硅片生产流程
半导体-硅片生产工艺流程及工艺注意要点.ea
硅片生产工艺流程及注意要点简介硅片的准备过程从硅单晶棒开始，到清洁的抛光片结束，以能够在绝好的环境中使用。
期间，从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。
除了有许多工艺步骤之外，整个过程几乎都要在无尘的环境中进行。
硅片的加工从一相对较脏的环境开始，最终在10级净空房内完成。
工艺过程综述硅片加工过程包括许多步骤。
所有的步骤概括为三个主要种类：能修正物理性能如尺寸、形状、平整度、或一些体材料的性能；能减少不期望的外表损伤的数量；或能消除外表沾污和颗粒。
硅片加工的主要的步骤如表1.1的典型流程所示。
工艺步骤的顺序是很重要的，因为这些步骤的决定能使硅片受到尽可能少的损伤并且可以减少硅片的沾污。
在以下的章节中，每一步骤都会得到详细介绍。
表1.1 硅片加工过程步骤1.切片2.激光标识3.倒角4.磨片5.腐蚀6.背损伤7.边缘镜面抛光8.预热清洗9.抵抗稳定——退火10.背封11.粘片12.抛光13.检查前清洗14.外观检查15.金属清洗16.擦片17.激光检查18.包装/货运切片〔class 500k〕硅片加工的介绍中，从单晶硅棒开始的第一个步骤就是切片。
这一步骤的关键是如何在将单晶硅棒加工成硅片时尽可能地降低损耗，也就是要求将单晶棒尽可能多地加工成有用的硅片。
为了尽量得到最好的硅片，硅片要求有最小量的翘曲和最少量的刀缝损耗。
切片过程定义了平整度可以根本上适合器件的制备。
切片过程中有两种主要方式——内圆切割和线切割。
这两种形式的切割方式被应用的原因是它们能将材料损失减少到最小，对硅片的损伤也最小，并且允许硅片的翘曲也是最小。
切片是一个相对较脏的过程，可以描述为一个研磨的过程，这一过程会产生大量的颗粒和大量的很浅外表损伤。
硅片切割完成后，所粘的碳板和用来粘碳板的粘结剂必须从硅片上去除。
在这去除和清洗过程中，很重要的一点就是保持硅片的顺序，因为这时它们还没有被标识区分。
激光标识(Class 500k)在晶棒被切割成一片片硅片之后，硅片会被用激光刻上标识。
硅片的生产工艺流程
硅片的生产工艺流程《硅片的生产工艺流程，可不简单哟》嘿，大家好呀！今天咱就来聊聊硅片的生产工艺流程，这可真不是一件简单的事儿呢！想象一下哈，从那其貌不扬的硅料到变成闪闪发光的硅片，就像是一场奇妙的变形记。
首先呢，得像挑选宝贝一样精心挑选硅料，这可不能随随便便，就好像你去买菜得挑新鲜的不是？然后就进入了融化的环节，这就像是在打造一个硅的“温泉浴场”，把硅料给融化成液体。
接下来那就是拉晶啦！这就好比是在“变魔法”，通过慢慢提拉，让硅液体形成一个又长又直的圆柱体，就像在拉面条一样，只不过这个“面条”可金贵着呢！而且这个过程可得非常小心，就像是走钢丝一样，不能有一点儿差错。
然后切成硅片，这咔嚓咔嚓的，可带劲了！但是可别以为切完就完事大吉了，还得经过各种精细的打磨和清洗呢。
这就像是给硅片做个高级SPA，把它们洗得干干净净、漂漂亮亮的，让它们能以最完美的姿态出现在大家面前。
在这整个过程中，工作人员们那可都得全神贯注，稍微打个盹儿都不行！他们就像是一群细心的园丁，小心翼翼地呵护着这些硅片“小花朵”。
而且啊，这每一步都得严格把控，稍有不慎，就可能导致前功尽弃，那损失可就大了去了。
我每次想到这硅片的生产工艺流程，就觉得特别神奇又有趣。
看着那些普通的硅料在经过这么多道工序后，能变成这么重要的硅片，真的不得不佩服科技的力量和人们的智慧。
咱用的手机、电脑等等高科技产品，可都离不开这些小小的硅片呀！所以说，可别小瞧了这生产工艺流程，它背后蕴含着无数人的努力和心血呢。
总的来说，硅片的生产工艺流程就像是一场精彩的演出，每一个步骤都是一个精彩的节目，只有大家齐心协力，才能演出成功。
希望我的分享能让大家对硅片的生产工艺流程有更深刻的认识和理解哟！哈哈，下次再见啦！。
硅片工艺流程的6个步骤
硅片工艺流程的6个步骤硅片可是个很神奇的东西呢，那它的工艺流程有哪6个步骤呀？第一步，原料准备。
这就像是做菜要先准备食材一样。
硅料可是硅片的主要原料，得把硅料准备得妥妥当当的。
这些硅料要经过严格的挑选，就像挑水果一样，得挑那些质量好的。
要是硅料质量不好，后面做出来的硅片肯定也不咋地啦。
第二步，硅料提纯。
这个步骤可重要啦。
硅料里面可能会有一些杂质，就像米饭里偶尔会有小石子一样讨厌。
要通过各种方法把这些杂质去掉，让硅料变得超级纯净。
只有纯净的硅料，才能做出高质量的硅片呢。
第三步，拉晶。
这一步就像是变魔术一样。
把提纯后的硅料变成硅棒。
这个过程中，温度啊、环境啊都要控制得特别精确。
就像烤蛋糕，火候不对就烤不好。
硅棒的质量直接影响到后面硅片的质量哦。
第四步，切割。
硅棒有了，就要把它切成一片片的硅片啦。
这可不是随便切切的，要切得又薄又均匀。
就像切土豆片一样，每一片都要薄厚合适。
这个切割技术要求可高了，切得不好的话，硅片可能就会有破损或者厚度不均匀的情况。
第五步，研磨和抛光。
切好的硅片表面可能不是那么光滑，这时候就需要研磨和抛光啦。
就像给硅片做个美容，让它的表面变得超级光滑。
这样在后续的使用中，硅片才能更好地发挥作用。
第六步，清洗和检测。
硅片做好了，可不能就这么直接用呀。
要把它洗得干干净净的，把切割、研磨、抛光过程中残留的东西都去掉。
然后还要进行检测，看看硅片有没有缺陷，就像检查一件刚做好的衣服有没有破洞一样。
只有检测合格的硅片，才能被用到各种高科技产品里面呢。
光伏单晶硅片制造流程
光伏单晶硅片制造流程光伏单晶硅片是太阳能电池板的关键组成部分，其制造流程非常复杂且精细。
下面将详细介绍光伏单晶硅片的制造流程。
光伏单晶硅片制造的第一步是原料准备。
制造单晶硅片所需的主要原料是高纯度的硅，通常采用冶炼金属硅的方法获得。
金属硅经过多次冶炼和精炼，去除杂质，提高纯度，最终得到高纯度的硅。
接下来，将高纯度的硅溶解在溶液中，形成硅溶液。
然后将硅溶液放入晶体生长炉中。
晶体生长炉是一个高温高压的环境，硅溶液在其中慢慢冷却结晶，形成单晶硅棒。
这个过程需要控制温度和压力，以确保硅棒的质量。
硅棒制备完成后，就需要对其进行切割。
将硅棒切割成薄片，即光伏单晶硅片。
切割过程需要使用专业的切割机器，并且要保持切割时的温度和压力稳定。
切割出来的硅片要求表面光滑、无裂纹，并且尺寸要符合要求。
切割完成后，光伏单晶硅片需要进行抛光和清洗。
抛光是为了去除硅片表面的杂质和瑕疵，使其表面更加平整。
清洗是为了去除切割和抛光过程中产生的污染物，确保硅片的纯净度。
接下来，需要对光伏单晶硅片进行掺杂。
掺杂是为了改变硅片的电子性质，使其能够产生电流。
通常使用磷或硼等元素进行掺杂，将其掺入硅片中，形成P型或N型硅片。
掺杂完成后，还需要对光伏单晶硅片进行光刻和蚀刻。
光刻是利用光刻胶和掩模将图案投射到硅片上，形成具有特定结构的光伏单晶硅片。
蚀刻是利用化学溶液将硅片表面的一部分蚀刻掉，形成特定的结构和形状。
对光伏单晶硅片进行电极制备和封装。
电极是将导电材料（如银）涂覆在硅片的两面，形成正负极。
封装是将硅片与玻璃、背板等材料层层封装起来，形成太阳能电池板的最终产品。
总结起来，光伏单晶硅片的制造流程包括原料准备、硅棒生长、切割、抛光清洗、掺杂、光刻蚀刻、电极制备和封装等多个步骤。
每个步骤都需要精细的操作和严格的控制，以确保光伏单晶硅片的质量和性能达到要求。
光伏单晶硅片的制造是光伏产业的重要环节，也是推动可再生能源发展的关键技术之一。
半导体工艺流程和制造工艺管理制度
半导体工艺流程和制造工艺管理制度一、引言半导体工艺流程和制造工艺管理制度是半导体制造过程中的重要环节。
本文将介绍半导体工艺流程的主要步骤，以及制造工艺管理制度的重要性和实施方法。
二、半导体工艺流程1. 制备硅片硅片是半导体器件的基础材料，制备硅片的过程包括原材料清洗、去杂质处理、晶体生长、切割和抛光等步骤。
其中，晶体生长是关键步骤，通过在高温环境下将纯度极高的硅材料熔化，再逐渐降温结晶形成硅单晶。
2. 形成层形成层是在硅片表面沉积一层薄膜，用于制造器件的结构和电性传导。
常见的形成层材料包括二氧化硅、聚合物、金属等。
形成层的沉积方法有物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）等。
3. 光刻光刻是通过光刻胶和光罩来进行图案转移的关键步骤。
首先，在硅片上涂覆一层光刻胶，然后将光罩放置在光刻机上，通过曝光、显影等步骤，将光刻胶部分暴露，形成所需的图案。
4. 刻蚀和湿法清洗刻蚀是将光刻后暴露的硅片表面进行化学腐蚀或物理磨损，以去除不需要的材料。
刻蚀方法有干法刻蚀和湿法刻蚀等。
刻蚀后，需要进行湿法清洗，以去除残留的物质和杂质。
5. 金属沉积和电镀在半导体器件中，常常需要金属电极和导线来实现电信号的传导。
金属沉积和电镀是将金属材料沉积在硅片表面的过程，其中含有金属离子的溶液通过电解的方式，将金属沉积在所需的区域。
三、制造工艺管理制度1. 管理目标制造工艺管理制度的目标是确保半导体制造过程具有稳定的品质和高度的可重复性。
通过制定管理制度，可以规范操作流程，降低人为失误的风险，提高生产效率和产品质量。
2. 规范操作流程制造工艺管理制度要求制定详细的操作规程和标准，明确每一步骤的要求和流程。
操作人员必须按照规程进行操作，不得随意变动或省略步骤。
同时，要建立相应的记录和检查机制，确保操作的准确性和可追溯性。
3. 过程监控和控制制造工艺管理制度要求建立全面的过程监控和控制机制。
包括设备的参数监测、产品的质量抽样检验、环境条件的控制等。
半导体-硅片生产工艺流程及工艺注意要点
半导体-硅片生产工艺流程及工艺注意要点一、引言半导体产业是当今高科技产业中不可或缺的一环，而硅片作为半导体制造的重要材料之一，其生产工艺流程及注意要点显得尤为重要。
本文将就半导体-硅片的生产工艺流程及工艺注意要点进行详细介绍。
二、硅片生产工艺流程硅片生产工艺流程可以分为几个主要步骤，包括原料准备、单晶硅生长、硅片切割、晶圆清洗等过程。
1.原料准备原料准备是硅片生产的第一步，通常以硅粉为主要原料。
硅粉需经过精细处理，确保其纯度和质量达到要求。
2.单晶硅生长单晶硅生长是硅片生产的核心环节，通过气相、液相或固相生长方法，使硅原料逐渐形成完整的单晶结构。
3.硅片切割硅片切割是将单晶硅切割为薄片的过程，以便后续的加工和制作。
切割精度和表面光滑度直接影响硅片的质量。
4.晶圆清洗晶圆清洗是为了去除硅片表面的杂质和污染物，保持硅片表面的洁净度，以确保后续工艺的顺利进行。
三、工艺注意要点在硅片生产过程中，有一些注意要点需要特别重视，以确保硅片的质量和性能。
1.纯度控制硅片的制备要求非常高，必须保证硅原料的纯度达到一定标准，以避免杂质对硅片性能的影响。
2.工艺参数控制在硅片生产过程中，各个工艺环节的参数控制十分关键，包括温度、压力、时间等因素，要严格控制以保证硅片的质量稳定性。
3.设备保养硅片生产设备的保养和维护也是非常重要的一环，保持设备的稳定性和运行效率，可以有效提高硅片生产效率和质量。
4.环境监控硅片生产场所的环境条件也需要严格监控，包括温度、湿度、洁净度等因素，以确保硅片生产过程的正常进行。
四、结论通过本文对半导体-硅片生产工艺流程及工艺要点的介绍，我们可以看到硅片生产是一个复杂而又精细的过程，需要严格控制各个环节的参数和质量要求。
只有做好每一个细节，才能确保硅片的质量和稳定性，为半导体产业的发展做出贡献。
因此，加强对硅片生产工艺流程及工艺要点的研究与总结，提高技术水平和生产水平，对于我国半导体产业的发展具有重要的意义。
单晶硅切片工艺流程
单晶硅切片工艺流程
单晶硅是半导体制造中至关重要的材料，而单晶硅切片则是制造半导体芯片的首要材料之一。
单晶硅切片工艺流程是一个复杂而精细的过程，需要经过多道工序才能得到高质量的单晶硅切片。
下面将介绍一般单晶硅切片的工艺流程。
首先，制备单晶硅切片的工艺过程通常从硅矿石中提取硅元素开始。
硅矿石经过选矿、炼炉等工序，得到高纯度的硅块。
这些高纯度的硅块经过多次提纯，去除杂质，最终形成纯度极高的单晶硅棒。
接下来，得到的单晶硅棒需要通过拉单晶成形成圆柱形的单晶硅棒。
这个过程需要在高温高压的环境下进行，通过拉拔使硅棒逐渐变细变长，获得理想直径和长度的单晶硅棒。
随后，单晶硅棒被放入切割机中，进行切割工艺。
切割机能够将单晶硅棒切割成极薄的硅片，通常厚度在几十微米到几百微米之间。
这些切片将作为后续半导体制造工艺的基础材料。
在切割得到单晶硅切片后，需要进行表面处理工艺。
通常包括抛光和清洗。
抛光是为了消除表面缺陷和提高表面光洁度，以保证后续工艺的准确性和稳定性。
清洗则是为了去除表面杂质，确保单晶硅切片的纯净度。
最后，经过表面处理后的单晶硅切片将被检测和分级。
检测主要包括对切片尺寸、厚度、表面质量等进行检查，以保证产品符合要求。
分级则是根据检测结果将单晶硅切片分为不同等级，以供不同需求的半导体制造商选择使用。
总的来说，单晶硅切片的工艺流程涉及多个环节，每个环节都需要精密控制和高度专业技术。
只有经过严格的工艺流程控制和质量检测，才能获得优质的单晶硅切片，以应用于半导体产业的各个领域。
1。
硅片的制作流程及原理
硅片的制作流程及原理
硅片，也称为矽片，是指将高纯度的硅块切割而成的薄片状材料。
硅片在集成电路、太阳能电池等领域有着广泛的应用。
硅片的制作过程涉及到多个环节和原理，下面简单介绍其制作流程和原理：
1.原材料准备：硅片的制备主要依赖于高纯度多晶硅。
多晶硅是通过将冶金
硅在真空炉中加热、熔化，然后再通过高温还原法得到高纯度多晶硅。
得到的硅经过密封包装以防氧化，供后续工序使用。
2.硅块生长：这一步是将高纯度多晶硅在单晶炉中加热，通过拉伸和旋转的
方法，逐渐形成单晶硅棒。
这个过程中涉及到物理和化学原理，如结晶学、热力学等。
3.切割硅片：将单晶硅棒锯成薄片，通常每片厚度约为200-300微米。
这一
步通常使用金刚石锯片进行切割，涉及到机械和物理原理。
4.抛光和清洗：对切割好的硅片进行抛光和清洗，以去除表面杂质和损伤层，
提高硅片的表面质量和光学性能。
这个过程中涉及到化学和物理原理，如化学反应、物理摩擦等。
此外，硅片的制作过程中还涉及到很多具体的技术细节和工艺控制，如温度、压力、时间、气氛等参数的控制，以及各种设备和仪器的使用。
总结：硅片的制作流程及原理指的是将高纯度的多晶硅转化为单晶硅棒，再将其切割成薄片状材料的过程。
这个过程中涉及到多个环节和原理，包括原材料准备、硅块生长、切割、抛光和清洗等。
每个环节都有其特定的技术和原理，如结晶学、热力学、机械和物理原理等。
掌握这些原理和技术是保证硅片质量和性能的关键。
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硅片生产流程及主要设备
作为一种取之不尽的清洁能源，太阳能的开发利用正引起人类从未有过的极大关注。
商业化太阳能电池采用的是无毒性的晶硅，单晶和多晶硅电池的特点是光电转换效率高、寿命长且稳定性好。
硅片是晶体硅光伏电池加工成本中最昂贵的部分, 随着半导体制造技术的不断成熟完善，硅片制造成本不断降低。
硅片切割是太阳能光伏电池制造工艺中的关键部分,太阳能电池所用硅片的切割成本一直居高不下，要占到太阳能电池总制造成本的30％以上。
所以降低这部分的制造成本对于提高太阳能对传统能源的竞争力至关重要。
目前硅片的切割方法都是围绕如何减小切缝损失、降低切割厚度、增大切片尺寸及提高切割效率方面进行的。
1.工艺流程：硅锭（硅棒）--切块（切方）--倒角抛光--粘胶--切片--脱胶清洗--分选检验、包装
2．工艺简介
切块／切方:将硅锭或者硅棒切成适合切片的尺寸,一般硅锭切成25 块（主流）。
倒角抛光：将晶柱的圆面棱角研磨成符合要求的尺寸，对表面进行抛光处理，从而获得高度平坦的晶片。
粘胶：用粘附剂把晶柱固定在由铝板和玻璃板组成的夹具上，自然硬化或用恒温炉使其硬化。
切片：把晶柱切割成硅片，切割的深度要达到夹具上的玻璃板，
以便在之后的程序中把硅片和玻璃板分开。
脱胶清洗：用清水清洗切成的硅片，再用热水浸泡，使硅片与玻璃板分开。
分选检验包装：抽样检查厚度、尺寸、抗阻值等指标，全部检查破损、裂痕、边缘缺口，挑选出符合要求的硅片进行包装。
3．太阳能硅片切割方法
太阳能硅片切割方法主要有: 外圆切割、内圆切割和磨料线切割和电火花切割(WEDM )等。
80年代中期之前的硅片切割都是由外圆切割机床或者内圆切割机床完成的, 这两种切割方法在那时的研究已经达到了鼎盛时期, 相当多功能的全自动切片机相继商品化, 生产主要分布在瑞士、德国、日本、美国等地方。
90年中后期以来, 多线切割技术逐渐走向成熟,其切缝损失小、切割直径大、成片效率高、适合大批量硅片加工, 在国内外太阳
能电池的硅片切割上,得到广泛的应用。
WEDM 经过近半个世纪的发展, 技术已经十分成熟, 达到了相当高的工艺水平, 是一种非接触、宏观加工力很小的加工方式, 理论上采用WEDM 切割, 硅片的厚度可以达到很薄。
3．1外圆切割
外圆切割机主要有卧式和立式两种, 由主轴系统、冷却循环系统、工业机控制系统、电磁旋转工作台等组成, 其中主轴系统是它的核心系统, 刀片安装在主轴上面, 一般是在钢质圆片基体外圆部分电镀一层金刚石磨粒, 可以单刀切割或者多刀切割。
切割时由于刀片太薄容易产生变形和侧向摆动, 导致硅片的切缝较大(1 mm左右) , 晶面不平整, 且切割硅片的直径也不能太大(100 mm以内) 。
3．2内圆切割
内圆切割机与外圆切割机相类似,内圆切割时, 圆盘型刀片外圆张紧,利用内圆刃口边切割硅锭。
但它的刀片是在基体的内圆部分电镀一层金刚石磨粒,外圆部分有多个小孔, 安装固定在刀盘上面,通过刀盘上的专用机构张紧,刃部钢性得到增强,切割阻力及外力引起的对刃口的振动减小。
其刀片稳定性好、晶向可以调节、机床技术成熟、切割的硅片表面粗糙度小、切缝可以缩小到300μm左右,切割硅料直径主要为Φ150mm-200 mm，最大达到了Φ300 mm。
但由于刀片高速旋转会产生轴向振动，刀片与硅片的摩擦力增加，切割时会产生较大的残留切痕和微裂纹，损伤层深度可达20μm-30μm，切割结束时易出现硅片崩片边的现象。
3．3多线切割
多线切割也称为线锯，通常是利用一根表面镀铜的不锈钢丝 (直径80μm-200 μm，长600km-800 km)来回绕过导轮(有两轴、三轴或四轴几种)，保持20 N-30 N的张紧力，形成一排成百的锯带, 在导轮带动下以5 m/s-15 m/s的速度高速运转。
将含有粒度约10μm—25 μm的SiC或者金刚石磨料的粘性浆料带入硅棒切割区域，磨料滚压嵌入硅晶体形成三体磨料磨损从而产生切割作用。
它加工出硅片弯曲度(BOW)、翘曲度(WARP)、总厚度公差
(TTV)、切缝损失都很小，而且平行度(TAPER)好、表面损伤层浅。
其研究主要集中在切割机理、振动切割、切割方向、线张力、温度控制等方面，并已取得很好的成果，已成为直径大于200 mm 硅片切割的主流技术，切缝损失在150μm-210μm,硅片厚度可以达到100μm-200μm，损伤层深度15μm—25μm，但在表面会留下明显的线痕，同时金刚砂切磨硅材料时产生的切削力会对脆性硅材料表面产生冲击，同样使得大尺寸超薄硅片切割非常困难。
3．4电火花线切割
电火花线切割加工原理是利用工件和电极丝之间的脉冲性电火花放电，产生瞬间高温使工件材料局部熔化或气化，从而达到加工目的太阳能级硅晶体由于其掺杂浓度比较高，电阻率在 0.1 Ω·cm-10Ω·cm 范围内，利用WEDM 切割是比较适合的。
比利时鲁文大学采用低速走丝电火花线切割(WEDM-LS)技术进行了硅片切割研究，日本岡山大学采用WEDM进行了单晶硅棒切割加工研究，并研制了电火花线切割原理样机。
目前试验条件下电火花线切割硅片的厚度可以控制在120μm以内，这是传统加工方法根本无法达到的切割厚度，弯曲程度与多线切割结果相近；切割的钼丝直径250μm，切缝造成的硅材料损失大约280μm,与多线切割法得到的数值相当。
3．5几种切割方式的比较
内圆切割相对于外圆切割由于其刀片韧性较大，可以用来切割较
大直径的硅片；与多线切割比较优点是不需要供给砂浆、废弃物处理小、切片成本是它的1/3-1/4、每片可以进行晶向调整和厚度调整、小批量多规格加工，缺点是表面损伤较大、切缝损失大、生产效率低，是中小尺寸硅片小批量生产的主要方法。
从目前WEDM的切割试验来看，所获得的硅片总厚度变化和弯曲程度与多线切割结果几乎一样，而且其成本比多线切割低许多，将成为一种非常有竞争力的加工手段。
下表是这几种切割方法的比较。
4 主要设备介绍
4．1 切方机
切方机是用来对硅棒、硅锭进行切割的设备。
该设备目前在国内
已实现规模化生产，上海日进、上海汉虹、大连连城、北京京仪世纪等公司已有成熟的产品投入市场。
一条50MW的硅片生产线需要配1台切方机即可，国产设备价格为280万元左右。
4．2 多线切割机
多线切割机是目前市场上用于切片最主流，也是最先进的设备。
它的基本原理是通过一根高速运动的钢线带动附着在钢丝上的切割刃料对硅棒进行摩擦，从而将硅棒等硬脆材料一次同时切割为数千片薄片的一种切割加工方法。
多线切割由于其更高效、更小切割损失以及更高精度的优势，适用于切割贵重、超硬材料。
近十年来已取代传统的内圆切割成为硅片切割加工的主要方式。
在光伏行业切片领域，到2011年底国内市场基本被瑞士的HCT、MeyerBurger（梅耶博格）和日本的 NTC 所统治。
近年来国内设备厂家上海日进、电子集团 45 所、兰州瑞德、无锡开源、大连连城、北京京联发、湖南宇晶等也陆续推出了多线切割机样机。
从样机来看，技术原理和设计主要都是借鉴了日本的NTCMWM442D 机型的很多理念，样机基本属于小型机。
国内开发的多线切割机样机都面临着类似的问题，成品率低、断线率高、控制精度差等。
加上硅料价格高昂，客户尝试新机器的成本非常高，每次的损失可能动辄几万甚至几十万，这也是制约设备制造企业获得更多的生产性实验数据来改进设备的原因之一。
硅片的厚度对硅片成本的影响很大，如今市场上的硅片180um 和200um为主导，同时各企业正在不停地探索更薄硅片的切割工
艺。
目前国内小部分企业硅片的硅耗量已经达到 5.8g/w。
一条50MW 的硅片生产线需要配置 5～7台（单晶生产线所需切割机比多晶少）多线切割机，每台价格为200～400万元，国外同类产品的价格为500～600万元。
据估算，一条50MW的硅片生产线，设备总成本大概为2000～3000万元。