类金刚石薄膜的性能与应用
类金刚石薄膜 资料介绍

类金刚石膜技术基础一、类金刚石薄膜发展史:金刚石、类金刚石薄膜技术,是指利用各种光学薄膜制作技术制作接近天然金刚石和人造单晶金刚石特性(如在较宽光谱内均具有很高的光透过率--在2~15μm(微米)范围光的吸收率低到1%;具有很高的硬度、良好的导热性、耐腐蚀性以及化学稳定性高--1000℃(摄氏度)以上仍保持其化学稳定性等)的人造多晶金刚石薄膜、类金刚石薄膜(又称为硬碳膜、离子碳膜、或透明碳膜)的一种技术。
光学应用金刚石、类金刚石薄膜主要采用低压化学汽相沉积(CVD)技术制备。
低压CVD 技术包括热丝CVD法、等离子体CVD法、离子束蒸镀法、光/激光CVD法附加活性氢激光CVD 法等。
目前,CVD法制作金刚石薄膜已取得丰硕成果,但作为红外光学薄膜应用还需进一步解决金刚石薄膜对红外光学材料的粘着性和光散射的问题。
CVD法制作的金刚石薄膜与硅基片的粘着性是不错的,但是与其他材料(如锗、硫化锌等)基片的粘着性就甚差,或是根本就粘着不到一起去。
对于光散射的问题,则是要求如何更好地控制金刚石薄膜表面形态和晶粒结构。
理想的CVD法制造的红外光学应用的金刚石薄膜或许是一种单晶结构的膜,但是,目前使用CVD法还不能制造单晶结构的金刚石薄膜。
此外,大面积薄膜的制作、膜的光洁度等技术课题以及金刚石薄膜的制作成本问题,都有待于继续研究解决。
1.1金刚石、类金刚石薄膜研究进程自1963年在一次偶然的机会出现了不寻常的硬度和化学性能好的化学汽相沉积(CVD)碳形式的薄膜后,国外有不少研究单位开始研究金刚石薄膜的沉积工艺.1971年,艾森伯格(Aisenberg)和沙博(Chabot)等人,利用离子束蒸镀法,以石墨作薄膜材料,通过氩气弧光放电使石墨分解电离产生碳离子。
碳离子经磁场聚焦成束,在比较高的真空条件下,在低压沉积室内的室温下的基片上沉积出了硬碳膜。
这种硬碳膜具有近似于金刚石的一些特性-如透明度高、电阻抗大、硬度高等。
金刚石薄膜的特性及应用

7.声传播速度快, 是优良的传声材料。日 本的索尼公司已成批出售用金刚石薄膜 制造的频率达40000Hz的高保真度扬声 器。
8. 化学性能稳定, 耐腐蚀性能好。利用 该特性, 可制做核反应堆的内壁和航天器 的涂层, 还可以用作太阳能电池的减反射 膜和耐腐蚀涂层。
9.有良好的生物学性能。成都科技大学 在钦合金基体上镀金刚石薄膜制做人工 心脏瓣膜, 经测定: (1)抗凝血能力优于钦合金基体; (2)表面张力为5.4×10-2N/m, 与低温各 向同性碳接近; (3)溶血率为 3.7%, 符合标堆要求(标准 <5%)。
五、目前需要解决的问题
1.提高膜的质量和成核密度 由于制膜条件控制不当, 膜的结构成分往 往会包括金刚石相, 石墨相和碳的聚合物相, 此外还有空洞, 人们把这种膜称之为类金刚 石膜(DLC膜)。DLC膜虽然类似金刚石 膜,但毕竟比金刚石膜差, 在DLC膜中, C的 四重配位 SP3和三重配位SP2的比例对膜 的结构和性质的影响很大。一般来说, 四重 配位越多, 膜的性质越接近于金刚石。
目录
• 一、引言 • 二、金刚石薄膜的性能及其应 用 • 三、金刚石薄膜的合成方法 • 四、金刚石薄膜的分析和表征 • 五、目前需要解决的问题
三、金刚石薄膜的合成方法
1.低压化学气相沉积法(CVD法) 2.物理气相沉积法(PVD法) 3.化学气相翰运法(CVT法)
1.低压化学气相沉积法(CVD法)
该法生长金刚石薄膜所用的原料除氢气外, 碳源多用CH4及其它碳氢化合物, 如C2H2、 C2H6、C2H8等, 用甲醇、乙醇和三甲胺等有 机化合物为原料也能生长出金刚石型薄膜 ①热丝CVD法 ②等离子体增强化学气相沉积法(PCVD )
热丝CVD法
基本原理是含碳气相组分在高温下分解 离化后沉积在基体上形成金刚石膜。 热丝CVD装置如图所示, 主要由真空反 应室, 抽真空系统, 进气控制系统和 基板加热系统组成。真空反应室是 由石英管制做的, 反应室内有热灯丝, 样品支架和测温热电偶等, 样品支架 可以转动, 抽真空系统由机械泵和 真空计组成。碳源气体和氢气按一定比 例混合后进人反应室, 其流量用质量 流量计控制, 碳源气体浓度一般<= 5%(体积比)。 。
金刚石薄膜在电子设备中的应用

金刚石薄膜在电子设备中的应用随着电子科技的不断发展,电子设备一代比一代智能化,体积也越来越小,功能也越来越强大。
而金刚石薄膜的出现,则为电子设备的创新应用带来了无限的可能性。
金刚石薄膜具有硬度极高、耐磨损、耐腐蚀、导热性能好等优点,被广泛地应用在各种电子设备中。
1. 金刚石薄膜在显示和光电子学中的应用金刚石薄膜在显示和光电子学中的应用十分广泛,可以用于制作LED,FLD以及其他光学元件。
金刚石薄膜的导热特性和光学性质可以极大地提高电子元件的性能,从而使设备具有更高的可靠性和长寿命。
例如,在LED制造中,金刚石薄膜可以提高LED 灯的亮度、发光效率和寿命;在FLD制造中,金刚石薄膜还可以增强其稳定性和耐久性。
2. 金刚石薄膜在散热中的应用金刚石薄膜具有极高的导热性能,因此在高性能的电子设备中可以被用作散热材料。
利用金刚石薄膜的导热特性,可以将设备内的热量有效地散发出去,确保设备运转时的稳定性和可靠性。
同时,金刚石薄膜还可以抑制高温下电子设备的退化和损伤。
3. 金刚石薄膜在传感器中的应用传感器在现代电子设备中发挥着越来越重要的作用,而金刚石薄膜的硬度和抗腐蚀性能可以使得传感器具有更长的使用寿命和更好的性能表现。
同时,金刚石薄膜在传感器的制造中还可以起到光学和电学的作用,从而增强传感器的精度和灵敏度。
4. 金刚石薄膜在MEMS领域中的应用MEMS技术(微电子机械系统)可以将微型机械系统与电子技术相结合,产生大量的微小元件。
金刚石薄膜作为MEMS器件中的材料之一,可以提高其机械强度和耐磨损性能,使得器件更加稳定和可靠。
例如,金刚石薄膜可以用于惯性传感器制造中,提高其灵敏度和响应速度,同时在机械强度和耐磨损性方面也可以起到很好的作用。
总之,金刚石薄膜在电子设备制造中具有广泛的应用前景和很好的经济性以及環保性。
尽管目前金刚石薄膜的制造仍然存在成本高、技术瓶颈等问题,但随着技术不断的发展和完善,相信金刚石薄膜在未来一定能够得到更加广泛的应用,为电子设备的进一步发展和创新提供支持和保障。
金刚石薄膜技术及其应用

金刚石薄膜技术及其应用金刚石是一种硬度极高的天然矿物,于20世纪60年代起被学界广泛研究。
随着材料科学技术的不断进步,金刚石薄膜技术也逐渐成为研究的热点之一。
本文将从金刚石薄膜技术的原理、制备方法及其应用的方面进行阐述。
一、金刚石薄膜技术原理金刚石薄膜技术主要利用化学气相沉积(CVD)的方式在基材表面生长金刚石薄膜。
这种方法通常需要高温(在800℃以上)和高气压的气氛下进行,需要一些特殊的条件。
CVD是一种利用热分解气体在表面形成固体物质的工艺。
在CVD法生长金刚石薄膜的过程中,应先将气流中的气体分离出不含杂质、单质态的纯氢气,在高温下将氢气还原出单质氢原子,在这些氢原子的作用下,金刚石的碳原子就会在基材表面上生长。
二、金刚石薄膜技术制备方法金刚石薄膜的制备方法主要分为两大类:基于低压CVD技术和基于高压CVD技术。
基于低压CVD技术中,使用的气体通常是甲烷和氢气的混合物,在真空条件下进行反应。
将这些气体通过高温反应炉,使得甲烷分解成纯碳离子。
碳离子被氢气还原后,随后沉积在准备好的表面上,形成一层金刚石薄膜。
而基于高压CVD技术,则是在准备好的基板中,使用气压较高的气体进行反应。
这种方法通常能够得到更厚的金刚石薄膜。
三、金刚石薄膜技术的应用金刚石薄膜技术的应用场景非常广泛,以下将介绍一些典型的应用场景和案例:1. 电子技术领域金刚石薄膜是一个重要的电学材料,在电子技术领域有着广泛的应用价值。
例如,金刚石薄膜是一种优秀的绝缘材料,可以用于制造高性能半导体元件、纳米晶体管和高功率器件。
2. 机械工业领域由于金刚石薄膜极其硬度极高和耐磨性能强,在机械工业领域也有着广泛的应用价值。
例如,在高速切削和精细加工方面,金刚石薄膜的应用能够明显提高加工效率和加工精度。
另外,金刚石薄膜也可以用于制造高强度、高硬度的刀具和轴承零部件。
3. 生命科学领域除此之外,金刚石薄膜技术在生命科学领域也有另外一些应用场景。
例如,金刚石薄膜可以被用作人工眼视网膜和人工髋关节等器官的材料。
类金刚石薄膜的性能与应用

学科前沿知识讲座论文之袁州冬雪创作类金刚石薄膜的性能与应用摘要:类金刚石膜(Diamond-likeCarbon)简称DLC,是一类性质近似于金刚石如具有高硬度、高电阻率、耐腐蚀、杰出的光学性能等,同时其又具有自身独特磨擦学特性的非晶碳膜.作为功能薄膜和呵护薄膜,其广泛应用于机械、电子、光学、医学、航天等范畴中.类金刚石膜制备方法比较简单,易实现工业化,具有广泛的应用前景.关键词:超硬资料类金刚石薄膜制备气象沉积概况工程技术引言磨损是工程界资料功能失效的主要形式之一,由此造成的资源、动力的华侈和经济损失可用“宏大”来暗示.然而,磨损是发生于机械设备零部件概况的资料流失过程,虽然不成防止,但若采纳得力措施,可以提高机件的耐磨性.资料概况工程主要是操纵各种概况改性技术,赋予基体资料自己所不具有的特殊的力学、物理或化学性能,如高硬度、低磨擦系数、杰出的化学及高温稳定性、抱负的综合机械性能及优异的磨擦学性能,从而使零部件概况体系在技术指标、靠得住性、寿命和经济性等方面获得最佳效果.硬质薄膜涂层因能减少工件的磨擦和磨损,有效提高概况硬度、韧性、耐磨性和高温稳定性,大幅度提高涂层产品的使用寿命,而广泛应用于机械制造、汽车工业、纺织工业、地质钻探、模具工业、航空航天等范畴.一、超硬薄膜资料随着资料迷信和现代涂层技术的发展,应用超硬资料涂层技术改善零部件概况的机械性能和磨擦学性能是21世纪概况工程范畴重要的研究方向之一.超硬薄膜是指维氏硬度在40GPa以上的硬质薄膜.到今朝为止,主要有以下几种超硬薄膜:1 金刚石薄膜金刚石薄膜的硬度为50~100GPa(与晶体取向有关),从20世纪80年月初开端,一直受到世界各国的广泛重视,并曾于20世纪80年月中叶至90年月末形成了一个全球范围的研究热潮.金刚石膜所具有的最高硬度、最高热导率、极低磨擦系数、很高的机械强度和杰出化学稳定性的优异性能组合使其成为最抱负的工具和工具涂层资料.金刚石薄膜在磨擦学范畴应用的突出问题,就是在载荷条件下薄膜与基体之间的粘附强度以及薄膜自己的粗糙度问题,今朝,己经有针对性地展开了大量的研究工作.随着研究工作的不竭深入,金刚石薄膜将会为整个人类社会带来宏大的经济效益.2 立方氮化硼(c-BN)薄膜立方氮化硼(c-BN)薄膜的硬度为50~80GPa,它具有与金刚石相近似的晶体布局,其物感性能也与金刚石十分相似.与金刚石相比,c-BN的显著优点是具有杰出的热稳定性和化学稳定性,适用于作为超硬刀具涂层,特别是用于加工铁基合金的刀具涂层.3 碳氮膜碳氮膜是新近开辟的超硬薄膜资料,实际预测它具有达到和超出金刚石的硬度.已有的研究标明CNx薄膜的硬度可高达72GPa,可与DLc 相比较.同时CNx薄膜具有十分独特的磨擦磨损特性.在空气中,CNx薄膜的磨擦系数为0.2-0.4,但在N2、C02和真空中的磨擦系数为0.01~0.1.在N2气氛中的磨擦系数最小(0.01),在大气环境中向实验区域吹氮气,也可将其磨擦系数降至0.017.因此,CNx薄膜有望在磨擦磨损范畴获得实际应用.4 类金刚石薄膜类金刚石膜(DLC)是一大类在性质上和金刚石近似,具有sp2和sp3杂化的碳原子空间网络布局的非晶碳膜.与组分相关的硬度可从20GPa变更至80GPa.类金刚石碳膜作为新型的硬质薄膜资料具有一系列优异的性能,如高硬度、高耐磨性、高热导率、高电阻率、杰出的光学透明性、化学惰性等,可广泛用于机械、电子、光学、热学、声学、医学等范畴,具有杰出的应用前景.DLC的主要缺点是:(a)内应力很大,因此薄膜厚度受到限制,一般只能达到1um~2um以下;(b)热稳定性较差,含氢的a:C-H薄膜中的氢在400℃左右就会逐渐逸出,sp2键增加,sp3键降低,在大约500℃以上就会转变成石墨.5 纳米复合多层膜纳米多层膜是一种人为可控的一维周期布局,这种布局可以有效地调整薄膜中的位错和缺陷及其运动,从而获得高硬度、高模量等性能,近期有关多层膜的研究报导较多,其中以金属/氮化物(碳化物,硼化物等)多层膜和氮化物/氮化物多层膜的研究占多数.最近,纳米晶粒复合的TIN/SINx薄膜资料的硬度达到了创记录的105GPa,可以说完全达到了金刚石的硬度.以纳米厚度薄膜交替沉积获得的纳米复合多层膜的硬度与每层薄膜的厚度(调制周期)有关,有能够高于每种组分的硬度.纳米复合多层膜不但硬度很高,而且涂层的韧性和抗裂纹扩大才能得到了显著改善,磨擦系数也较小,因此是抱负的工模具涂层资料.它的出现向金刚石作为最硬资料的地位提出了严峻的挑战,同时在经济性上也有十分分明的优势,因此具有非常好的市场前景.但是,由于一些技术问题还没有得到处理,今朝暂时还未在工业上得到广泛应用.二、类金刚石薄膜简介类金刚石(Diamond-like Carbon,简称DLC)资料是碳的非晶亚稳态布局存在形式之一,是人工合成的含有sp3和sp2键碳混杂的非晶亚稳态布局.迄今为止,人们发现的由纯碳组成的晶体有3种:金刚石、石墨和最近被发现并引起广泛关注的具有笼状布局的布基球和布基碳管.布局分歧造成三者的性质表示出较大的差别.石墨中的碳原子通过sp2杂化形成3个共价σ键,并与其他碳原子毗连成六元环形的蜂窝平面层状布局.在层中碳原子的配位数为3,别的每个碳原子还有一个垂直于层平面的p轨道电子,它们互相平行,形成离域π电子而贯穿于全层中,层中每两个相邻碳原子间的键长0.142nm,层与层之间由分子力连系,间距0.34nm,远大于C-C键长,所以石墨有杰出的导电、导热和润滑特性;金刚石中每个碳原子停止sp3杂化形成4个σ键,构成正四面体,是典型的原子晶体,有硬度大、熔点高的特点,并具有优良的光学、声学、热学和电学特性.而含有sp3和sp2键碳混杂的非晶DLC,具有石墨和金刚石所共有的性能:硬度大、熔点高、杰出的导热、润滑特性,同时具有优良的光学、声学、热学和电学特性.紫外-可见光拉曼光谱(UVRS)测试标明DLC 薄膜确实具有石墨和金刚石混合布局.天然和人造金刚石晶体的Raman光谱峰位为1332cm-1的单峰,石墨晶体的Raman光谱峰位为1575cm-1,多晶石墨除1575cm-1峰外还有一个峰位于1355cm-1.1355cm-1峰的强度决议于样品中无机碳的含量及石墨晶粒的大小.而DLC薄膜不但则有一个在1560cm-1很强而且半高宽度很小的峰位,还有一个在1350cm-1~0.152nm,而石墨和金刚石的碳-碳原子的最近间隔分别为0.142和0.154nm.由于DLC薄膜制备方法(如PVD、CVD、PCVD 等)和采取碳原子的载体(如各种碳烷气、石墨等)分歧,所生成薄膜的碳原子键合方式(C-H,C-C)与碳原子之间的键合方式(有sp2和sp3)及各种键合方式的比例也分歧.因此DLC薄膜可分为非晶碳膜和含氢非晶碳膜.而非晶碳膜的成分、布局、性能也相差较大,但共同点是空间布局上长程无序而短程有序、由大量sp3和少量sp2碳原子键合的一种网状碳布局.研究标明,DLC薄膜的性质与持续的、无规则的sp3骨架的摆列及sp3/sp2的比例等都有关,DLC膜的物理、化学、力学和电子学等性能由其布局决议.三、类金刚石薄膜的制备DLC薄膜的制备方法分为物理物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)两大类.在此基础上,今朝己经发展出基于物理物理气相沉积和化学气相沉积以及二者连系的多种DLC薄膜制备方法.PVD方法主要有:离子束辅助沉积法,溅射沉积法,离子束沉积法,真空阴极电弧沉积法等.CVD方法主要有:直流辉光放电等离子体化学气相沉积法、射频辉光放电等离子体化学气相沉积法、电子回旋共振化学气相沉积法、脉冲激光沉积法等.与其他方法相比,磁过滤阴极真空弧沉积方法具有阴极资料离化率高、沉积离子能量可大范围调节、沉积温度低及沉积速率高等优点,被证明是制备高硬度涂层的非常优秀的方法之一,在近十年来得到广泛研究.先进的镀膜技术为沉积超硬薄膜提供了技术包管,完善的镀膜设备功能是包管超硬薄膜资料质量的基础.超硬薄膜资料是资料迷信与工程中蓬勃发展的范畴,只有在实际中得到应用才干增强它的生命力.四、类金刚石膜的应用类金刚石薄膜具有较高的硬度,化学惰性,低磨擦系数,优异的耐磨性,表面电阻高,在可见光区的透射率高.类金刚石膜作为呵护膜已经运用到许多范畴:光学窗口、磁盘和微机电系统(MEMS)等,详细的应用如下:1机械范畴的应用由于其具有高的硬度、低磨擦系数(尤其是在超高真空条件下)以及杰出的导热性,可使机械零件在没有冷却和润滑的情况下运转,而不至于导致过高的温度,因此作为耐磨涂层在磨擦学范畴具有宏大的应用前景.类金刚石膜作为耐磨硬质膜在太空中的应用研究也已经展开.由于其较低的磨擦系数,可较好地使用在高温,高真空等不适于液体润滑的情况以及有清洁要求的环境中.类金刚石作为轴承、齿轮、活塞等易损机件的抗磨损镀层尤其是作为刃具、量具概况的耐磨涂层是十分合适的.类金刚石薄膜用作刀具涂层,能提高刀具寿命和刀具边沿的硬度,减少刃磨时间,节俭成本.类金刚石薄膜用作量具概况涂层,不至于使其改变尺寸和划伤概况,减少标定时间.它还具有杰出的化学稳定性,防止酸碱及有机溶液侵蚀,适用于化工机械部和多种装饰件的镀层.2光学范畴的应用①红外窗口的抗磨损呵护层和反射层:类金刚石膜在整个红外波段范围具有杰出的透明特性.由于薄膜硬度高,耐磨性好,使其可以作为支撑红外窗口或作为ZnS、ZnSe等红外窗口的呵护涂层.朱昌等人发现对NaCl晶体镀类金刚石薄膜做呵护层,既不影响10.6um激光输出功率,又可以防止NaCl潮解,能延长红外窗口的使用寿命;②发光资料:类金刚石膜具有杰出的光学透过性以及室温生长的特点,因此类金刚石膜可以作为由塑料和聚碳酸脂等低熔点资料组成的光学透镜概况的抗磨损呵护层.类金刚石膜光学带隙范围宽,室温下光致发光和电致发光率都很高,能在整个可见光范围发光,这使得类金刚石膜成为性能极佳的发光资料之一;③存储资料:V.Yn Armeyer等人实验发现在硅玻璃基片上沉积厚度为100nm的类金钢石薄膜的光学存储信号密度可高达108bits/㎝2数量级,而且具有信噪比高,硬度高,化学稳定性强以及无需再加呵护层等优点,因此有希望成为一次性写入记录介质;④太阳能光-热转换层:在铝基片概况沉积分歧厚度的单层类金刚石膜、硅及锗涂层后,通过比较各自的性能发现单层类金刚石膜的光热转换效率最高.3医学范畴的应用作为一种种植资料,类金刚石膜具有广泛的应用前景.如:在聚乙烯的人工股骨关节头上镀一层类金刚石膜,其抗磨损性能可以与镀陶瓷和金属制品相比;镀有Ti/DLC多层膜的钛制人工心脏瓣膜,由于其具有疏水性和光滑概况,也取得了较好的效果;在用于骨科内固定机械的Ti-Ni形状记忆合金,镀一层类金刚石膜,使其具有杰出的抗氧化性以及杰出的生物学磨擦特性.在人造牙根上镀制一层类金刚石膜可以改善其生物相容性.4电子范畴的应用~3.8之间的DLC膜和介电常数小于2.3的FDLC膜.对于BEOL互联布局,低K值的DLC膜是很好的选择.采取碳膜和类金刚石膜交替出现的多层布局可构造具有共振隧道效应的多量子阱布局,具有独特的电特性,在微电子范畴有很大的发展前途.结论类金刚石膜(DLC).由于该膜在力学、热学、电学、化学、光学等方面具有优异的性能,且制备简单、成本低廉,较之于金刚石薄膜具有较高的性能价格比,且在相当广泛的范畴里可以代替金刚石薄膜,在机械、电子、化学、医学、军事、航空航天等范畴体现了其广阔的应用前景.参考文献[1] 吴大维. 硬质薄膜资料的最新发展及应用.真空. 2003[2] 吕反修. 超硬资料薄膜涂层研究停顿及应用. 热处理. 2004[3] 陈灵,刘正义,邱万奇等. 类金刚石膜的制备及其影响因素. 中国概况工程. 2002 [4] 程宇航等. 类金刚石膜布局的红外分析.硅酸盐学报,1998(4),26[5]李振军,徐洮,李红轩[6] 刘成龙,杨大智等.医用不锈钢概况沉积类金刚石薄膜的电化学腐蚀性能研究. 硅酸盐学报. 2005(5)[7]杨玉卫,刘慧舟等.类金刚石膜的性能、制备及应用.[9] 黄立业,徐可为,吕坚. 类金刚石薄膜的概况纳米划擦性能评价. 无机资料学报.2001(5)[10]罗崇泰. 类金刚石薄膜的获得和应用. 真空与低温. 1987(1)[11]王淑占,李合琴,巫邵波,赵之明,宋泽润. 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我国类金刚石薄膜主要制备技术及研究现状

• 5.医疗设备和器具:手术刀片,手术剪, 心脏瓣膜,人工关节,血管支架。 • 6.内燃机工业:燃料喷射系统(气门挺杆, 柱塞,喷油嘴),动力传动系统(齿轮 轴 承 凸轮轴),活塞部件(活塞环,活塞 销),门扣锁,内饰。 • 7.娱乐健身:扬声器振膜,移动硬盘,光 盘,高尔夫球具,自行车部件,剃须刀片。 • 8.光学:红外增透膜,减反射膜,玻璃镀 膜,镜片镀膜,亚克力镀膜,保护膜。 • 9.装饰镀膜:手机外壳,高档手表,室内 外五金卫浴产品,饰品。 • 10.航空航天 :飞机,导弹整流罩镀膜, 卫星,太阳能电池镀膜。
激光法制备DLC膜的发展趋势
• DLC膜的沉积方法可分为物理沉积法和 化学沉积法两大类。化学沉积法已十分成 熟,但由于化学法沉积的DLC膜必然含氢, 导致膜层化学稳定性、热稳定性、硬度、 附着力较差。此外,化学法均需要在高温 下(>400oC)沉积,对于不耐高温的材料(如 玻璃、硫化锌等)无法在上面镀DLC膜;对 于耐高温的材料,虽然化学法可以镀膜, 但由于DLC膜热膨胀系数很小,和衬底热膨 胀系数差异大,沉积完成后,膜内部会产 生较大的热应力,甚至导致薄膜起皮、剥 落。因此,世界各国近年来都在积极开展 可以制备无氢DLC膜的物理沉积法研究。
我国类金刚石薄膜主要制备技 术及研究现状
汇报人:王培东 指导老师:胡鹏飞
主要内容
一、类金刚石薄膜介绍 二、类金刚石薄膜制备技术 三、类金刚石薄膜应用 四、类金刚石薄膜应用展望
一、类金刚石薄膜介绍
• 类金刚石薄膜(DiamondLike Carbon)是金刚石 的sp3杂化和石墨sp2杂 化两种结合键作为骨架 构成的非晶态碳膜,简 单地讲,由纳米级的金 刚石和碳混合形成,金 刚石占20%-80%。由sp3 结合的金刚石和sp2结合 的石墨与H(氢)组成的三 元相图右图:
DLC(类金刚石膜层介绍)

RF or DC power supply
Cathode
Permanent magnets
N
SS
+E
N
Ring Electrode
Negative Glow Plasma
Sputtered atoms
Work piece
Ar+ 离子轰击靶材表面。
Al 原子自靶材表面溅射并沉积到塑料基 体表面。
– 通过施加一定的偏压, 使得等离子中 的离子获得一定的能量, 层积于基体 表面,
PVD (磁控溅射)
CVD (PECVD)
FCVA
镀膜粒子 能量峰值 镀膜气压 镀膜温度
原子 ~0.1eV 5E-3 Torr ~200 ºC
原子团 ~0.2eV 1E-2 Tor >200 ºC
离子 20 to 5000eV 1E-6 Torr <80 ºC
以碳膜为例:
膜层密度 (g/cm3) 膜层硬度 (GPa) 氢含量 工作温度 (无 O2) 工作温度 (有 O2)
(2)纳峰的主要业务: 采用FCVA技术, 制备和沉积C材料, 以获得最优良的DLC (taC)薄膜.
2. DLC (Diamond Like Carbon(DLC) 类金刚石碳膜
DLC 结构
Diamond
Graphite
DLC
Diamond structure (sp3)
Graphite structure (sp2)
1. 表面处理技术介绍
常规 真空层积
化 学 气 相 层 积
物 理 气 相 层 积
FCVA (阴极过滤弧) 真空镀膜
膜层(表面原子排列)有序可控 原子排练致密,
膜层(表面原子排列)有序可控
金刚石薄膜的性质、制备及应用

金刚石薄膜的性质、制备及应用金刚石薄膜因其独特的物理、化学性质而备受。
作为一种具有高硬度、高熔点、优良光学和电学性能的材料,金刚石薄膜在许多领域具有广泛的应用前景。
本文将详细探讨金刚石薄膜的性质、制备方法以及在各个领域中的应用,旨在为相关领域的研究提供参考和借鉴。
金刚石薄膜具有许多优异的物理和化学性质。
金刚石是已知的世界上最硬的物质,其硬度远高于其他天然矿物。
金刚石的熔点高达3550℃,远高于其他碳材料。
金刚石还具有优良的光学和电学性能。
其透明度较高,可用于制造高效光电设备。
同时,金刚石具有优异的热导率和电绝缘性能,使其在高温和强电场环境下具有广泛的应用潜力。
制备金刚石薄膜的方法主要有物理法、化学法和电子束物理法等。
物理法包括热解吸和化学气相沉积等,可制备高纯度、高质量的金刚石薄膜。
化学法主要包括有机化学气相沉积和溶液法等,具有沉积速率快、设备简单等优点。
电子束物理法是一种较为新兴的方法,具有较高的沉积速率和良好的薄膜质量。
各种方法的优劣和适用范围因具体应用场景而异,需根据实际需求进行选择。
光电领域:金刚石薄膜具有优良的光学性能,可用于制造高效光电设备。
例如,利用金刚石薄膜制造的太阳能电池可将更多的光能转化为电能。
金刚石薄膜还可用于制造高品质的激光器、光电探测器和光学窗口等。
高温领域:金刚石的熔点高达3550℃,使其在高温环境下具有广泛的应用潜力。
例如,金刚石薄膜可应用于高温炉的制造,提高炉具的耐高温性能和加热效率。
金刚石薄膜还可用于制造高温传感器和热电偶等。
高压力领域:金刚石具有很高的硬度,使其在高压环境下保持稳定。
因此,金刚石薄膜可应用于高压设备的制造,如高压泵、超高压测试仪器等。
金刚石薄膜还可用于制造高精度的光学镜头和机械零件等。
本文对金刚石薄膜的性质、制备及应用进行了详细的探讨。
作为一种具有高硬度、高熔点、优良光学和电学性能的材料,金刚石薄膜在光电、高温、高压力等领域具有广泛的应用前景。
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学科前沿知识讲座论文类金刚石薄膜的性能与应用摘要:类金刚石膜(Diamond-like Carbon)简称DLC,是一类性质类似于金刚石如具有高硬度、高电阻率、耐腐蚀、良好的光学性能等,同时其又具有自身独特摩擦学特性的非晶碳膜。
作为功能薄膜和保护薄膜,其广泛应用于机械、电子、光学、医学、航天等领域中。
类金刚石膜制备方法比较简单,易实现工业化,具有广泛的应用前景。
关键词:超硬材料类金刚石薄膜制备气象沉积表面工程技术引言磨损是工程界材料功能失效的主要形式之一,由此造成的资源、能源的浪费和经济损失可用“巨大”来表示。
然而,磨损是发生于机械设备零部件表面的材料流失过程,虽然不可避免,但若采取得力措施,可以提高机件的耐磨性。
材料表面工程主要是利用各种表面改性技术,赋予基体材料本身所不具备的特殊的力学、物理或化学性能,如高硬度、低摩擦系数、良好的化学及高温稳定性、理想的综合机械性能及优异的摩擦学性能,从而使零部件表面体系在技术指标、可靠性、寿命和经济性等方面获得最佳效果。
硬质薄膜涂层因能减少工件的摩擦和磨损,有效提高表面硬度、韧性、耐磨性和高温稳定性,大幅度提高涂层产品的使用寿命,而广泛应用于机械制造、汽车工业、纺织工业、地质钻探、模具工业、航空航天等领域。
一、超硬薄膜材料随着材料科学和现代涂层技术的发展,应用超硬材料涂层技术改善零部件表面的机械性能和摩擦学性能是21世纪表面工程领域重要的研究方向之一。
超硬薄膜是指维氏硬度在40GPa以上的硬质薄膜。
到目前为止,主要有以下几种超硬薄膜:1 金刚石薄膜金刚石薄膜的硬度为50~100GPa(与晶体取向有关),从20世纪80年代初开始,一直受到世界各国的广泛重视,并曾于20世纪80年代中叶至90年代末形成了一个全球范围的研究热潮。
金刚石膜所具有的最高硬度、最高热导率、极低摩擦系数、很高的机械强度和良好化学稳定性的优异性能组合使其成为最理想的工具和工具涂层材料。
金刚石薄膜在摩擦学领域应用的突出问题,就是在载荷条件下薄膜与基体之间的粘附强度以及薄膜本身的粗糙度问题,目前,己经有针对性地开展了大量的研究工作。
随着研究工作的不断深入,金刚石薄膜将会为整个人类社会带来巨大的经济效益。
2 立方氮化硼(c-BN)薄膜立方氮化硼(c-BN)薄膜的硬度为50~80GPa,它具有与金刚石相类似的晶体结构,其物理性能也与金刚石十分相似。
与金刚石相比,c-BN的显著优点是具有良好的热稳定性和化学稳定性,适用于作为超硬刀具涂层,特别是用于加工铁基合金的刀具涂层。
3 碳氮膜碳氮膜是新近开发的超硬薄膜材料,理论预测它具有达到和超过金刚石的硬度。
已有的研究表明CNx薄膜的硬度可高达72GPa,可与DLc相比拟。
同时CNx薄膜具有十分独特的摩擦磨损特性。
在空气中,CNx薄膜的摩擦系数为0.2-0.4,但在N2、C02和真空中的摩擦系数为0.01~0.1。
在N2气氛中的摩擦系数最小(0.01),在大气环境中向实验区域吹氮气,也可将其摩擦系数降至0.017。
因此,CNx薄膜有望在摩擦磨损领域获得实际应用。
4 类金刚石薄膜类金刚石膜(DLC)是一大类在性质上和金刚石类似,具有sp2和sp3杂化的碳原子空间网络结构的非晶碳膜。
与组分相关的硬度可从20GPa变化至80GPa。
类金刚石碳膜作为新型的硬质薄膜材料具有一系列优异的性能,如高硬度、高耐磨性、高热导率、高电阻率、良好的光学透明性、化学惰性等,可广泛用于机械、电子、光学、热学、声学、医学等领域,具有良好的应用前景。
DLC的主要缺点是:(a)内应力很大,因此薄膜厚度受到限制,一般只能达到1um~2um以下;(b)热稳定性较差,含氢的a:C-H薄膜中的氢在400℃左右就会逐渐逸出,sp2键增加,sp3键降低,在大约500℃以上就会转变为石墨。
5 纳米复合多层膜纳米多层膜是一种人为可控的一维周期结构,这种结构可以有效地调整薄膜中的位错和缺陷及其运动,从而获得高硬度、高模量等性能,近期有关多层膜的研究报道较多,其中以金属/氮化物(碳化物,硼化物等)多层膜和氮化物/氮化物多层膜的研究居多。
最近,纳米晶粒复合的TIN/SINx薄膜材料的硬度达到了创记录的105GPa,可以说完全达到了金刚石的硬度。
以纳米厚度薄膜交替沉积获得的纳米复合多层膜的硬度与每层薄膜的厚度(调制周期)有关,有可能高于每一种组分的硬度。
纳米复合多层膜不仅硬度很高,而且涂层的韧性和抗裂纹扩展能力得到了显著改善,摩擦系数也较小,因此是理想的工模具涂层材料。
它的出现向金刚石作为最硬材料的地位提出了严峻的挑战,同时在经济性上也有十分明显的优势,因此具有非常好的市场前景。
但是,由于一些技术问题还没有得到解决,目前暂时还未在工业上得到广泛应用。
二、类金刚石薄膜简介类金刚石(Diamond-like Carbon,简称DLC)材料是碳的非晶亚稳态结构存在形式之一,是人工合成的含有sp3和sp2键碳混杂的非晶亚稳态结构。
迄今为止,人们发现的由纯碳组成的晶体有3种:金刚石、石墨和最近被发现并引起广泛关注的具有笼状结构的布基球和布基碳管。
结构不同造成三者的性质表现出较大的差异。
石墨中的碳原子通过sp2杂化形成3个共价σ键,并与其他碳原子连接成六元环形的蜂窝平面层状结构。
在层中碳原子的配位数为3,另外每个碳原子还有一个垂直于层平面的p轨道电子,它们互相平行,形成离域π电子而贯穿于全层中,层中每两个相邻碳原子间的键长0.142nm,层与层之间由分子力结合,间距0.34nm,远大于C-C键长,所以石墨有良好的导电、导热和润滑特性;金刚石中每个碳原子进行sp3杂化形成4个σ键,构成正四面体,是典型的原子晶体,有硬度大、熔点高的特点,并具有优良的光学、声学、热学和电学特性。
而含有sp3和sp2键碳混杂的非晶DLC,具有石墨和金刚石所共有的性能:硬度大、熔点高、良好的导热、润滑特性,同时具有优良的光学、声学、热学和电学特性。
紫外-可见光拉曼光谱(UVRS)测试表明DLC薄膜确实具有石墨和金刚石混合结构。
天然和人造金刚石晶体的Raman光谱峰位为1332cm-1的单峰,石墨晶体的Raman光谱峰位为1575cm-1,多晶石墨除1575cm-1峰外还有一个峰位于1355cm-1。
1355cm-1峰的强度决定于样品中无机碳的含量及石墨晶粒的大小。
而DLC 薄膜不仅则有一个在1560cm-1很强并且半高宽度很小的峰位,还有一个在1350cm-1附近的半高宽度很大的弱峰位。
中子衍射实验表明,DLC膜中碳-碳原子的最近距离为0.151~0.152nm,而石墨和金刚石的碳-碳原子的最近距离分别为0.142和0.154nm。
由于DLC薄膜制备方法(如PVD、CVD、PCVD等)和采用碳原子的载体(如各种碳烷气、石墨等)不同,所生成薄膜的碳原子键合方式(C-H,C-C)与碳原子之间的键合方式(有sp2和sp3)及各种键合方式的比例也不同。
因此DLC薄膜可分为非晶碳膜和含氢非晶碳膜。
而非晶碳膜的成分、结构、性能也相差较大,但共同点是空间结构上长程无序而短程有序、由大量sp3和少量sp2碳原子键合的一种网状碳结构。
研究表明,DLC薄膜的性质与连续的、无规则的sp3骨架的排列及sp3/sp2的比例等都有关,DLC 膜的物理、化学、力学和电子学等性能由其结构决定。
三、类金刚石薄膜的制备DLC薄膜的制备方法分为物理物理气相沉积(PVD)和化学气相沉积(CVD)两大类。
在此基础上,目前己经发展出基于物理物理气相沉积和化学气相沉积以及两者结合的多种DLC薄膜制备方法。
PVD方法主要有:离子束辅助沉积法,溅射沉积法,离子束沉积法,真空阴极电弧沉积法等。
CVD方法主要有:直流辉光放电等离子体化学气相沉积法、射频辉光放电等离子体化学气相沉积法、电子回旋共振化学气相沉积法、脉冲激光沉积法等。
与其他方法相比,磁过滤阴极真空弧沉积方法具有阴极材料离化率高、沉积离子能量可大范围调节、沉积温度低及沉积速率高等优点,被证明是制备高硬度涂层的非常优秀的方法之一,在近十年来得到广泛研究。
先进的镀膜技术为沉积超硬薄膜提供了技术保证,完善的镀膜设备功能是保证超硬薄膜材料质量的基础。
超硬薄膜材料是材料科学与工程中蓬勃发展的领域,只有在实际中得到应用才能增强它的生命力。
四、类金刚石膜的应用类金刚石薄膜具有较高的硬度,化学惰性,低摩擦系数,优异的耐磨性,表面电阻高,在可见光区的透射率高。
类金刚石膜作为保护膜已经运用到许多领域:光学窗口、磁盘和微机电系统(MEMS)等,具体的应用如下:1机械领域的应用由于其具有高的硬度、低摩擦系数(尤其是在超高真空条件下)以及良好的导热性,可以使机械零件在没有冷却和润滑的情况下运转,而不至于导致过高的温度,因此作为耐磨涂层在摩擦学领域具有巨大的应用前景。
类金刚石膜作为耐磨硬质膜在太空中的应用研究也已经展开。
由于其较低的摩擦系数,可较好地使用在高温,高真空等不适于液体润滑的情况以及有清洁要求的环境中。
类金刚石作为轴承、齿轮、活塞等易损机件的抗磨损镀层尤其是作为刃具、量具表面的耐磨涂层是十分合适的。
类金刚石薄膜用作刀具涂层,能提高刀具寿命和刀具边缘的硬度,减少刃磨时间,节约成本。
类金刚石薄膜用作量具表面涂层,不至于使其改变尺寸和划伤表面,减少标定时间。
它还具有良好的化学稳定性,防止酸碱及有机溶液侵蚀,适用于化工机械部和多种装饰件的镀层。
2光学领域的应用①红外窗口的抗磨损保护层和反射层:类金刚石膜在整个红外波段范围具有良好的透明特性。
由于薄膜硬度高,耐磨性好,使其可以作为支撑红外窗口或作为ZnS、ZnSe等红外窗口的保护涂层。
朱昌等人发现对NaCl晶体镀类金刚石薄膜做保护层,既不影响10.6um激光输出功率,又可以防止NaCl潮解,能延长红外窗口的使用寿命;②发光材料:类金刚石膜具有良好的光学透过性以及室温生长的特点,因此类金刚石膜可以作为由塑料和聚碳酸脂等低熔点材料组成的光学透镜表面的抗磨损保护层。
类金刚石膜光学带隙范围宽,室温下光致发光和电致发光率都很高,能在整个可见光范围发光,这使得类金刚石膜成为性能极佳的发光材料之一;③存储材料:V.Yn Armeyer等人实验发现在硅玻璃基片上沉积厚度为100nm的类金钢石薄膜的光学存储信号密度可高达108bits/㎝2数量级,而且具有信噪比高,硬度高,化学稳定性强以及无需再加保护层等优点,因此有希望成为一次性写入记录介质;④太阳能光-热转换层:在铝基片表面沉积不同厚度的单层类金刚石膜、硅及锗涂层后,通过比较各自的性能发现单层类金刚石膜的光热转换效率最高。
3医学领域的应用作为一种种植材料,类金刚石膜具有广泛的应用前景。
如:在聚乙烯的人工股骨关节头上镀一层类金刚石膜,其抗磨损性能可以与镀陶瓷和金属制品相比;镀有Ti/DLC多层膜的钛制人工心脏瓣膜,由于其具有疏水性和光滑表面,也取得了较好的效果;在用于骨科内固定机械的Ti-Ni形状记忆合金,镀一层类金刚石膜,使其具有良好的抗氧化性以及良好的生物学摩擦特性。