很多领域都具有极好的应用前景,是我们将来生活中不可或缺的一种薄膜材料。本文简单介绍了纳米金刚石薄膜的一些应用,并主要从光学、力学和电学的角度对其性能做了详细阐述。 关键词:纳米金刚石薄膜性能 Properties of Nanocrystalline Diamond Films Abstract:The excellent properties of nanocrystalline diamond films are of interest for many researchers and have become a new hot point in the development of diamond films prepared by chemical vapor deposition. It has good prospects in many fields, and became an indispensable film material of our lives. The paper introduced briefly the applications of nanocrystalline diamond films, while its properties were described in detail mainly from the optical, mechanical and electrical points. Keywords:nanocrystalline diamond films properties

几种CVD制备金刚石薄膜的方法

几种CVD制备金刚石薄膜的方法 1.热丝CVD法 此法又称为热解CVD法,Matsumoto等人采用热丝CVD法成功地生长出了金刚石薄膜。该法是把基片(Si、Mo、石英玻璃片等)放在石英玻璃管做成的反应室内,把石英管内抽成真空后,把CH4和H2的混合气体输人到装在管中的钨丝附近(两种气体的流量比为0.5%-5%)。用直流稳压电源加热钨丝到约2000℃,反应室内温度为700~900℃,基片温度为900℃左右,室内气体压力为1×103-1×105Pa。在这样的反应条件下,CH4和H2混合气中的H2被热解,产生原子态氢,原子态氢与CH4反应生成激发态的甲基,促进了碳化氢的热分解,促使金刚石SP3杂化C-C键的形成,使金刚石在基片上沉积,获得立方金刚石多晶薄膜。沉积速率为8-10μm/h 我国的金曾孙等人也用热丝CVD法生长出质量很好的金刚石薄膜。实验表明,基片温度和甲烷的浓度是薄膜生长最为重要的参数,它们对金刚石薄膜的结构、晶形、膜的质量和生长速率影响甚大。该法的特点是装置结构简单、操作方便、容易沉积出质量较好的金刚石膜。 2.电子加速CVD法 此法是在用热丝CVD法沉积金刚石薄膜过程中,用热电子轰击基片表面,加速金刚石在基片上沉积。与热丝CVD法不同的是,该法把电压正极接在用铝制成的基片架上,经加热的钨丝发射电子,电子在电场作用下轰击阳极的基片。CH4和H2的混合气体被输送到基片表面,由于热反应和热电子轰击的双重作用,使气体发生分解,形成各种具有活性的碳氢基团,促使具有双键和三键的碳离解,加速金刚石的成核和生长。基片可选用Si、SiC、Mo、WC、A12O3等材料。一般的工艺参数是:甲烷为ψ(CH4)=0.5%~2.0%;气体流速为5-50cm3/min;基片温度在500~750℃之间;钨丝温度为2000℃;基片支架的电流密度为10mA/cm2,电压150V。用此法沉积出的金刚石薄膜的性质与天然金刚石基本相同,晶形完整,生长速率一般为3~5μm/h。此法的特点是通过电子轰击基片,从而加速了CH4和H2的分解,增加了基片表面上金刚石的成核。不足之处是金刚石薄膜中夹杂有少量的无定形碳、石墨和氢。这可通过调节工艺参数加以解决。 3.直流放电等离子体CVD法 等离子体CVD包括直流等离子体、高频等离子体和微波等离子体等3种。其原理是把CH4和H2混合气体等离子化,分解成C、H2、H、C x H y基团,形成等离子体。等离子体中依靠电子的适当浓度保持电中性。因此,电子的能量高于离子或中性粒子,有各种状态的游离基发生,促使碳与基片接触,从而沉积出金刚石薄膜。由于等离子体化学反应过程很复杂,反应的机理目前还不十分清楚。 Suzuki等人用直流等离子体装置,进行了沉积实验,取得了较好的结果。他们以CH4和 H2为气源,CH4浓度为ψ(CH4)=0.3%一4.0%(体积分数),混合气体以20mL/min通人反应室,反应室的压力保持在2.67×104Pa,安装基片的阳极位于阴极上方20mm处,在1kV的电压和4 A/cm2电流密度下进行直流放电。由于电子轰击,基片温度可达800℃,此时基片上便有金刚石析出。其中基片温度可通过冷却水的流速来调节,用该法生长出的金刚石结晶形态好,薄膜的生长速率高达2Oμm/h。该方法的特点是设备相对简单,放电区域大,可做出较大面积且均匀的金刚石薄膜。

CVD金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量

国家自然科学基金资助项目(项目编号50005013) CVD 金刚石薄膜窗口试样制备及力学性能测量 3 200030 上海交通大学机械动力工程学院 晋占峰 孙方宏 简小刚 胡 斌 陈 明 摘 要 本文以氢气和丙酮为原料,采用电子增强热丝C VD 法,在硅片(100)基体上沉积一层金刚石薄膜,并采用光刻法和湿式各向异性刻蚀技术制备出金刚石薄膜自支撑窗口试样。实验结果表明,所制备的金刚石薄膜自支撑窗口刻蚀彻底,形状规则,能够很好地满足鼓泡法的实验要求,对C VD 金刚石薄膜力学性能的测量具有重要意义。 关键词 金刚石薄膜 硅基体 化学刻蚀 鼓泡法ABSTRACT Diam ond thin film is deposited on silicon slice (100),using hydrogen and acetone as gas res ource ,by means of electron -enhanced hot filament chemical vapor deposition (HFC VD ).Free -standing window sam ple of diam ond thin film was fabricated by means of photolithography and anis otropic wet etching.According to the test results ,the window of the sam ple was etched thoroughly and the window figure of the sam ple was regular.S o ,the sam ple is very suitable for bulge test.It is significant for testing of performance of C VD diam ond thin film. KE YWOR DS diam ond film ;silicon substrate ;chemical etching ;bulge test 1 引言 近年来,采用化学气相沉积(C VD )法、等离子化学气相沉积(PC VD )法、火焰燃烧法、物理气相沉积(PVD )法、化学气相输运法、粒子束沉积法以及激光化学气相沉积(LEC VD )法等来制备金刚石薄膜材料的研究已经取得了突破性进展,金刚石薄膜的制备与应用已经成为薄膜材料领域中一个重要的研究方向。金刚石薄膜的制备和实际应用与其力学性能密切相关。对金刚石薄膜的弹性模量、泊松比、残余应力等力学性能的测量在技术上仍然有很大的难度,这直接制约着金刚石薄膜材料的推广应用。在已有的薄膜力学性能测量方法中,只有鼓泡法最有可能发展成为综合评价薄膜材料各项性能的有效方法。鼓泡法是在带有薄膜的试样上制出薄膜窗口,通过测试装置向薄膜施加压力,使薄膜受到均布载荷而产生变形,变形量与薄膜的力学性能有关,通过测量压强和薄膜的变形,得到其中的关系,可以计算出薄膜的力学性能。 鼓泡法测量金刚石薄膜的力学性能的关键技术是金刚石薄膜窗口试样的制备。本文基于鼓泡法的基本原理,研究了金刚石薄膜自支撑窗口试样的制备方法,阐述了鼓泡法测量金刚石薄膜力学性能的方法。采用自行设计的硅片夹持器固定试样,使刻蚀液无法接触到沉积在硅片下表面的金刚石薄膜,因而可以保证在刻蚀硅基体形成自支撑窗口的同时不会损坏到薄膜。 经实验研究表明:所制备的金刚石薄膜自支撑窗口形状规则,刻蚀彻底,残余内应力小,能够很好地满足鼓泡法的实验要求。在此基础上,进一步研究了应用鼓泡法测量金刚石薄膜力学性能的基本原理和实验装置,对于金刚石薄膜的推广应用具有重要意义。2 金刚石薄膜窗口的制备方法 窗口制作过程示意图如图1所示 : 图1 在硅基体上制作金刚石薄膜窗口的过程示意图 实验中我们采用的是2英寸硅片(100),单面抛光,进行高温氧化,在硅片表面生成一层致密的二氧化硅薄膜;用0.5微米的金刚石微粉对硅片抛光面上的二氧化硅层进行研磨除去该二氧化硅层,未抛光的那 ? 3?2002.4(132)

200915010121化学气相沉积(CVD ) 金刚石薄膜

化学气相(CVD ) 金刚石薄 膜的 主要制备方法及应用

?金刚石又名钻石, 是碳的同素异构体, 属于立方晶系, 具有面心立方结构, 典型的原子晶体。金 刚石具有很多无与伦比的优异性能, 机械特性、 热学特性、透光性、纵波声速、半导体特性及化 学惰性等, 在自然界所有的材料中均是首屈一指的。例如: 金刚石硬度是自然界中硬度最高的, 热导率是已知材料中最高的(是铜的热导率5 倍) , 高绝缘性和从红外到紫外极宽的透光性??。由于 自然界中金刚石储量极少,

, 因此价格昂贵, 而且无论天然金刚石还是高温高压下合成的人造金刚石都是离散的颗粒状, 应用范围受到了很大限制。近几年, 发达国家对化学气相沉积(简称CVD) 金刚石膜制备及应用开发研究进行了大量投资。由于CVD 金刚石制造成本低, 可以大面积化、曲面化, 而且其厚度可按需要从不足1Lm 直至数毫米, 而且制备出的CVD 金刚石薄膜物理性和天然金刚石基本相同或接近, 化学性质完全相同, 使金刚石的应用领域大大扩大。

制备方法1. 1热灯丝CVD 法 (HFCVD) (如图1)

热灯丝CVD 法是在基片表面的附近用5 0. 15mm 左右螺旋钨丝通电加热、钨丝温度控制2000~2200℃。真空室压力控制40 乇左右, 基片温度控制在700~1000℃左右, 基片与钨丝距离l<10mm , 然后通入CH4 和H2 混合气体,使它们激发离解, 从而在基片表面生成金刚石。此法的改良形式是EACVD 法,实际上就是在热丝CVD 基础上给基片加一个150V 左右偏压, 使薄膜在沉积过程中同时受到电子的轰击, 可使薄膜中沉积速率得到提高。 此方法简单易行,缺点是沉积速度较慢v <10Lm?h , 不均匀, 工艺稳定性差, 易污染。

金刚石膜的应用以及制备方法

金刚石膜的应用以及制备方法 ——————微波等离子体CVD制备金刚石膜 前言: 随着对金刚石的深入研究以及广泛应用,对硬质碳素材料有了进一步探索和需求,因此渴望找到一种可以代替金刚石的的材料。自从1971年Aisenberg和Chabot第一次利用碳的离子束沉积技术制备出具有金刚石特征的非晶碳膜以后,全球范围内掀起了制备类金刚石薄膜的浪潮。金刚石膜具有高硬度、低摩擦系数、高弹性模量、高热导、高绝缘、高稳定性、宽能隙和载流子高迁移率等优异性质和这些优异特性的组合,是一种在传统工业、军事、航天航空和高科技领域具有广泛应用前景的新材料,被称为是继石器时代、青铜器时代、钢铁时代、硅时代以来的第五代新材料,亦被称为是继塑料发明以来在材料科学领域的最伟大的发明。 微波等离子体化学气相沉积金刚石膜(简称:CVD金刚石膜),具有沉积速度快、纯度高、成膜均匀、面积大、结晶好、成本低等优点,是当今国际上制备金刚石膜的最先进方法,亦是金刚石膜制备技术的发展方向。世界上各大金刚石膜制品公司皆主要采用微波等离子体化学气相法制备金刚石膜。 一、金刚石膜在当代社会中的重要作用。 (1)金刚石膜刀具应用 金刚石膜硬度高、热导率高、摩擦系数低、生物相容性好以及这些优异性能的组合,可制成金刚石膜的切削刀具、机芯、密封件、人工关节等。使用金刚石膜工具不仅可以极大提高工具的使用寿命与工效,还可以极大提高加工精度。更重要的是解决了超硬合金、陶瓷材料、碳纤维、玻璃纤维等超难加工材料的切削加工难题,为高、新、精、尖技术和工艺的发展奠定了基础。 (2)金刚石膜光学应用

使用微波等离子体化学气相法沉积金刚石膜于镜头、钟表、仪表等表面,可制造真正的永不磨损镜头和钟表等,并极大提高光学镜头的适用范围和成像质量,适应各种恶劣的环境。美国哈勃望远镜的镜头使用了表面沉积金刚石薄膜技术,以适应外太空的恶劣环境和提高成像质量。 (3)金刚石膜航天应用 金刚石膜具有良好的抗辐照性能,以金刚石膜为基底的电子器件在高空电离辐射、热辐射和宇宙射线的作用下仍能保持良好的工作性能,在航天器中具有重要的应用。使用微波等离子体化学气相法沉积金刚石膜于窗口表面,可以充分利用其高硬度、高热导等特性,制造各种航天器和深海设备的观察窗口。美国发射的金星探测器的观察窗口就使用了金刚石膜技术。 (4)金刚石膜军事应用 用金刚石膜窗口制作各种激光制导、红外制导导弹的头罩,可以极大地提高导弹的飞行速度和命中率。当导弹以10马赫飞行时,温度升到5000℃,此时制导窗口不仅要经受高温的考验,还要经受空气中微尘、水分子和空气分子的高速撞击,使用传统的ZnS、ZnSe 、Ge等材料制成的窗口即已受热变软、变形、打毛甚至变盲,而金刚石膜窗口却能安然无恙。 美国洛克希德导弹和空间公司(Lockheed Missiles and Space Company)采用CVD金刚石膜制造导弹拦截窗口,起到了很好的保护效果,并在单面镀金刚石膜后可增加透过率13%,双面镀膜后增加透过率26%。“AIM-9L Sidewinder”空对空热寻导弹,因为使用了金刚石膜窗口,大大提高了热寻的灵敏度。 (5)金刚石膜热沉应用 金刚石膜系高热导的绝缘体,用作大功率电器件的散热衬底而无需专门的冷却系统,在提高电子设备紧凑度的同时,减轻了重量,提高了电子器件的可靠性,这对于航空航天等高技术领域具有重要意义。美国F16战机的分频电路就使用了CVD金刚石膜衬底。如果卫星上全部使用金刚石膜作为电路的衬底,冷却系统将减少90%的重量,不仅尺寸大大减小,结构紧凑,而且改善了工作环境,增强了电子系统的功能和可靠性,使卫星总重量降低50%以上,发射效率成倍提高。 (6)金刚石膜电子学应用 《美国国家关键技术报告》认为:“电子和光学器件领域将是金刚石膜最终

电阻选型:厚膜、薄膜电阻特性优缺点比较

电阻选型:厚膜、薄膜电阻特性优缺点比较 薄膜电阻由陶瓷基片上厚度为 50 ?至 250 ?的金属沉积层组成(采用真空或溅射工艺)。薄膜电阻单位面积阻值高于线绕电阻或 Bulk Metal?金属箔电阻,而且更为便宜。在需要高阻值而精度要求为中等水平时,薄膜电阻更为经济并节省空间。 它们具有最佳温度敏感沉积层厚度,但最佳薄膜厚度产生的电阻值严重限制了可能的电阻值范围。因此,采用各种沉积层厚度可以实现不同的电阻值范围。薄膜电阻的稳定性受温度上升的影响。薄膜电阻稳定性的老化过程因实现不同电阻值所需的薄膜厚度而不同,因此在整个电阻范围内是可变的。这种化学/机械老化还包括电阻合金的高温氧化。此外,改变最佳薄膜厚度还会严重影响 TCR。由于较薄的沉积层更容易氧化,因此高阻值薄膜电阻退化率非常高。

由于金属量少,薄膜电阻在潮湿的条件下极易自蚀。浸入封装过程中,水蒸汽会带入杂质,产生的化学腐蚀会在低压直流应用几小时内造成薄膜电阻开路。改变最佳薄膜厚度会严重影响 TCR。由于较薄的沉积层更容易氧化,因此高阻值薄膜电阻退化率非常高。 如前所述,受尺寸、体积和重量的影响,线绕电阻不可能采用晶片型。尽管精度低于线绕电阻,但由于具有更高的电阻密度(高阻值/小尺寸)且成本更低,厚膜电阻得到广泛使用。与薄膜电阻和金属箔电阻一样,厚膜电阻频响速度快,但在目前使用的电阻技术中,其噪声最高。虽然精度低于其他技术,但我们之所以在此讨论厚膜电阻技术,是由于其广泛应用于几乎每一种电路,包括高精密电路中精度要求不高的部分。 厚膜电阻依靠玻璃基体中粒子间的接触形成电阻。这些触点构成完整电阻,但工作中的热应变会中断接触。由于大部分情况下并联,厚膜电阻不会开路,但阻值会随着时间和温度持续增加。因此,与其他电阻技术相比,厚膜电阻稳定性差(时间、温度和功率)。 由于结构中成串的电荷运动,粒状结构还会使厚膜电阻产生很高的噪声。给定尺寸下,电阻值越高,金属成份越少,噪声越高,稳定性越差。厚膜电阻结构中的玻璃成分在电阻加工过程中形成玻璃相保护层,因此厚膜电阻的抗湿性高于薄膜电阻。 金属箔电阻 将具有已知和可控特性的特种金属箔片敷在特殊陶瓷基片上,形成热机平衡力对于电阻成型是十分重要的。然后,采用超精密工艺光刻电阻电路。这种工艺将低、长期稳定性、无感抗、无感应、低电容、快速热稳定性和低噪声等重要特性结合在一种电阻技术中。

薄膜的缺陷

薄膜的组织结构是指它的结晶形态.分为四种类型;非晶态结构、多品结构、纤维结构和单晶结构。 (1)非晶态结构。 从原子排列情况来看它是一种近程有序结沟,只有少数原子排列是有秩序的,显示不出任何晶体的性质,这种结构称为非晶结构或玻璃态结构。形成非晶薄膜的工艺条件是降低吸附原子的表面扩散速率。可以通过降低基体温度、引入反应气体和掺杂的方法实现上述条件。 (2)多晶结构。 多晶结构薄膜是由若干尺寸大小不等的晶粒所组成。在薄膜形成过程中生成的小岛就具有晶体的特征(原子有规则的排列)。由众多小岛聚结形成的薄膜就是多晶薄膜。用真空蒸发法或阴极溅射法制成的薄膜,都是通过岛状结构生长起来的,所以必然产生许多晶粒间界,形成多晶结构。 (3)纤维结构。 纤维结构薄膜是晶粒具有择优取向的薄膜,根据取向方向、数量的不同分为单重纤维结构和双重纤维结构。前者是各晶粒只在一个力向上择优取向,后者则在两个方向上有择优取向。有时前者称为一维取向薄膜,后者称为二维取向薄膜。 沿C轴择优取向AlN膜的结构 在玻璃基体上的的A1N压电薄膜是纤维结构薄膜的典型代表。 生长在薄膜中晶粒的择优取向可发生在薄膜生长的各个阶段:初始成核阶段、小岛聚结阶段和最后阶段。若吸附原子在基体表面上有较高的扩散速率,晶粒的择优取向可发今年薄膜形成的初期阶段。在起始层中原了排列取决于基体表面、基体温度、晶体结构、原子半径和薄膜材料的熔点。如果吸附原于的表面扩散速率较小,初始膜层不会产生择优取向,当膜层层较厚时则形成强烈的对着蒸发源方向的取向。晶粒向蒸发源的倾斜程度依赖于基体温度、气相原于入射角度和沉积速率等。 (4)单晶结构。 单晶结构薄膜通常是用外延工艺制造的。外延生长的第一个基本条件是吸附原子必须有较高的表面扩散速率.所以基体温度和沉积速率就相当重要。在一定的蒸发速率条件下,大多数基体和薄膜之间都存在着发生外延生长的最低温度,即外延生长温度。第二个基本条件是基体与薄膜材料的结晶相溶性。第三个条件要求基体表面清洁、光滑和化学稳定性好。满足以上三个基本条件,才能制备结构完整的单晶薄膜。 薄膜的晶体结构 薄膜的晶体结构是指薄膜中各晶粒的晶型状况。晶体的主要特征是其中原了有规则的排列。

相关文档
最新文档